【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】フリッカの発生を低減した液晶装置を提供する。
【解決手段】素子基板２と対向基板３との間に液晶層４が挟持された液晶装置１において、素子基板２の液晶層４と対向する側の面には、少なくとも複数の画素電極１７と、これら複数の画素電極１７が形成された面上を覆う絶縁膜１８と、液晶層４を配向させる配向膜１９とが設けられ、対向基板３の液晶層４と対向する側の面には、少なくとも共通電極２０と、この共通電極２０が形成された面上を覆う絶縁膜２１と、液晶層４を配向させる配向膜２２とが設けられ、液晶層４と絶縁膜１８，２１との抵抗比が面内で均一となるように、液晶層４の厚みに応じて絶縁膜１８，２１のうち何れか一方又は両方の厚みを部分的に調整してなる。 （もっと読む）

【課題】表示不良および端面剥がれを低減することができる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶を介して対向配置される一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２のうち少なくとも一方の基板ＳＵＢ１に該基板の端面の近傍まで絶縁膜ＰＡＳ２が形成され、一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に液晶の封入かつ各基板同士を接着させるシール部ＳＬが形成され、シール部ＳＬに形成された液晶封入口１１から液晶が封入される液晶表示装置１００において、絶縁膜ＰＡＳは、シール部ＳＬのうち液晶封入口１１を形成する部分と重なる位置の絶縁膜ＰＡＳ２の端面から基板ＳＵＢ１の端面近傍まで延在した延在部１２を有し、延在部１２は、該延在部１２の厚み方向に直交する断面がシール部ＳＬの幅方向の中心を通る線に対して対称、かつシール部ＳＬの幅方向の幅が一対の基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２を貼り合わせて形成したシール部ＳＬの幅よりも小さく形成されている。 （もっと読む）

【課題】製造コストを削減するとともに歩留まりを向上し、かつプロセス設計が容易である液晶表示装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶表示装置１において、半導体層ＡＳＩと半導体層ＡＳＩの面に形成された金属層Ｍとの積層部分であり、かつ画素電極ＭＩＴの面に重なる部分である重なり部５０を含むソース電極ＳＤ２と、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなる映像信号線ＤＬと、金属層Ｍおよび半導体層ＡＳＩの積層部分からなるドレイン電極ＳＤ１とが形成され、前記第２の絶縁層ＰＡＳ２は、ソース電極ＳＤ２の面から重なり部５０の端部を通じて画素電極ＭＩＴの面につながる部分であるつなぎ部６０を露出させる開口部ＴＨが形成され、開口部ＴＨによって露出されたつなぎ部６０に共通電極ＣＴに形成される導体膜７０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の低下を抑制できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置１は、画素電極218と共通電極216とは、平面視してＸ方向に沿って交互に配置されており、絶縁部材217は、画素電極218側の第１面217ａ
と、第１基体21の第１主面21ａ側の、Ｘ方向における両端が第１面217ａの両端に比べて
内側に位置している第２面217ｂとを有しており、画素電極218は、絶縁部材217の第１面217ａを被覆しているとともに、平面視してＸ方向における両端部が隣り合う共通電極216
に重なっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるガスバリア層を有するガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、少なくとも１層のポリシラザンを含有するガスバリア層を有し、かつ、該ガスバリア層は、それぞれ、１００〜２００ｎｍの波長成分を含む真空紫外線を照射することにより表面側が改質されている（改質部分）ガスバリアフィルムであって、少なくとも最上層に該ガスバリア層を有し、更に、該最上層のガスバリア層の改質部分を、前記真空紫外線によって温度８０℃、積算光量３０００ｍＪ／ｃｍ^２で追加処理を行った際、該改質部分の膜厚変化が０ｎｍ〜１０ｎｍであることを特徴とするガスバリアフィルム及び有機電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】画素電極表示板、液晶表示板アセンブリ、及びこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示板アセンブリは、共通電極を含む上部表示板と、共通電極と向かい合う複数の画素を含む下部表示板と、画素の各々に含まれ、相互に離隔した第１及び第２の領域と、第１及び第２の領域の第１及び第２の副画素と、第１の副画素に含まれ、上部表示板又は下部表示板に取り付けられた偏光子の偏光軸に対して第１の角度方向に配列され、第１の角度方向に実質的に垂直方向に離隔した複数の第１の微細ブランチを含む第１の副画素電極と、第２の副画素に含まれ、偏光子の偏光軸に対して第２の角度方向に配列され、第２の角度方向は、実質的に２０°内で第１の角度方向と異なり、第２の角度方向に実質的に垂直方向に離隔した複数の第２の微細ブランチを含む第２の副画素電極と、上部表示板と下部表示板間に介在する液晶層とを含む。 （もっと読む）

【課題】耐水性が高い耐久性に優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に無機配向膜を備える液晶表示装置であって、前記無機配向膜の表面に化学結合させて結合されたシランカップリング剤を主体とするナノ重合薄膜を形成した。 （もっと読む）

【課題】液晶注入口に相当する領域だけを簡便な手段により、選択的に装飾層である撥水層を除去し、確実な液晶封止方法を提供する。
【解決手段】対向する一対の基板間に挟持された液晶層を備え、少なくとも一方の前記基板の前記液晶層の側の表面に有機配向層を結合した無機配向膜を備える液晶表示装置の、前記基板の前記有機配向層の除去領域にエネルギー線を照射し、前記有機配向層を除去する液晶表示装置の製造方法であって、前記除去領域に対応する開口部を備え、前記開口部の前記液晶表示装置の表示部との境界線に直交する方向の開口長さの５倍以上の板厚を有するマスクを前記基板面に対向配置し、エネルギー線を照射する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】フリッカ現象や焼き付き現象を抑制できる液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置２は、第１基板１６に設けられた第１配向膜６０と、第２基板１８に設けられた第２配向膜４８と、第１配向膜６０と第２配向膜４８との間に挟持された液晶層４０と、第１基板１６に設けられ、液晶層４０に電界を印加して液晶層４０を調光駆動するための第１電極３６及び第２電極３８と、電界が発生する第１電極３６及び第２電極３８の各界面に設けられた第１絶縁膜９２と、第１基板１６に設けられ、画素スイッチング素子３４の表面を被覆する第２絶縁膜５８と、を含み、第１電極３６は、第２電極３８と同一の材料で構成され、第２配向膜４８は、第１配向膜６０よりも比抵抗が高い材料で構成され、第１配向膜６０は、第１絶縁膜９２よりも比抵抗が高い材料で構成され、第１絶縁膜９２は、第２絶縁膜５８よりも比抵抗が低い材料で構成されている。 （もっと読む）

【課題】膜欠陥の数が十分に少なく、従って、信頼性が十分に高く、また、製造が簡便で効率的なアクティブマトリックス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】スイッチング素子が形成された、水との接触角が２０°以下である表面部分を少なくとも一部に有する基板に、該スイッチング素子の有機保護膜を形成する工程（有機保護膜形成工程）を有する、アクティブマトリックス基板の製造方法。基板上にスイッチング素子を形成する工程（スイッチング素子形成工程）及び、これに引き続く少なくとも１回の、該スイッチング素子が形成された基板表面の少なくとも一部の水との接触角を２０°以下に調整する工程（接触角調整工程）と該基板表面上への有機保護膜形成工程との組合せ工程を有する、アクティブマトリックス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ターゲット交換などのメンテナンス作業を効率化できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板ホルダー６を有し基板ホルダー６が搬送可能に設けられた成膜室２と、成膜室２に連通し筐体１０内に一対のターゲット１１，１２が対向して配置されたスパッタリング粒子放出部３と、を備える対向ターゲット方式のスパッタリング装置１であって、第２ターゲット１２が配置された筐体１０の一面の一部が第２ターゲット１２を含んで取り外し可能に形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板ホルダー６を有し基板ホルダー６が搬送可能に設けられた成膜室２と、成膜室２に連通しターゲット１０が配置されるスパッタリング室３と、を備え、スパッタリング室３から成膜室２に放出されたスパッタリング粒子と反応ガスとの反応により基板Ｗ上に反応生成膜を形成させるスパッタリング装置であって、ターゲット１０が基板ホルダー６の搬送経路に対して斜めに配置され、ターゲット１０の外周より大きな穴部を有する箱体２０がスパッタリング室３に設けられ、箱体２０の第１開口部２１を通してターゲット１０の表面が箱体２０の内面を向き、ターゲット１０が向かい合う箱体２０の面の一部にスパッタリング粒子が通過する第２開口部２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】より簡便な構成で、全体を均一な温度に制御することが可能な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる液晶表示装置は、ＴＦＴアレイ基板４０と、対向基板１０と、ＴＦＴアレイ基板４０又は対向基板１０上に形成され、表示領域５１内において一定の間隔で平行に設けられた複数の並列部１５ａと、表示領域５１の周辺で複数の並列部１５ａの一方の端部と他方の端部とをそれぞれ収束するように形成された収束部１５ｂとを有するヒーター電極１５と、表示領域５１の互いに対角となる角部近傍に設けられ、ＴＦＴアレイ基板４０の入力端子よりヒーター電極１５に電力を供給するために接続される入力点及び出力点と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】斜方蒸着配向膜を用いた場合に画素境界領域の幅寸法を狭めたときでも、互いに隣り合う画素電極間の横電界の影響で表示画像が乱れることを防止することのできる液晶装置、該液晶装置の製造方法、および当該液晶装置を備えた電子機器を提供することにある
【解決手段】液晶装置１００およびその製造方法では、第１基板１０では、画素境界領域９ｓに重なる領域に斜方蒸着配向膜１８の膜厚より厚い膜厚の境界絶縁膜１７ａが形成され、かかる境界絶縁膜１７ａは、画素電極９ａに重なる領域の斜方蒸着配向膜１８より第２基板２０に向けて突出している。このため、表示画像の輝度や解像度を高める等、表示画像の品位向上を図る目的で画素境界領域９ｓの幅寸法を狭めても、互いに隣り合う画素電極９ａ間に強い横電界が発生しない。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な配向膜を液体材料の吐出によって形成することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置は、基板１０と、基板１０上に形成された無機材料層１８と、無機材料層１８上に形成された配向膜２６と、配向膜２６上に配置された液晶１６と、を含む。無機材料層１８には、配向膜２６の外側に溝２４が形成されている。溝２４の、配向膜２６の側の辺の輪郭が、凸凹に形成されている。 （もっと読む）

【課題】比較的硬い下地膜を形成しつつ可曲性を向上させた表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置は、画素電極を有する複数の画素と、前記画素電極の各々に接続されたスイッチ素子とを有する基板を含み、前記基板は、可曲性の絶縁基板と、前記絶縁基板上に設けられ互いに離間した複数の絶縁膜を含む第１の絶縁層とを含み、前記スイッチ素子は、前記各絶縁膜のいずれかの上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板上にカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）のみからなる均一で配向した薄膜を大面積で構築する。
【解決手段】電極間に交流電圧を印加すると、その電場に沿ってＣＮＴが整列することを利用して、電極間の距離をｃｍオーダーにすると共に、交流電圧の周波数を特定の低周波数範囲に設定し、その電極間に基板を浸して引き上げる。 （もっと読む）