【課題】耐擦傷性、耐酸性、耐アルカリ性、耐水性、絶縁性に優れ、電極膜あるいはポリイミド樹脂などの疎水性の強い樹脂からなる膜（配向膜）などとの密着性にも優れ、さらに靭性、可撓性等にも優れた透明被膜を形成可能な透明被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】透明被膜形成用塗布液は、水と有機溶媒とからなる混合溶媒にマトリックス形成成分が分散されてなる透明被膜形成用塗布液であって、該マトリックス形成成分が加水分解性基を２個以上有する有機ケイ素化合物あるいはその加水分解物を含む。 （もっと読む）

【課題】マスク数の少ない薄膜トランジスタの作製方法を提供する。
【解決手段】第１の導電膜１０２と、絶縁膜１０４と、半導体膜１０６と、不純物半導体膜１０８と、第２の導電膜１１０とを積層し、この上に多階調マスクを用いて凹部を有するレジストマスク１１２を形成し、第１のエッチングを行って薄膜積層体を形成し、第１の導電膜１０２がエッチングされた膜１１３に対してサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層１１６Ａを形成し、その後ソース電極及びドレイン電極等を形成することで、薄膜トランジスタを作製する。半導体膜としては結晶性半導体膜１０６を用いる。 （もっと読む）

【課題】 既存のＳｉＮｘパッシベーション膜／アクリル系感光性有機絶縁膜の二重構造を一つの層に形成することにより、工程を単純化し、生産費を節減することができ、感度、解像度、工程マージン、透明性、耐熱変色性などの性能が優れると共に、特に低誘電率絶縁膜を可能にすることによって消費電力を低くすることができ、残像及びクロストーク、及びしきい電圧のシフト現象を防止することができ、また、優れた耐熱性による低アウトガスを可能にすることによって優れたパネル信頼性を確保することができ、これによって多様なディスプレイにおいてパッシベーション絶縁膜、ゲート絶縁膜だけでなく、平坦化膜などとしても有用に適用することができるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 本発明によるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物は、ｉ）下記の化学式１で示される１〜３個のフェニル基を含む反応性シラン、（ii）下記の化学式２で示される４官能反応性シランのシラン単量体を触媒の存在下で加水分解及び縮合重合して得られたポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜２０，０００であるシロキサンオリゴマー化合物；（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；及び（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする。
【化１】


（式中、Ｒ₁はフェニル基であり、Ｒ₂はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基であり、ｎは１〜３の整数である。）
【化２】


（式中、Ｒ₃はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基である。）。 （もっと読む）

【課題】半導体素子側基板とカラーフィルタ側基板の熱膨張差に伴う製造途中や使用環境における当該液晶表示装置の不良を防止することが可能な技術を提供することである。
【解決手段】
液晶層を介して対向配置される第１基板及び第２基板を有し、前記第１基板及び第２基板が樹脂基材で形成される液晶表示装置であって、前記第１基板の液晶層側に形成され、マトリクス状に画素が形成される液晶駆動層を当当該第１基板に固定する粘着層と、前記画素に対応する遮光膜及び色フィルタ層と前記第２基板との間に形成され、該第２基板よりも熱膨張係数が小さい薄膜材料からなる下地層とを備えた液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。そしてフィルム基材２の表面にガスバリア性を有するガスバリア層３を設けて形成される透明なガスバリアフィルム４が透明積層板１に積層されている。ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができ、水蒸気などのガスの透過を遮断するガス遮断性が高い透明基板を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 １５０℃以下の低温で硬化しても、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性、耐水性、ガラスなどの下地基板への密着性、透明性、耐傷性、塗布性、耐光性等に優れる硬化膜を形成できる熱硬化性組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造を有する構成単位と、下記式（２）で表される構造を有する構成単位とを有するポリマーを含有する熱硬化性組成物により上記課題を解決する。


（もっと読む）

【課題】耐化学性、絶縁性、平坦性、耐熱性、光透過率、接着性などの性能に優れ、塗膜硬化後基板の工程温度変化による収縮、膨張などの熱変形に対する亀裂抵抗性及び接着性に優れ、液晶表示素子の保護膜用絶縁材料に適した有機・無機複合体樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エチレン性不飽和基と芳香族炭化水素基を含むポリ脂肪族芳香族シルセスキオキサン；（ｂ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物またはこれらの混合物と、１つ以上のアクリル系不飽和化合物とを共重合させて得られた、アクリル系共重合体；（ｃ）２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する単量体化合物；及び（ｄ）エポキシ基またはエチレン性不飽和結合を有するシリコン系化合物を含むことを特徴とする有機・無機複合体樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】位相差機能を持つ環状ポリオレフィン樹脂からなるベースフィルムを用いた構成で、ガスバリア層中の各膜同士の親和性を向上させ、良好なガスバリア性を発揮することが可能なガスバリア層付フィルムを提供する。
【解決手段】ベースフィルム１０を、Ｈ_２Ｏ透過率が１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下のバリア性と、ガラス転移温度が１３０℃以上の特性を有し、且つ、リターデーションが波長０以上５５０ｎｍ以下の位相差を持つ透明ポリオレフィン樹脂で構成する。ガスバリア層を、電離線硬化樹脂または熱硬化樹脂の少なくともいずれかよりなるポリマー膜１２と、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＮ_ｚからなる無機膜１１とで構成する。ｘは０．３５以上０．５５以下であり、ｙ／ｚは０．４以上２．０以下であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすものとする。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着が可能でかつ無機層やデバイスへのダメージを低減して、良好にデバイス等を封止できるバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの有機層と、少なくとも１つの無機層とを有し、かつ、前記有機層が、ラジカル重合性モノマーと、１気圧３０℃の条件で液状である重合開始剤とを含む組成物を真空蒸着し、硬化させてなることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を含む半導体膜を用い、ソース電極及びドレイン電極にｎ型又はｐ型の不純物を添加した酸化亜鉛を含む膜を用いたときでも欠陥や不良が生じない半導体装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜を形成し、絶縁膜上に第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上にｎ型又はｐ型の不純物が添加された酸化亜鉛を含む第２の導電膜を形成し、第２の導電膜を第１のエッチングによって島状にし、第１の導電膜を第２のエッチングによって島状にし、絶縁膜及び島状の第２の導電膜上に酸化亜鉛を含む半導体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】優れたバリア性、液晶汚染性、耐薬品性を有するカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を提供する。また、前記の優れた保護膜特性を有するカラーフィルターを提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）および（Ｂ）成分を含有し、（Ａ）成分の有するヘミアセタールエステル基と（Ｂ）成分の有するエポキシ基またはオキセタニル基のモル当量比［（Ａ）／（Ｂ）］が２／１０〜５０／１０であることを特徴とするカラーフィルター保護膜用樹脂組成物。（Ａ）下記式（１）で表されるヘミアセタールエステル化合物。


（Ｒ^１は炭素数３〜３０のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはイソシアヌルトリアルキル基であり、ｎは２〜８の整数、ｍは１〜４の整数であり、Ｒ^２は炭素数が１〜４のアルキレン基であり、Ｒ^３は水素原子またはメチル基である。）（Ｂ）１分子中にエポキシ基またはオキセタニル基を２個以上有する化合物。 （もっと読む）

【課題】チャネルドープに起因するゲート絶縁層の損傷およびトランジスタ特性の変動をを確実に防止することのできる電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置などといった電気光学装置で用いられる素子基板１０ｘでは、支持基板１０ｄの上に下地絶縁層１２が形成されているとともに、下地絶縁層１２の表面に電界効果型トランジスタ１０ｙを構成する能動層が形成されている。電界効果型トランジスタ１０ｙの閾値電圧の調整を行うためのチャネルドープを行う際、下地絶縁層１２を介してチャネル領域１ｘに不純物を導入する。このため、ゲート絶縁層２ｙには、チャネルドープの際のストレスに起因する欠陥が発生せず、電界効果型トランジスタ１０ｙでは電流リークや絶縁破壊などの不具合が発生しない。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の破損や曲りを発生させることなく、液晶パネル等といった基板を容
易に薄く形成する薄型基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板の平面領域であるパネル領域を選択的に薄く形成するガラス基板
パターニング工程Ｐ４と、薄く形成されたパネル領域内の少なくとも一方の表面に基板要
素を形成する基板要素形成工程Ｐ８と、基板要素形成工程Ｐ８の後に透光性基板のうちの
パネル領域以外の部分である外縁領域を除去する外縁領域除去工程Ｐ２２及びＰ２５とを
有する薄型基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、可撓性表示装置の製造装置及び製造方法に関する。
【解決手段】
本発明の一実施例による可撓性表示装置の製造装置は、支持体本体、前記支持体本体の表面に位置し、複数の溝が形成されていて、可撓性母基板を据置く据置台、前記支持体本体を貫通して前記溝と連通していて、一側端が外部と連通している真空路、そして前記真空路及び外部を連通させるニップル部を含む。 （もっと読む）

【課題】歩留り低下及びコスト上昇を抑え、かつ、光学的特性を良好に維持しつつ、特性の経時的変化を抑制して高い信頼性を確保する。
【解決手段】ポリシリコン膜にドーパントを注入し、加熱処理によって注入したドーパントを活性化し、ソース領域及びドレイン領域、及びチャネル領域を形成した後、基板温度を、３５０℃〜４２０℃の範囲内に保って、３分〜６０分の処理時間、基板を水素ガスによるプラズマに晒す。これによって、下地保護膜３を構成する二酸化シリコンは、吸蔵水の含有量が抑えられ、薄膜トランジスタ１の動作温度において、下地保護膜３から水分が不純物として特に半導体膜１４へ拡散して、動作特性に悪影響を与えることが防止される。 （もっと読む）

【課題】 製造工程の簡略化と素子特性の安定化を両立できる薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】 多成分ガラス基板１の上方に遮光電極３を備え、前記遮光電極３の上方に単層または多層の汚染防止絶縁膜４１を備え、前記汚染防止絶縁膜４１の上方に多結晶シリコン膜５を備え、前記多結晶シリコン膜５の上方にゲート絶縁膜６を備え、前記ゲート絶縁膜６の上方にゲート電極７を備え、前記ゲート電極７の上方に層間分離絶縁膜８を備え、前記層間分離絶縁膜８と前記ゲート絶縁膜６とを開口して前記多結晶シリコン膜５と導電接続されたソース・ドレイン電極を少なくとも備えている。さらに、前記多成分ガラス基板１の上層、前記汚染防止絶縁膜２１の上層、前記ゲート絶縁膜６の上層、前記層間分離絶縁膜８の上層の少なくとも一つに、塩素とフッ素の双方または片方を含む不純物捕獲層２１，２２，２３，２４を有している。 （もっと読む）

【課題】電極に起因する不具合を防止して、信頼性の高いものを得る、液晶装置の製造方法、液晶装置、及び該液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】液晶層５０と、液晶層５０を挟持する一対の基板１０，２０と、一対の基板１０，２０における液晶層５０側にそれぞれ配置された一対の電極９，２１と、を備えた液晶装置の製造方法である。化学的気相法により、一対の電極９，２１の少なくとも一方が覆われるように基板表面に被覆膜４１，６１を形成する。そして、被覆膜４１，６１上に無機材料からなる配向膜４０，６０を形成する。 （もっと読む）

【課題】電極に起因する不具合を防止して、信頼性の高いものを得る、液晶装置の製造方法、液晶装置、及び該液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】液晶層５０と、液晶層５０を挟持する一対の基板１０，２０と、一対の基板１０，２０における液晶層５０側にそれぞれ配置された一対の電極９，２１と、を備えた液晶装置の製造方法である。原子層堆積法により、一対の電極９，２１の少なくとも一方が覆われるように基板表面に被覆膜４１，６１を形成する。そして、被覆膜４１，６１上に無機材料からなる配向膜４０，６０を形成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法に関し、特に、漏洩電流を減少するための薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性基板１００と、可撓性基板１００上に形成される拡散防止層１１０と、拡散防止層１１０上に少なくとも二個の絶縁物質が積層して形成されるバッファ層１２０と、バッファ層１２０の一の領域上にチャンネル層１３０aとソース／ドレイン領域１３０ｂを有して形成される半導体層１３０と、半導体層１３０を含むバッファ層１２０上に形成されるゲート絶縁層１４０と、ゲート絶縁層１４０上のチャンネル層１３０aと対応する領域に形成されるゲート電極１５０と、ゲート電極１５０を含むゲート絶縁層１４０上に形成される層間絶縁層１６０と、層間絶縁層１６０にソース／ドレイン領域１３０bの少なくとも一の領域を露出させる所定のコンタクトホール１７０有し、ソース／ドレイン領域１３０ｂに接続されるように形成されるソース／ドレイン電極１８０a、１８０ｂと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】バリア層にＤＣカットの機能を持たせ、オフセット分である直流成分をカットすることができると共に、マイクロレンズ形成層中の金属などの不純物が液晶中に溶出して液晶層を汚染するのを防止することができるマイクロレンズ基板及びこれを用いた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】ベースガラス基板２に、マイクロレンズ３が形成されたカバーガラス基板４を接着材５にて接合して成る構造体６と、カバーガラス基板４の上に形成された透明電極膜８と、透明電極膜８の上に形成された透明膜９と、透明膜９の上に形成された配向膜１０と、を具備したものである。構造体６にこのような順に成膜することにより、透明膜９は、カバーガラス基板４に含まれる不純物の溶出を防ぐ機能と、ＴＦＴ基板との電圧差によって発生する焼き付きを防止するＤＣカット機能を備えることになる。 （もっと読む）