【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層４と保護層５が積層された水蒸気バリアーフィルム１０において、その水蒸気バリアーフィルム１０の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Ｒｂを形成することとした。この低透過領域Ｒｂは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 異物遮蔽性に優れ、低コスト化を図ることのできる基板、基板を備えた表示装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｓは、表面に開口した凹部を有するシート状のコア部材１と、コア部材の表面全体を被覆した有機材料又は無機材料で形成されたバリア層５とを備えている。バリア層５は、コア部材１の凹部内に充填されている。 （もっと読む）

【課題】樹脂基材上にガスバリア性を有する層が形成された電子機器用基板において、高いガスバリア性を有し、且つ、層間の密着力に優れた信頼性の高い膜を簡易に形成可能とする。
【解決手段】樹脂基板１０１上に複数の層が積層された積層膜を有する電子機器用基板１００において、積層膜を、正又は負に帯電可能な無機化合物を含む１層以上の無機物層１１０と、無機物層１１０と反対の電荷に帯電可能な無機層状化合物を含む１層以上の層状化合物層１２０とで構成し、無機物層１１０と層状化合物層１２０とを交互に積層する。 （もっと読む）

【課題】可撓性透明基板の上にカラーフィルタのパターンが形成された表示装置用カラーフィルタを、寸法精度良く、大量に製造する方法を提供する。
【解決手段】連続的に繰り出される搬送キャリア上へ枚葉形状の可撓性透明基板を仮固定する工程と、仮固定された可撓性透明基板の表面にカラーパターンを形成する工程と、カラーパターンが形成された可撓性透明基板を加熱処理する工程と、加熱処理された可撓性透明基板と搬送キャリアとを分離する工程とを備える製造方法により表示装置用カラーフィルタを製造した。 （もっと読む）

【課題】寸法安定性に優れたディスプレイ用フィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】バリア層を設ける前の段階において、プラスチックフィルムに張力を加えることなくガラス転移温度より低い温度であって、前記ディスプレイ用フィルム基板上にカラーフィルタまたは駆動素子等のディスプレイ部材を形成する工程の温度以上の所定の温度で加熱処理して、歪みを解消し、その後の工程での寸法安定性を維持可能とした。そして、プラスチックフィルムの両面にバリア層を設けるようにして、さらに寸法安定性を増すとともに、ガス透過の防止をした。 （もっと読む）

【課題】良好なガスバリア性及び耐久性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法、及びガスバリア性フィルムを用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１０（１０Ａ）は、基材１と、基材１上に設けられた有機層２と、有機層２上に設けられた無機層３とを有し、シリコンを有する基が共有結合をしているアクリル系樹脂が有機層２に含有され、無機層３と接する有機層２の面に上記シリコンが０．１原子％以上存在する。 （もっと読む）

【課題】 電子ペーパーなどの電極フィルムにおいて、ペン入力耐久試験などの破壊試験後にも水蒸気バリア性に優れる積層体および透明導電性薄膜付積層体を提供する。
【解決手段】 第１の透明プラスチックフィルムからなる基材上の片面に、無機物からなる無機薄膜層を積層したガスバリア性フィルムと無機薄膜層を有する面と、第２の透明プラスチックフィルムとを粘着層を介して積層した積層フィルムであって、第１の透明プラスチックフィルムと第２の透明プラスチックフィルムの厚みが下記の（１）式を満たし、粘着層の厚みが５〜５０μｍであり、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であることを特徴する積層体。
０．２ ＜ Ｔ２／Ｔ１ ≦ １．０ （１）
Ｔ１ ： 第１の透明プラスチックフィルムの厚み（μｍ）
Ｔ２ ： 第２の透明プラスチックフィルムの厚み（μｍ） （もっと読む）

【課題】特に耐湿熱性が良好で、低コストで、ガスバリア性の良いガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア層の形成方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材上に、一般式（１）で表されるマレイミド基を有するモノマー化合物と１分子中に２以上の重合開始能部位を有する重合開始剤とを含む組成物で有機層を形成する工程と、その有機層上に無機層を形成する工程と、を有する。
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【課題】特に耐湿熱性が良好で、低コストで、ガスバリア性の良いガスバリア性フィルムの製造方法及びガスバリア層の形成方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材１１上に、一般式（１）で表されるマレイミド基を有するモノマー化合物と重合開始剤と前記マレイミド基の二量化反応を増感させる増感剤とを含む組成物で有機層２を形成する工程と、その有機層２上に無機層３を形成する工程と、を有する（一般式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基若しくはアリール基を表すか、又は、Ｒ^１及びＲ^２は一つとなって５員環若しくは６員環を形成する炭化水素基を表す。）
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【課題】
優れたガスバリア性と透明導電性を有し、高温高湿度環境下においてもシート抵抗値の変化が少なく、低い値を保ち、導電性に優れる透明導電性フィルム、その製造方法、この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材、及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】
基材層、ガスバリア層及び透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、ガスバリア層が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子を含む材料から構成されてなり、該ガスバリア層の表層部における、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の含有量が、ケイ素原子、酸素原子及び炭素原子の合計１００原子％に対し、ケイ素原子：１８．０〜２８．０％、酸素原子：４８．０〜６６．０％、炭素原子：１０．０〜２８．０％であって、かつ、透明導電性フィルムの、４０℃９０％ＲＨ雰囲気下における水蒸気透過率が６．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、波長５５０ｎｍにおける可視光線透過率が９０％以上である透明導電性フィルム；その製造方法；この透明導電性フィルムからなる電子デバイス用部材；及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、エポキシ樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、液晶性樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、ポリオレフィン樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】液晶表示素子において高フレキシビリティと高ガスバリア性を両立する。
【解決手段】本発明の液晶表示素子は、一対の電極と、一対の電極間に配置された液晶層と、一対の電極の片方の電極に対して液晶層の反対側に配置され、１層以上の薄膜層を有するバリア膜と、を備える。薄膜層の少なくとも１層の炭素分布曲線は、実質的に連続であること、少なくとも１つの極値を有すること、及び炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、を全て満たし、かつ、バリア膜の片方の電極側の表面の粗度は、最大表面高さをＲｍａｘとしたときに、Ｒｍａｘ＜２００ｎｍであることを満たす。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板が得られる新規な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材に薬液処理を施す金属基材表面処理工程と、上記金属基材上にポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さＲａが３０ｎｍ以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、透明性及び耐折り曲げ性に優れる成形体、その製造方法、この成形体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイスを提供する。
【解決手段】ポリシラザン化合物と粘土鉱物とを含む層からなり、４０℃、相対湿度９０％雰囲気下での水蒸気透過率が、６．０ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であることを特徴とする成形体、その製造方法、この成形体からなる電子デバイス用部材、及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの成形に悪影響を及ぼすことなく、割れ等の問題も発生することなく、張力が付与された緩みのないガラスフィルムのロール体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ダウンドロー法によってガラスフィルム２を成形すると共に、その成形したガラスフィルム２を保護シート３に重ねてロール状に巻き取るガラスロール１の製造方法であって、前記保護シート３に、前記ガラスフィルム２よりも大きな巻き取り方向の張力を付与しながら、前記ガラスフィルム２と前記保護シート３とを巻き取ることでガラスロール１を製造する。 （もっと読む）

【課題】無機層の上に有機層を設けた態様のバリア性積層体であって、有機層と無機層の密着性と曲げ耐性が良好であり、最外層の有機層の表面の平滑性が良好であるバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）芳香族基を有する（メタ）アクリレートを含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする有機無機積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムに対してデバイス製造関連処理等を行う際の取り扱い性を向上させ、加熱を伴う処理後にガラスフィルムを各種デバイスに組み込む際等には、支持ガラスからガラスフィルムを容易に剥離させることを可能とし、且つ剥離後において粘着剤等がガラスフィルムに残存することを確実に防止できる、清浄なガラスフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】支持ガラス３の表面に、成膜後の表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下となるように無機薄膜４を形成する第１の工程と、前記無機薄膜４の表面に、表面粗さＲａが２．０ｎｍ以下のガラスフィルム２を接触させた状態で積層してガラスフィルム積層体１とする第２の工程と、前記ガラスフィルム積層体１に対して加熱を伴う処理を行う第３の工程と、前記加熱を伴う処理後に前記ガラスフィルム２を前記支持ガラス３から剥離する第４の工程とを有する。 （もっと読む）