【課題】シリケートガラスによって、シール材と基板との界面からの水分の侵入や、シール材で囲まれた領域内に侵入した水分の影響を低減することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０および基板本体１０ｗ（第１基板）側においてシール材１０７と接するのは、ＢＳＧ膜からなるシリケートガラス層１８（第１シリケートガラス層）であり、対向基板２０および基板本体２０ｗ（第２基板）側においてシール材１０７と接するのは、ＢＳＧ膜からなるシリケートガラス層２８（第２シリケートガラス層）である。シール材１０７で囲まれた領域で、シリケートガラス層１８は、画素電極９ａおよびダミー画素電極９ｂの非形成領域９ｃで液晶層５０に表面を向けており、シリケートガラス層２８は、共通電極２１の非形成領域２１ｃで液晶層５０に表面を向けている。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性および高速応答性に優れる強誘電性液晶組成物、およびそれに用いられる強誘電性液晶用応答速度向上剤を提供する。
【解決手段】フェニルピリミジン骨格を有するキラル化合物等からなる強誘電性液晶用応答速度向上剤。キラルな基としては下記の基が例示される。


（上記式（２）において、Ｒ^３３は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４の飽和もしくは不飽和のアルキル基もしくはアルコキシアルキル基である。Ｙ^３１は、−ＣＨ_３またはフッ素原子を表す。＊印はキラル中心を示す。） （もっと読む）

【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、第２基板２０に向けて突出した突部１６ａが設けられており、液晶層５０の流動は突部１６ａによって阻害される。突部１６ａは、例えば、画素電極９ａの端部と配向膜１６との間に設けられた膜１７ａの形状が配向膜１６の表面に反映されてなる。 （もっと読む）

【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶装置１００においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第１基板１０側の配向膜１６には、画素電極９ａの端部に平面視で重なる部分に、配向膜１６の膜厚を他の領域より薄くする凹部１６ａが設けられている。凹部１６ａが設けられている部分では、液晶層５０に印加される電界が他の領域と相違しているため、電界が加わった際の液晶分子５０ｂの姿勢が他の領域と相違している。この液晶層５０での流動が阻害されるので、イオン性不純物が移動しにくい。 （もっと読む）

【課題】製造性を損なうことなく電圧印加による電気光学物質の劣化を抑制可能とした電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電気光学物質層を挟持して対向配置された第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板とを貼り合わせるシール材と、複数の画素が配列された画素領域と、画素領域とシール材との間に電極が備えられたイオントラップ部と、第１基板及び第２基板の電気光学物質層側の表面に形成された配向膜と、を有する電気光学装置であって、イオントラップ部は、電気光学物質層に直流電圧を印加する第１トラップ電極と第２トラップ電極とを有しており、第１トラップ電極と配向膜との間、及び第２トラップ電極と配向膜との間の少なくとも一方に、電気光学物質層中のイオン性不純物を吸着保持するトラップ部絶縁膜が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】斜方蒸着により無機配向膜が効率よく形成され、安定した光学特性と表示品質とを兼ね備えた液晶装置、液晶装置の製造方法、この液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置１００は、第１の基板としての素子基板１０と、第２の基板としての対向基板２０と、素子基板１０と対向基板２０とにより挟持された負の誘電異方性を有する液晶分子からなる液晶層５０と、素子基板１０と液晶層５０との間に設けられ、複数の凹部１１ａを有する下地絶縁膜１１と、下地絶縁膜１１と液晶層５０との間に設けられ、下地絶縁膜１１に応じた凹部表面を有する電極としての画素電極１５と、凹部表面に斜方蒸着により形成された無機配向膜としての配向膜１８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置及びその製造方法において、コントラスト比を向上可能とすることを目的とする。
【解決手段】第１の基板、第１の配向層、ストライプ状の第１の電極、コレステリック液晶を有する液晶層、ストライプ状の第２の電極、第２の配向層、及び第２の基板が積層され、第１の配向層は第１の電極間で液晶層のコレステリック液晶と接し、第２の配向層は第２の電極間で液晶層のコレステリック液晶と接するように構成する。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることが可能な液晶装置用基板、及び液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶装置用基板２００は、ウエハ２００ａに面付けされた一対の基板を構成する第１素子基板１０ａ、第２素子基板１０ｂ、第１対向基板２０ａ、及び第２対向基板２０ｂを備え、複数の素子基板１０ａ，１０ｂ及び複数の対向基板２０ａ，２０ｂは、無機配向膜を構成する柱状構造物の積層方向が互いに揃うようにウエハ２００ａに配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０に溝２６０を形成した後、第２基板２０に封止膜として金属膜２７を形成する。この時点では、金属膜２７において溝２６０の開口部２６５と重なる領域に開口部２７５が形成されているが、金属膜２７を加熱して溶融させると、金属膜２７の開口部２７５が塞がれ、その結果、溝２６０の開口部２６５が金属膜２７によって塞がれ、溝２６０の内部は中空となる。しかる後には、金属膜２７のうち、溝２６０の外部に形成されている部分を除去する一方、溝２６０の内部で開口部２６５を塞ぐ部分を残す。従って、溝２６０の側面２６１、２６２を反射面として利用することができる。 （もっと読む）

【課題】配向膜を形成する際の下地に段差が存在していても、液晶分子を適正に配向させることのできる液晶装置、投射型表示装置、および液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の製造工程において、第１配向膜１６を形成する際、第１基板１０の一方面１０ｓに対する法線方向Ｌから斜めに傾いた方向から配向膜形成材料の蒸着を行い、法線方向Ｌから斜めに傾いた柱状構造物３６からなる柱状構造物層３７を形成する。また、蒸着を３回行うとともに、蒸着時の傾斜方向の方位角方向を３回の蒸着の各々において相違させ、第１柱状構造物層１６１、第２柱状構造物層１６２および第３柱状構造物層１６３を順次形成する。このため、柱状構造物３６の傾斜方向の方位角方向が３層の柱状構造物層３７の各々において相違する。 （もっと読む）

【課題】反射部を構成する溝の構造を改良して、入射した光をより効率よく画素電極に向かわせることのできる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、第２基板２０の基板本体２０ｗ（透光性基板）には、隣り合う画素電極９ａの間（画素間領域１０ｆ）に向けて開口する第１溝２６０が形成されている。また、基板本体２０ｗの一方面２０ｓおよび第１溝２６０の側面２６１、２６２には透光膜２５が形成されており、かかる透光膜２５によって、第１溝２６０と平面視で重なる領域には、第１溝２６０より深くて第１溝２６０より幅が狭い第２溝２６５が形成されている。このため、第２溝２６５の側面２６６、２６７を反射面として利用し、画素間領域１０ｆに向かおうとする光を画素電極９ａに向かわせる。 （もっと読む）

【課題】基板に成膜した封止用の膜によって、反射部を構成するための溝の開口部を確実に塞ぐことができるとともに、溝の側面が封止用の膜で覆われることを最小限に抑えることのできる電気光学装置、該電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、溝２６０を中空に封止するにあたって、第１封止膜２７を形成する前、溝２６０内に犠牲膜２４を形成しておき、第１封止膜２７を形成した後、第１封止膜２７の貫通部２７５を介して犠牲膜を除去する。そして、第１封止膜２７上に第２封止膜２８を形成し、第１封止膜２７の貫通部２７５を第２封止膜２８で塞ぐ。このため、第１封止膜２７を溝２６０の開口部２６５を塞ぐように形成することができるとともに、第１封止膜２７が溝２６０の奥まで形成されることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶層中のイオン性不純物の拡散による偏在に起因する表示ムラが低減された液晶装置、および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の液晶装置は、一対の基板間に挟持された液晶層５０と、一対の基板のうち一方の基板としての素子基板１０に設けられた複数の画素電極１５と、一対の基板のうち他方の基板としての対向基板２０に複数の画素電極１５と対向して設けられた対向電極２３とを備え、画素電極１５には凸部１５ｂが設けられ、凸部１５ｂに対応する部分の対向電極２３に凸部２３ｂが設けられている。液晶層５０を駆動することによって生ずる液晶分子ＬＣの流動は、凸部１５ｂおよび凸部２３ｂによって阻害される。したがって、液晶層５０中のイオン性不純物が特定の方向に拡散して偏在することよる表示ムラが低減される。凸部の代わりに凹部を設けてもよい。 （もっと読む）

【課題】電気光学物質中のイオン性不純物を所定の位置に確実に保持しておくことができる電気光学装置、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００において、素子基板１０には、シール材１０７の封止材１０８が設けられている辺１０７ａと、画像表示領域１０ａとの間に凹状のイオン吸着部１０５が形成されている。イオン吸着部１０５において、凹部の内面はシリコン酸化膜からなる配向膜１６からなり、かかる配向膜１６は、クロマトグラフィーの担体としての機能を発揮し、イオン性不純物を吸着する。 （もっと読む）

【課題】画像表示領域内でのイオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、当該液晶装置を備えた投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、第１期間と第２期間とにおいて、素子基板１０側の画素電極９ａと対向基板２０側の共通電極２１との極性を反転させ、かかる反転駆動に対応させて、素子基板１０側の第１電極８１および第２電極８２を駆動する。その際、対向基板２０側の第３電極８３に対する第１電極８１の極性は、共通電極２１に対する画素電極９ａの極性とは反対であり、対向基板２０側の第３電極８３に対する第２電極８２の極性は、共通電極２１に対する画素電極９ａの極性と同一である。 （もっと読む）

【課題】複数の色を分離合成する垂直方向の液晶パネルは、１画素１ライン表示時にディスクリネーション起因の表示不良（以後Ｄ不良と略称）が発生し、印加電圧が高いほど量的に多くなる。液晶分子の分光特性により、ＲＧＢ各色１００％（白表示）にするための電圧が異なり、結果Ｄ不良の度合が色によって異なることで起こる、白を基調とした１画素１ライン表示の画像色づきを抑制する方法を提供する。
【解決手段】液晶パネルのプレチルト角度を、Ｂ＞Ｇ＞Ｒとする。一般的に、１００％（白表示）にするための電圧は、Ｒ＞Ｇ＞Ｂである。また、液晶のプレチルト角度は大きくなるほど１００％（白表示）にするための電圧が小さくなるため、プレチルト角度をＢ＞Ｇ＞Ｒとすることで、１００％（白表示）の電圧を各色略等しくする。これにより、Ｄ不良の程度を各色等しくして、色にじみを無くす。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜の配向規制力を損なうことなく、表面絶縁膜の凹部の底部を絶縁膜で覆うことのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、無機配向膜形成工程において斜方蒸着により無機配向膜１６、２６を形成した後、表面絶縁膜形成工程では、無機配向膜１６、２６の表面側に、飽和溶液からの析出を利用した液相析出法により、表面絶縁膜１７、２７を形成する。かかる液相析出法によれば、無機配向膜１６、２６の凸部１６ａ、２６ａの表面、および凸部１６ａ、２６ａの間に発生している凹部１６ｂ、２６ｂの底部に略一定の膜厚で表面絶縁膜１７、２７が形成される。このため、表面絶縁膜１７、２７を形成した後も、無機配向膜１６、２６の凹凸形状が残るため、配向規制力を損なうことがない。また、凹部１６ｂ、２６ｂの底部で画素電極９ａや共通電極２１が露出することもない。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜が水分や不純物を吸着することを抑制しながら、無機配向膜を選択的に形成することのできる液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０に配向膜１６を形成するにあたっては、犠牲膜形成工程において、素子基板１０における配向膜１６の非形成領域１０ｈに犠牲膜１８ａ、１８ｂを形成した後、無機配向膜形成工程において、犠牲膜１８ａ、１８ｂの表面側に、シリコン酸化膜等からなる配向膜１６を斜め蒸着する。次に、リフトオフ工程では、犠牲膜１８ａ、１８ｂを選択的にエッチングする反応性ガスによって犠牲膜１８ａ、１８ｂを除去する。ここで、犠牲膜１８ａ、１８ｂはシリコン膜であり、反応性ガスは二フッ化キセノンガスである。 （もっと読む）

【課題】製造工程において無機配向膜が水分や不純物を吸着することを防止することのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、素子基板１０および対向基板２０の無機配向膜からなる配向膜１６、２６の表面に保護膜１７、２７を形成した後、素子基板１０と対向基板２０とをシール材１０７により貼り合わせてパネル１００ｓを形成し、その後、シール材１０７の途切れ部分１０７ｃから反応性ガスを導入して保護膜１７、２７を除去する。従って、配向膜１６、２６は開放状態になっている時間が短いので、配向膜１６、２６が水分を吸着することを抑制することができる。また、シール材１０７が硬化する際、シール材１０７から不純物が放出されても、かかる不純物は、配向膜１６、２６で吸着されることがない。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜を使用した場合の配向欠陥の発生を低減する。
【解決手段】透明電極基板の透明電極上に成膜されたＳiＯ₂膜（無機配向膜）と、画素電極基板の画素電極上に成膜されたＳiＯ₂膜（無機配向膜）のそれぞれをアンモニア処理する（ステップＳ２）。このアンモニア処理の方法としては、アンモニアガス雰囲気中に晒す方法が有効である。アンモニアガス雰囲気中に晒す場合には、密閉された容器内で無機配向膜が形成された基板をアンモニアガス雰囲気中に晒す方法が有効であり、室温条件下で１分〜６０分で効果がある。また、同様にアミンガスの雰囲気中で処理した場合でも同じ効果が得られることが分かった。アミンガスとしては、例えば炭素数が１〜３のアミンが好ましく、具体例としてはメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミンなどが例示される。 （もっと読む）