【課題】各波長域に対応する複数の液晶パネルにおける液晶層の層厚の面内ばらつきに起因する色相ムラを効果的に解消することのできる投射型表示装置および光学ユニットを提供すること。
【解決手段】投射型表示装置において、各色光が入射する３つの反射型の液晶パネル１００（赤色用液晶パネル１００Ｒ、緑色用液晶パネル１００Ｇ、青色用液晶パネル１００Ｂ）では、青色用液晶パネル１００Ｂにおいて共通電極２１を構成するＩＴＯ膜の膜厚は、赤色用液晶パネル１００Ｒおよび緑色用液晶パネル１００Ｇにおいて共通電極２１を構成するＩＴＯ膜の膜厚に比して薄い。また、赤色用液晶パネル１００Ｒおよび緑色用液晶パネル１００Ｇで共通電極２１の構成するＩＴＯ膜の膜厚は等しい。 （もっと読む）

【課題】熱応力に起因するヒロック等の欠陥が画素電極の表面に発生することを防止することができる電気光学装置、および該電気光学装置を用いた投射型表示装置提供する。
【解決手段】電気光学装置１００の素子基板１０において、ノンドープシリコン酸化膜からなる第３層間絶縁膜４４と、アルミニウム膜等からなる画素電極９ａとの間にはドープトシリコン酸化膜からなる応力緩和膜４６が形成されている。応力緩和膜４６は、ドープトシリコン酸化膜からなり、第３層間絶縁膜４４と異なる熱膨張係数をもって第３層間絶縁膜４４に接するとともに、画素電極９ａと異なる熱膨張係数をもって画素電極９ａに接している。また、各層の熱膨張係数は以下の関係第３層間絶縁膜４４＜応力緩和膜４６＜画素電極９ａにある。このため、応力緩和膜４６は、第３層間絶縁膜４４と画素電極９ａとの間において熱膨張係数の差を緩和する。 （もっと読む）

【課題】ブルージング現象、プーリング現象などを防止して映像の品質を向上させて改善された視野角を確保することのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は第１基板、第１基板の第１面上に配置される第１電極、第１基板に対向する第２基板、第１電極に対向して第２基板の第１面上に配置される第２電極、及び第１基板と第２基板との間に介在して液晶カプセルを含む液晶構造物を備える前記液晶表示装置は、ブルージング現象及びプーリング現象などを防止して向上された画像品質を有することができ、カラーフィルタまたは補償フィルムなしにフルカラー画像を具現することができる。 （もっと読む）

【課題】工程の単純化および／または歩留まりの向上に有利な技術を提供する。
【解決手段】液晶に印加される電界を制御するためのトランジスタと前記トランジスタによって駆動される電極とを含む複数の画素が配列された反射型液晶表示装置を製造する方法は、複数の前記トランジスタがマトリクス状に配列された基板と、複数の前記トランジスタの上に配置された配線構造と、複数の前記電極を形成するために前記配線構造を覆うように配置された金属層とを含む構造体を形成する形成工程と、前記金属層を部分的に露出させる溝によって相互に分離された複数のマスク部を有するマスクパターンを前記金属層の上に形成するマスキング工程と、前記マスクパターンをマスクとして前記金属層の前記溝に露出した部分を水酸化物に変化させる第１処理工程と、前記水酸化物を加熱することによって酸化物に変化させ、前記酸化物によって相互に電気的に絶縁された複数の前記電極を形成する第２処理工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】作製工程を増やすことなく、凹凸形状の画素電極を作製することを目的とする。
【解決手段】凸部は、フォトマスクを用いて作製すると再現性の高いものが得られるため、画素ＴＦＴ１２０３の作製工程にしたがって作製すればよい。画素ＴＦＴ１２０３の作製と同様に積層される半導体層、ゲート絶縁膜および導電膜を積層して凸部を形成する。こうして形成された凸部および同一工程で形成された画素ＴＦＴ、駆動回路に含まれるＴＦＴを覆うように層間絶縁膜を形成する。凹凸を有する層間絶縁膜が形成されたら、その上に画素電極を形成する。画素電極の表面も絶縁膜の凹凸の影響を受け表面が凹凸化する。 （もっと読む）

【課題】有機絶縁層を有する電子素子の配線短絡を簡素な工程により絶縁することが可能な電子素子の製造方法および電子素子を提供する。
【解決手段】配線層２１，２２の上に有機絶縁層１２を形成したのち、配線層２１，２２の短絡部２３に、有機絶縁層１２に対して透過性を持つ波長のレーザ光ＬＢを有機絶縁層１２を介して照射、または基板１１に対して透過性を持つ波長のレーザ光ＬＢを基板１１を介して照射する。レーザ照射領域２４では短絡部２３が消失して、配線層２１と配線層２２との間の絶縁が回復する。短絡部２３の上下に接する有機絶縁層１２または基板１１は残されている一方、レーザ照射領域２４（短絡部２３が消失した部分）には空洞２５が生じる。 （もっと読む）

【課題】ソース配線とゲート配線とが製造工程中の静電気によるショートを防止すること
が可能な液晶表示装置の素子構造を提供することを目的とする。
【解決手段】ソース配線が第１の半導体層、第２の半導体層、及び導電層によって構成さ
れる。そして、ソース配線とゲート配線の交差部において、ソース配線の端部の導電層を
除去して、半導体層がはみ出した形状とする。なお、ゲート配線、第１の半導体層、第２
の半導体層、及び導電層の材料はＴＦＴを形成するために用いた材料と同一の材料からな
る。 （もっと読む）

【課題】入射した外光を反射させて表示を行う液晶表示装置において、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことを課題の一とする。より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】凹凸表面を有する画素電極層を用い、効率よく散乱させた反射光で白表示を行うことにより、反射光の反射効率を向上させ、効率よく白表示を行うことができる。また、より視認性の良好で高画質な液晶表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶による光の散乱光を利用して表示を行う液晶表示装置において、より低消費電力化を達成する。より視認性が良好で高画質な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）又は高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ）を液晶層に用いて、液晶による光の散乱光を利用して白表示（明表示）を行う。画素電極層を、第１の共通電極層と第２の共通電極層とで挟持された液晶層中央に配置することによって、第１の共通電極層、液晶層、及び画素電極層からなる第１の液晶素子と、画素電極層、液晶層、及び第２の共通電極層からなる第２の液晶素子という２つの光学素子を積層する構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】透過表示のコントラスト比及び開口率が高く、画素の微細化にも対応できる半透過型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第一基板と、液晶層と、第二基板とをこの順に有する液晶表示装置であって、上記第一基板は、幹部と、上記幹部から分岐した複数の枝部とを備える画素電極を有し、上記液晶表示装置は、枝部とスリットとが交互に配置された領域を含む表示領域を有し、上記表示領域は、上記反射領域及び透過領域を含み、上記反射領域において、上記第一基板は、上記画素電極下に反射膜を有し、上記第二基板は、上記液晶層の側にλ／４位相差層を有する液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】垂直配向液晶に付随するディスクリネーションを軽減し、明るく応答性の良い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、ブラックマトリクス、透明導電膜、及び樹脂層を形成してなる液晶表示装置用電極基板において、前記ブラックマトリクスは、遮光性顔料を樹脂に分散した遮光層からなり、かつ複数の開口部を有し、前記樹脂層は、前記ブラックマトリクス及び透明導電膜を備える透明基板上に形成され、前記ブラックマトリクスの上方において凸部を形成し、前記ブラックマトリクスの開口部中心を通る領域に凹部を形成することを特徴とする液晶表示装置用基板。 （もっと読む）

【課題】 電極間の隙間による表示品位低下を改善し、また、配線電極が見えたり、配線電極の一部が半点灯することが無ない液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 配線電極４と配線のない独立した隙間電極５を形成し、その上に絶縁膜６を形成し、その上に表示電極７、外側第二表示電極８ａ及び内側表示電極８ｂを形成している。表示電極７及び外側第二表示電極８ａ、内側表示電極８ｂは、絶縁膜６に設けたそれぞれのコンタクトエリアを介して配線電極４または隙間電極５と電気的に接続する。表示電極７は、絶縁膜６を介して隙間電極５の端部と重なるように形成する。また、外側第二表示電極８ａ及び内側第二表示電極８ｂは、絶縁膜６を介して隙間電極５の他の端部と重なるように形成する。 （もっと読む）

【課題】表示機能及び撮像機能を備え、明るい表示とともに、高精度な撮像が可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】表示機能及び撮像機能を備えた液晶表示装置とし、液晶層に高分子分散型液晶材料を用いることで、液晶による光の散乱光を利用して白表示（明表示）を行う。さらに、液晶表示装置は、液晶層と受光素子を有し、液晶層は受光素子よりも視認側に配置され、受光素子は赤外線の波長領域に受光感度を有する。赤外線の波長領域に受光感度を有する受光素子は、入射光から赤外線を検出する。液晶表示装置は、受光素子が検出した赤外線を用いて撮像する。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体層および／または透明導電膜との間のバリアメタル層を省略しても、ＡｌとＳｉの相互拡散を抑制でき、低抵抗のオーミック特性を有する電気的接触が得られると共に、十分な耐熱性を有する表示装置用Ａｌ合金膜を提供する。
【解決手段】表示装置の基板上で、透明導電膜および／または薄膜トランジスタの半導体層と直接接続されるＡｌ合金膜であって、Ａｌ合金膜は、３０原子％以上のＭｏを含有するＡｌ−Ｍｏ合金、またはＭｏと、Ｍｎ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｇ、およびＦｅよりなるＸ群から選択される少なくとも１種とを含有するＡｌ−Ｍｏ−Ｘ合金の単層から構成されている。 （もっと読む）

【課題】溝部と画素電極とにおける段差が小さい反射型液晶表示用半導体装置を提供する。
【解決手段】液晶素子が搭載される半導体装置の製造方法において、半導体素子が形成されている半導体基板上に画素電極となる金属膜を形成する工程と、前記金属膜上に第１の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第１の酸化シリコン膜とともに前記金属膜を分離し前記画素電極を形成するための溝を形成する工程と、前記溝及び前記第１の酸化シリコン膜上に第２の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第２の酸化シリコン膜及び前記第１の酸化シリコン膜をエッチバックする工程と、前記エッチバックされた面に第３の酸化シリコン膜を形成する工程と、前記第３の酸化シリコン膜をエッチバックし、前記画素電極を露出させる工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】迷光の発生あるいはヒロックの発生を防止しつつ、素子基板に入射した光を効率よく反射して、表示光量を増大させることのできる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】反射型の液晶装置１００において、反射性の画素電極９ａより下層側には、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた隙間領域９ｓ、９ｔに重なるアルミニウム配線からなる反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）が設けられ、隙間領域９ｓ、９ｔに入射した光を反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）で反射し画像の表示に利用することができる。データ線６ａおよび容量線５ｂの表面には、隙間領域９ｓ、９ｔと重なる領域を露出させる遮光性保護層８６ａ、８５ｂが窒化シリコン膜等により形成されている。 （もっと読む）

【課題】素子基板の一方面側に入射した光を効率よく反射して、表示光量を増大させることのできる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００では、対向基板２０の側から素子基板１０の一方面側に入射した光を反射性の画素電極９ａの表面で反射して画像を表示する。また、画素電極９ａより下層側には、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた隙間領域９ｓ、９ｔに重なる反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）が設けられ、隙間領域９ｓ、９ｔに入射した光を反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）で反射し画像の表示に利用することができる。ここで、画素電極９ａ、および反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）の表面は鏡面になっている。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることができる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１基板１２上に配線（３４，５３）を形成する配線形成工程と、配線の上層に第１絶縁層６１を形成する第１絶縁層形成工程と、第１絶縁層６１に開口と開口の周縁に傾斜部とを有する凹部を形成する凹部形成工程と、第１絶縁層６１上に反射機能を有する導電膜を形成する導電膜形成工程と、導電膜における傾斜部と平面的に重なる領域を除去し画素電極２７を形成する画素電極形成工程と、画素電極２７及び第１絶縁層６１上に第２絶縁層６２を形成する第２絶縁層形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表示領域と周辺領域とにおいて層間絶縁膜の表面を連続した平坦面とすることができる液晶装置および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００の素子基板１０において、層間絶縁膜７２（第１層間絶縁膜）の表面では、周辺領域１０ｂにおける開口密度が表示領域１０ａにおける開口密度に比して低い第１スルーホール（表示領域側第１スルーホール７２ａおよび周辺領域側第１スルーホール７２ｂ）が開口している。層間絶縁膜７３（第２層間絶縁膜）の表面では、周辺領域１０ｂにおける開口密度が表示領域１０ａにおける開口密度に比して高い第２スルーホール（表示領域側第２スルーホール７３ａおよび周辺領域側第２スルーホール７３ｂ）が開口している。このため、層間絶縁膜７２表面に段差７２ｘが形成されるが、かかる段差７２ｘは、層間絶縁膜７３の表面を研磨する際の研磨速度の差によって相殺される。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、光反射性を有する導電性材
料から形成された導電層を高品位にパターニングする。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）
を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（
６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジスト
をマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。ここで、
保護膜は、レジストをパターニングする際に用いられる溶液に対する耐性を有する材料か
ら形成される。 （もっと読む）