【課題】より高コントラスト化を可能とするブルー相を示す液晶材料を用いた液晶表示装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、ブルー相を示す液晶層を開口パターンを有する画素電極層と開口パターン（スリット）を有する共通電極層とで挟持する。開口パターンを有し、かつ液晶を狭持するように設けられた画素電極層と共通電極層との間に電界を加えることで、液晶には斜め方向（基板に対して斜めの方向）の電界が加わるため、その電界を用いて液晶分子を制御できる。 （もっと読む）

【課題】基板材から採取できる基板数を多くし、液晶セルの製造コストを低減する。
【解決手段】複数の各基板領域毎に画素電極と端子が形成された第１の基板材２と、第１の基板材の各基板領域の端子配列部以外の領域及び前記端子配列部にそれぞれ対応して配列する複数の第２の基板領域１１２及び切捨て部１２１に区画され、第２の基板領域１１２毎に対向電極が形成された第２の基板材３とを、前記複数の第２の基板領域１１２の周縁部にそれぞれ対応させて、画面エリアを囲む各辺のうち、切捨て部１２１を介さずに直接隣合う第２の基板領域の分断線ｃに沿う辺が、隣合う第２の基板領域の両方の縁部にまたがる幅の共通辺１８ａからなる形状に形成された複数の枠状シール材１８を介して接合して液晶セル集合体１を組立て後、それぞれの分断線ｃ，ｄに沿って分断し、枠状シール材１８の共通辺１８ａを前記分断線ｃに沿って分断する。 （もっと読む）

【課題】多層配線を形成する際における配線の加工に要する工程を簡便にすることを課題
とする。また、開口径の比較的大きいコンタクトホールに液滴吐出技術やナノインプリン
ト技術を用いた場合、開口の形状に沿った配線となり、開口の部分は他の箇所より凹む形
状となりやすかった。
【解決手段】高強度、且つ、繰り返し周波数の高いパルスのレーザ光を透光性を有する絶
縁膜に照射して貫通した開口を形成する。大きな接触面積を有する１つの開口を形成する
のではなく、微小な接触面積を有する開口を複数設け、部分的な凹みを低減して配線の太
さを均一にし、且つ、接触抵抗も確保する。 （もっと読む）

【課題】横電界方式を採用するに当たって、組立性を損ねることなく、界面反射によるコントラスト低下を抑えつつ、液晶パネルの薄型化、狭額縁化を実現する。
【解決手段】横電界方式の液晶表示装置において、対向基板１３の表面に透明導電樹脂部１７を設ける一方、電極パッド部１８上に透明導電樹脂部１７およびＧＮＤ接続線２２に電気的に接続されるＧＮＤ接続用電極部２０を設ける。そして、液晶パネル１１の表面の帯電を、透明導電樹脂部１７、ＧＮＤ接続用電極部２０、電極接続線２１およびＦＰＣ側ＧＮＤ接続線２２を経由して、セット側プリント基板の接地へ逃がすようにする。 （もっと読む）

【課題】空間周波数の高い映像を鮮明に表示することを可能とするアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本アクティブマトリクス基板は、第１副画素電極と第２副画素電極とを含む画素に中間調を表示する時に、該画素内の第１および第２副画素電極を異なる実効電位にすることで第１副画素電極に対応する第１輝度領域を第２副画素電極に対応する第２輝度領域よりも高輝度とする液晶表示装置に用いられるアクティブマトリクス基板であって、１つの画素領域に、第１副画素電極とこれを取り囲む第２副画素電極とを備え、第１または第２副画素電極に接続された配線、トランジスタを介して第１または第２副画素電極に接続された走査信号線、第１または第２副画素電極と容量を形成する保持容量配線のいずれかの一部が、第１および第２の副画素電極の境界部分と重畳している。 （もっと読む）

【課題】額縁領域近傍において、良好な光検出精度を確保することが可能な表示パネルを提供する。
【解決手段】表示装置１は、表示画面のうちの有効表示領域Ｂに表示画素としての液晶素子を有し、有効表示領域Ｂの周辺の額縁領域Ａには、非可視光を選択的透過して可視光を遮断する非可視光透過ブラック２４が配置されたものである。少なくとも有効表示領域Ｂには、所定のピッチで非可視光を検出するフォトセンサ１２Ｂが配設されている。位置判定部では、フォトセンサ１２Ｂからの出力に基づいて、表示画面に接触した指２の位置を判定する。額縁領域Ａに非可視光を透過させる非可視光透過ブラック２４が設けられていることにより、有効表示領域Ｂの額縁領域Ａとの境界付近における光検出強度の低下を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、情報機器等の表示部に用いられる液晶表示装置及びその製造方法に関し、製造コストを上昇させずに良好な表示特性が得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】対向配置された基板２、４と、基板２、４間に封止され、電圧無印加時に基板に対してほぼ垂直に配向する液晶６と、基板２、４の外側にそれぞれ配置された一対の１／４波長板５０、５１と、１／４波長板５１、５０の外側にそれぞれ配置された一対の偏光板８７、８６と、ほぼ平坦な反射面を有し、基板４側から入射する光を反射する反射板５４を備えた反射領域と、基板２側から入射する光を基板４側に透過させる透過領域とを備えた画素領域とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】工程を簡素化することが可能な薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート絶縁膜１３の上に、チャネル形成予定領域３１Ａ、ソース電極形成予定領域３２ＳＡおよびドレイン電極形成予定領域３２ＤＡを含む形状の酸化物半導体膜３０を、その全体がチャネル形成予定領域３１Ａのキャリア密度と同じキャリア密度を有するように形成する。チャネル形成予定領域３１Ａの上に、伝熱を抑えるマスク３３を形成し、酸化物半導体膜３０を大気中で１００℃以上２００℃以下の温度で加熱する。チャネル形成予定領域３１Ａは、マスク３３により伝熱が抑えられ、加熱前のキャリア密度が維持されたチャネル領域となる。一方、酸化物半導体膜３０のマスク３３で覆われていない領域は、加熱により酸素欠損などが生じて、高キャリア密度・低抵抗のソース電極領域およびドレイン電極領域となる。 （もっと読む）

【課題】優れたオン電流特性と、優れたオフ電流特性を兼ね備え、かつ歩留まりの向上が可能な薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】本発明に係る薄膜トランジスタは、下層半導体層１１と、上層半導体層１２の間には、ソース領域１０Ｓ／ドレイン領域１０Ｄに開口部を有する絶縁膜４が形成され、開口部Ｈ１，Ｈ２を介して、下層半導体層１１と上層半導体層１２が接続される。下層半導体層１１のうち、少なくともソース領域１０Ｓ／ドレイン領域１０Ｄの間に配置されるチャネル領域１０Ｃ、及び開口部Ｈ１，Ｈ２と対向する領域のうちの前記チャネル領域から延設される少なくとも一部の領域は、多結晶半導体層であり、上層半導体層は、非晶質半導体層である。 （もっと読む）

【課題】データ駆動部の個数および／またはチャネル数を可能な限り減少させて、且つゲート駆動部に充分な充電時間が確保できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に多数のピクセルが行列形状で配列されて形成されたピクセルアレイであって、前記行列形状に配列された多数のピクセルが、少なくとも、第１方向に隣接して順次に配置され、各々第１スイッチング素子１および第２スイッチング素子を含む第１ピクセルおよび第２ピクセルから構成されたピクセルアレイと、第１方向と異なる第２方向に延長されて配置され、第１スイッチング素子および第２スイッチング素子に共通に接続した第１共通ゲートライン１１と、第１方向に延長されて配置され、各々第１スイッチング素子１又は第２スイッチング素子とそれぞれ接続した第１データライン２１および第２データライン２２と、を含む液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】
ＴＦＴと画素電極との間に設けられる遮光性の電極や配線、コンタクトホールに起因する開口率の低下及び歩留まり低下の問題を解決する。また、画面が色味を帯びないような液晶表示装置を提供する。
【解決手段】
基板にＩｎ、Ｇａ及びＺｎを含むアモルファス酸化物からなる半導体層を形成する第１工程と、該半導体層の上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する第２工程と、該ゲート電極をマスクとして紫外線を該半導体層に向けて照射することにより、該半導体層よりも導電率の高いアモルファスのドレイン領域及び画素電極と一体のソース領域を形成する第３工程とを含む。画素電極はソース領域とともに透明であり、また、紫外線照射によって導電率が向上しており、また、一体で成形されたものであるから画素電極とソース領域とを接続するために電極も配線も形成する必要がない。 （もっと読む）

【課題】従来技術において共通電極線の断線不良を検出できない技術的欠陥を効率的に解決可能な、液晶ディスプレーにおける共通電極線断線不良の検出方法を提供する。
【解決手段】液晶ディスプレーに検出画面をロードし、前記検出画面において少なくとも一つの共通電極線断線検出画面を具備して、前記共通電極線断線検出画面は、同一フレームの検出画面において、一つの極性の画素電極に対応するメモリーキャパシターの電圧差が他の一つの極性の画素電極に対応するメモリーキャパシターの電圧差より大きいものであり、液晶ディスプレーにおいて前記共通電極線断線検出画面が表示されている時に、前記共通電極線断線検出画面において水平方向に次第に変化する黒い線或いは白い線が現れたか否かを検出し、水平方向に次第に変化する黒い線或いは白い線が現れた場合、共通電極線断線不良が存在すると判定する共通電極線断線不良の検出方法に関する。 （もっと読む）

【課題】電気特性が良好な薄膜トランジスタを、生産性高く作製する方法を提供する。
【解決手段】基板上にゲート電極を形成し、ゲート電極上にゲート絶縁層を形成し、ゲート絶縁層上に、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素と、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスとを用い、プラズマを発生させて、厚さ３〜１０ｎｍ、好ましくは３〜５ｎｍの第１の半導体層を形成する。次に、シリコンまたはゲルマニウムを含む堆積性気体と、水素と、窒素を含む気体とを用い、プラズマを発生させて、非晶質半導体と、第１の半導体層を種結晶として部分的に結晶成長させて、形成される微結晶半導体で形成される複数の錐形状の凸部を有する第２の半導体層を形成する。次に、一導電型を付与する不純物元素が添加された半導体層を形成し、導電層を形成して、薄膜トランジスタを作製する。 （もっと読む）

【課題】横電界方式の液晶表示装置において、静電気防止用の透明電極をアース電極へ接続する際に、導電性緩衝材によって透明電極とベゼルとを導電ペーストを塗布して接続しても、導電ケーブルで接続しても、接続部分の厚みが必要で大きくなってしまっていた厚みの解消方法。
【解決手段】印刷した導電ペーストを用いて静電気防止用の透明電極１をアース電極２と接続することにより、導電ペースト３を薄くでき、ガラス基板への応力に起因する表示ムラを防ぎつつ全体厚みを薄くできる。 （もっと読む）

【課題】残像及び染みの発生を減らした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の位置実施形態による液晶表示装置は、互いに対向する第１基板及び第２基板と、第１基板及び第２基板のうちの少なくとも一つの上に形成され、主配向物質と第１垂直発現基を含む垂直光配向物質とを含む配向膜と、第１基板と第２基板との間に介在する液晶と、を含む。垂直光配向物質と主配向物質とを両方含み、ラビング工程なしに紫外線の照射のみによって形成される配向膜を含むことにより、残像及び染みの発生を減らした液晶表示装置を提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高い透過率を有する高画質の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】
本発明による液晶表示装置は、複数の画素電極３０と、第１方向に延びる信号線２３と、第２方向に延びる走査線２２とを備えた第１基板２０、共通電極４３を備えた第２基板４０、負の誘電率異方性を有する液晶を含む液晶層５０、及び電圧無印加時に液晶の配向方向を基板面に垂直に配向させる機能を有する配向層を備え、前記複数の画素電極のそれぞれが、第１方向に延びる第１幹部３０ａと、第２方向に延びる第２幹部３０ｂと、第１幹部３０ａまたは第２幹部３０ｂから第１方向及び第２方向とは異なる方向に延びる複数の枝部３０ｃ、３０ｄ、３０ｅ、または３０ｆとを有し、複数の画素電極の少なくとも１つの画素電極において、複数の枝部３０ｃ、３０ｄ、３０ｅ、または３０ｆの少なくとも２つの端部が画素電極３０の縁部３０ｇによって接続されている。 （もっと読む）

【課題】歩留まりの低下を防止して、製造工程の簡素化を図ることが可能になるとともに、製造コストの低減を図ることができる表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示装置１は、アクティブマトリクス基板２とアクティブマトリクス基板２に対向して配置された対向基板３と、アクティブマトリクス基板２及び対向基板３の間に設けられた液晶層４とを備えている。アクティブマトリクス基板２には、絶縁基板６と、絶縁基板６に設けられた透明電極３１と、透明電極３１の表面上に設けられた反射電極３２とが設けられている。そして、透明電極３１の、反射電極３２と接する表面に複数のディンプル３３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示装置に関し、例えば１つの画素を複数のサブ画素により構成し、これら複数のサブ画素の駆動により階調を表現する方式の液晶表示装置に適用して、多ビットメモリ方式による表示装置において、面積の小さなサブ画素に起因する表示画像の品位の低下を有効に回避する。
【解決手段】本発明は、表示に供する部位４３Ａ〜４３Ｅの面積が小さなサブ画素３２ＡＡ、３２ＡＢについては、この表示に供する部位４３Ａ、４３Ｂをほぼ正方形形状により作成する。 （もっと読む）

【課題】 反射型領域から得られる画像と透過型領域から得られる画像との間の輝度の相違を低減させた液晶表示装置を提供。
【解決手段】 画素領域内に、第１の電極と、第２の電極とを有し、前記第１の電極と前記第２の電極のうち少なくとも一方は、平面的に観たときに、反射性の導電層と、少なくとも前記反射性の導電層の周縁に形成された透光性の導電層とで構成されており、前記反射性の導電層は、前面側からの光を反射して反射型の表示を行う。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ基板およびその製造方法に関するものであり、特に白色画素を含む表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、絶縁基板１００、絶縁基板上に形成されたダム１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃおよび第１カラーフィルタパターン、およびダムによって区切られて画素領域に形成された第２カラーフィルタパターンを含み、ダムおよび第１カラーフィルタパターンは、同一層に位置する。 （もっと読む）