【課題】電界生成電極に複数の微細スリットが形成された液晶表示装置の視認性を向上させると共に、テクスチャなどの表示不良を減らす。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板と、第１基板上に形成され、複数の微細枝部を含む画素電極とを含み、画素電極は、隣接する微細枝部の間の間隔が第１距離の第１領域、隣接する微細枝部の間の間隔が第１距離より大きい第２距離の第２領域、及び第１領域と前記第２領域との間に位置し、微細枝部の間の間隔が段階的に変化する第３領域を含む。 （もっと読む）

【課題】外部光の強度によらず安定してタッチ有無を感知できる光センシング方式のタッチパネル内蔵型液晶表示装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】この装置は、ｎ（ｎは自然数）個の画素ごとにタッチセンサ部を有する液晶パネルと、液晶パネルに形成されたリードアウト配線から読み出し電圧値を受信するＲＯＩＣ読み出し部と、ＲＯＩＣ読み出し部に伝送された読み出し電圧値を、アナログからデジタル値に変換するＡＤＣ変換部と、バックライト光の印加時にＡＤＣ変換部から検出された値からバックライト非印加時にＡＤＣ変換部から検出された値を減算する演算部と、演算部から検出された値が所定値以上であるとき、該当する部位をタッチ部位として検出する位置検出部とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、第１基板と合着された第２基板内に配置されてゲート配線とデータ配線に接続されたトランジスタによって駆動する赤色、緑色及び青色サブピクセルと視野角制御用サブピクセルを有する液晶パネルを含み、視野角制御用サブピクセルは、第１基板の一面に形成された遮蔽電極と上部透明電極との間に形成されて上部透明電極に接続されて遮蔽電極と絶縁膜を間に置いて位置してストレージキャパシタを形成する下部透明電極を含む液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 個々の液晶表示パネルにおける残像を低減するとともに、複数枚の液晶表示パネル間における残像のレベルを均一化する。
【解決手段】 あらかじめ用意されたレイアウトデータに基づいて複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子、および複数の画素電極を形成する工程を有する液晶表示装置の製造方法であって、前記走査信号線を形成する工程は、前記レイアウトデータに基づいて作成される描画データによる数値制御で露光パターンを生成する空間光変調素子を有する露光装置を用いて感光性材料膜を露光する工程を有し、前記描画データは、前記レイアウトデータにおける前記走査信号線のうちの、前記ソース電極と重畳させる部分の形状が、前記走査信号線と前記ソース電極との間に介在する絶縁層の膜厚の分布に応じた面積になるように補正して作成する液晶表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】歩留まりおよび信頼性が高い表示パネルおよび電子書籍を提供することを課題とする。
【解決手段】走査線と信号線が交差する表示部を有する矩形シート状の可撓性表示パネル基板上に、前記可撓性の表示パネルの上面における一辺および該一辺と対向する一辺の少なくとも一方に設けられ、前記信号線に信号を出力する信号線駆動回路と、前記基板上に、前記信号線駆動回路と略垂直方向の前記可撓性の表示パネルの一辺および該一辺と対向する一辺の少なくとも一方に設けられ、前記走査線に信号を出力する走査線駆動回路と、を有する可撓性表示パネルの、少なくとも前記信号線駆動回路と前記走査線駆動回路と重畳する位置は、該重畳する位置以外の領域よりも機械的強度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１方向に並んだ第１画素電極及び第２画素電極を備えたアレイ基板と、第１画素電極及び第２画素電極に対向する対向電極を備えた対向基板と、アレイ基板と対向基板との間に保持された液晶層と、第１画素電極及び第２画素電極の各々の中間部に跨って対向し第１方向に延出する第１セグメントと、第１方向に直交する第２方向に延出するとともに第１セグメントと直交し第１画素電極と第２画素電極との間に対向する第２セグメントと、第２セグメントと同一直線上に延出するとともに第２セグメントから離間し第１画素電極及び第２画素電極の各々の上部の間に対向する第３セグメントと、第２セグメントと同一直線上に延出するとともに第２セグメントから離間し第１画素電極及び第２画素電極の各々の下部の間に対向する第４セグメントと、を含む配向制御手段と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】 不良の発生が抑制されるフレキシブル表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるフレキシブル表示装置は、プラスチック物質で形成されたフレキシブル基板、前記フレキシブル基板の一方の面上に形成された表示素子、及び前記フレキシブル基板の他方の面の少なくとも一部の領域に結合された金属物質及び金属酸化物質のうちの一つ以上の物質を含む表面残留膜を含む。 （もっと読む）

【課題】配線間の寄生容量を十分に低減できる構成を備えた半導体装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を用いるボトムゲート構造の薄膜トランジスタにおいて、ゲート電極層と重なる酸化物半導体層の一部上に接するチャネル保護層となる酸化物絶縁層を形成し、該酸化物絶縁層の形成時に酸化物半導体層の積層の周縁部（側面を含む）を覆う酸化物絶縁層を形成する。また、チャネル保護層に重ならないようにソース電極層及びドレイン電極層を形成し、ソース電極層及びドレイン電極層上の絶縁層が酸化物半導体層と接する構成とする。 （もっと読む）

【課題】画像品質を向上し、小型化でき、工程を簡略化して製造歩留まりの向上や信頼性の向上する。
【解決手段】反射部１１と光透過部１２とが画素部に設けられている第１基板１０と、第１基板１０と間隔を隔てて対向している第２基板８０と、第１基板１０と第２基板８０との間に配置されている液晶層１９とを有する液晶表示装置において、第１基板１０の光反射部１１に対応する液晶層１９側の領域に偏光層２１１を形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置と光センサとを備えた電気光学装置において、回路規模の増大や開
口率の低下を招くことなく、外光および表示すべき映像が暗くても、画面と指示物との接
触や近接を検出可能とする。
【解決手段】電気光学装置５００は、液晶素子ＬＣとこれを照らすバックライト２とを有
し、バックライト２から発して液晶素子ＬＣを透過した光を画面から出射させて画面に画
像を表示する液晶表示装置と、液晶表示装置の画面から入射した光を受光し、受光した光
の強度を検出するセンシング単位回路ＵＢとを備え、センシング単位回路ＵＢに検出され
た強度に基づいて、指示物で指示された位置を検出する。さらに、電気光学装置５００は
、表示単位回路ＵＡに、水平有効走査期間では映像データに応じた階調を、水平帰線期間
では最高輝度の階調を表示させる。 （もっと読む）

【課題】加熱効率を向上させること、或いは基板間導通材部近傍のギャップ不良を防ぎ、歩留り及び信頼性の向上を可能とすることなど、対向電極用及びヒータ層用の基板間導通材に同一の導電材料を用いることによる問題点の発生を防止でき、低温でも動作可能なヒータ層による加熱機構付きの液晶表示装置を得る。
【解決手段】本発明の液晶表示装置においては、スイッチング素子、及び外部接続端子を備えたスイッチング素子基板と、対向電極、ヒータ層、及びヒータ層−対向電極間に形成された絶縁層を備えた対向基板と、ヒータ層―スイッチング素子基板間の導通をとる基板間導通材及び対向電極−スイッチング素子基板間の導通をとる基板間導通材とを備え、これら基板間導通材は互いに異なる導電材料により形成されるものである。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置のコントラストと応答速度の両立を図る。
【解決手段】 表示電極の長辺４２と、配向制御窓５０の直線部分５１の距離ｄを短くすると、液晶の応答速度が速くなる。一方、配向制御窓５０を大きくする（距離ｄを短くすることに相当する）と液晶のコントラストが小さくなり好ましくない。前記距離ｄが、２５μｍ〜３０μｍ以下になると、応答速度向上の効果が少なくなる。したがって、距離ｄを２５μｍ〜３０μｍにすることが好ましい。また配向制御窓５０はその幅を７μｍ程度とすることがより好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来の横電界方式の液晶表示装置と同程度ないしはより優れた広視野角化及び画
質の向上化を図ることができる横電界方式の液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】一対の基板１１、２６間に液晶層３２が挟持され、一対の基板１１，２６の
液晶層３２とは反対側には一対の偏光板３９、４０が形成された横電界方式の液晶表示装
置１０であって、一対の基板１１、２６のいずれか一方に形成された偏光板３９は保護膜
３９ａ、偏光子３９ｂ及び２枚の負の２軸性フィルム４２で形成され、２枚の負の２軸性
フィルム４２は第１の負の２軸性フィルム４３と第２の負の２軸性フィルム４４とで構成
され、第１の負の２軸性フィルム４３及び第２の負の２軸性フィルム４４は共に重ねられ
て一方の基板１１側又は他方の基板２６側に配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物透明導電膜の上に反射電極用のＡｌ合金膜が直接接続された構造を備えた表示装置において、ＴＭＡＨ水溶液などのアルカリ現像液中での腐食が生じ難く、Ａｌ系合金膜の腐食を有効に防止することが可能な表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に酸化物透明導電膜を形成する第１の工程と、酸化物透明導電膜上にＡｌ合金膜を形成する第２の工程と、Ａｌ合金膜を加熱する第３の工程と、を包含し、Ａｌ合金膜は、Ｃｏを０．１〜４原子％、Ｌａを０．１〜２原子％含有するＡｌ−Ｃｏ−Ｌａ合金などであり、第２の工程における基板温度と第３の工程における加熱温度の関係について、（１）基板を加熱しないときは、加熱温度の下限を２００〜２５０℃に設定し、（２）基板温度を１００℃以上２５０℃以下に加熱するときは、加熱温度の下限を１００〜２００℃に設定する。 （もっと読む）

【課題】ある応力がかかっても回路全体としての動作特性が変化しない薄膜の半導体素子を実現し、これによって、動作マージンが広く大型化が容易なフレキシブルな半導体装置、電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置は、基板１００上に薄膜トランジスタ８を有し、この薄膜トランジスタ８は、基板１００の湾曲に対してチャネル内のキャリアの移動度が相補的に変化する第１のチャネル領域１ｃおよび第２のチャネル領域１ｃを有している。 （もっと読む）

【課題】第１基板（アレイ基板）と第２基板（カラーフィルタ基板）で液晶層を挟んでな
る横電界方式の液晶表示パネルの製造時に、カラーフィルターに設けられた内面シールド
層と、アレイ基板上のコモン引き回し配線との電気的接続が確実になされているか否かを
、汎用のテスターを用いて簡単に検査できるようにした液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】第１透明基板１１の表示領域１２の周縁領域に形成されるコモン引き回し配
線は、切除部Ｘが設けられていることにより、第１のコモン引き回し配線１６と第２のコ
モン引き回し配線１７とからなる。第１コモン引き回し配線１６は、導電接続部１９Ａを
介して、第２コモン引き回し配線１７は導電接続部１９Ｂ〜１９Ｄを介して、それぞれ内
面シールド層と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】表示不良の発生を抑制することが可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板２１０上において表示領域１２０に配置された画素電極２５０と、絶縁基板２１０上において非表示領域１３０に配置されたコモン電極５１０と、コモン電極５１０を覆う絶縁膜５３４と、絶縁膜５３４上に配置されるとともに絶縁膜５３４を貫通するコンタクトホール５２０ＣＨを介してコモン電極５１０と電気的に接続されたコンタクト部５２０Ｘを有する電極パッド５２０と、を備えたアレイ基板２００と、画素電極２５０に対向するとともに、電極パッド５２０に対向する対向電極３５０を備えた対向基板３００と、コンタクト部５２０Ｘを覆い、アレイ基板２００と対向基板３００とを貼り合わせるシール部材１１０と、電極パッド５２０と対向電極３５０とを電気的に接続する導電部材７００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】色再現性を高め、かつインクの充填率を高めることのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１絶縁基板と、第１絶縁基板の上に形成されているゲート線と、ゲート線と交差するデータ線と、ゲート線及びデータ線と接続される薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタ、ゲート線及びデータ線の上に形成され、断面の形状が上部ａと下部ａ’の幅が中心部ｂの幅より大きいことを特徴とする隔壁と、薄膜トランジスタと接続される画素電極とを含む。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１方向に一対の短辺を有するとともに第１方向に直交する第２方向に一対の長辺を有する略長方形状の第１電極を備えた第１基板と、第１電極に向かい合う第２電極を備えた第２基板と、第１基板と第２基板との間に保持され第１電極と第２電極との間に電界が形成されていない状態では基板主面に対して略垂直に配向する液晶分子を含む液晶層と、第１電極の略中央を横切り第１方向に延出した第１配向制御手段と、第１配向手段と一対の短辺との間にそれぞれ位置し第２方向に延出した第２配向制御手段と、第１方向に延出する第１配向制御手段と同一直線上及び第１電極のコーナー部の少なくとも一方に位置する第３配向制御手段と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】複雑な構造のマスクを用いることなく、かつ、透過率の調整が難しくなるのを抑制しながら、深さが異なる凹部とコンタクトホールとを容易に形成することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００の製造方法は、平坦化膜１２を除去することにより設けられるコンタクトホール１２ａを形成するためのコンタクトホール形成用のパターンと平坦化膜１２の表面側の一部を取り除くことにより設けられる窪み部１２ｂを形成するために露光限界解像度よりも小さい幅のスリット３１ｂを有する窪み部形成用のパターンとが形成されたマスク２９を用いて、平坦化膜１２のコンタクトホール形成領域およびサブ柱状スペーサー２６ｂに対応する領域を露光することにより、平坦化膜１２にコンタクトホール１２ａとサブ柱状スペーサー２６ｂに対応する窪み部１２ｂとを形成する露光工程とを備える。 （もっと読む）