【課題】 半透過型の平面表示装置において、フリッカが少ない良好な表示を得る。
【解決手段】 平面表示装置において、透過電極と走査線Ｇｎとの間の寄生容量ＣｇＡと、透過電極に対する全寄生容量ＣｌｏａｄＡと、画素電極１５ｂ、１７ｂと走査線Ｇｎとの間の寄生容量ＣｇＢと、画素電極１５ｂ、１７ｂに対する全寄生容量ＣｌｏａｄＢとを、ＣｇＡ／ＣｌｏａｄＡ＝ＣｇＢ／ＣｌｏａｄＢの関係式が成り立つように設定する。 （もっと読む）

【課題】高い開効率と大容量の補助容量を有する表示装置と製造工程を増やすことなくその表示装置を製造する方法とを提供する。
【解決手段】
補助容量ＰＣＳ１が走査線ＷＬｎ上に形成されるいわゆるＣＳオンゲート構造において、スイッチング素子であるトランジスタＮＴｒ１の導電性は、補助容量ＰＣＳ１の半導体膜からなる電極の導電性とは異なる。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、例えば、周辺回路に電源を供給するための配線等に必要な基板上の領域の面積を小さくし、更に外部回路接続端子に静電気が印加された場合にも周辺回路の静電破壊が発生するのを低減する。
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、複数の画素部と、該複数の画素部が配列された画素領域に配線された複数の走査線及び複数のデータ線と、走査線を介して画素部に走査信号を供給する走査線駆動回路と、複数の画素部の夫々にデータ線を介して画像信号を供給する画像信号供給回路とを備える。更に、走査線駆動回路に第１系統の電源を供給するための走査線駆動回路用電源配線と、該走査線駆動回路用電源配線の少なくとも一部と共通に形成された共通配線を含み、画像信号供給回路に第２系統の電源を供給するための画像信号供給回路用電源配線とを備える。 （もっと読む）

【課題】 駆動回路部において電源の電位を安定させる。
【解決手段】 ＴＦＴアレイ基板１０上に層間絶縁膜１２、４１、４２が形成されており、その上に分岐配線９１ｙ、層間絶縁膜４３、分岐配線９３ｙ及び層間絶縁膜４４がこの順で形成されている。層間絶縁膜４３は、分岐配線９３ｙを含む駆動電源線９３及び分岐配線９１ｙを含む共通電位線９１間を電気的に絶縁すると共に容量Ｃ１の誘電体膜として兼用されている。したがって、ＴＦＴアレイ基板１０上に駆動電源線９３及び共通電位線９１と、これら配線間に層間絶縁膜４３を形成することによって、容量とされるコンデンサ素子を設けることなく、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された多層構造をそのまま利用して容量を構成することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 素子基板上に大きな段差が発生することを防止可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】 アクティブマトリクス型の電気光学装置１において、画素スイッチング素子としての非線形素子５、および保持容量９を構成するにあたって、窒素添加タンタルによって素子用下電極６１および容量用下電極６２を形成する際、データ線２も同時形成する。窒素添加タンタルは立方晶系（α相）であり、抵抗率が低いので、データ線２の配線抵抗を低く抑えたい場合でも膜厚を薄くできる。従って、容量用下電極６２の表面に厚い容量用絶縁層７２が形成された状態においても、容量用下電極６２の膜厚が薄いので、素子基板２０上に大きな段差が発生しない。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置において、ラビングムラ及び横電界を低減する。
【解決手段】 電気光学装置は、一対の第１及び第２基板間に電気光学物質が挟持されてなり、第１基板上における画素アレイ領域に、第１方向に延びる第１間隙領域及びこれに交差する第２方向に延びる第２間隙領域を隔てて相互に配置されることで、マトリクス状に配列された複数の画素電極を備え、第２基板上に対向電極を備える。複数の第１凸部は、第１基板上に、第２基板に向かって凸に夫々形成されると共に、第１間隙領域に夫々配置され、第１方向に相互に分離して島状に形成される。複数の第２凸部は、第２基板上に、第１基板に向かって凸に夫々形成されると共に、第２間隙領域と第１間隙領域との交差領域に夫々配置され、該交差領域毎に相互に分離してドット状に形成される。 （もっと読む）

【課題】 保持容量に用いる容量用酸化膜を薄くすることにより、素子基板上に大きな段差が発生することを防止可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】 アクティブマトリクス型の電気光学装置１において、画素スイッチング素子としての非線形素子５、および保持容量９を構成するにあたって、タンタル膜からなる素子用下電極６１および容量用下電極６２を陽極酸化してなる素子用酸化膜７１および容量用酸化膜７２の上層に、ＩＴＯなどの金属酸化物層や、酸化物標準生成エンタルピーがクロムよりも高い金属層からなる素子用上電極８１ａ、８１ｂおよび容量用上電極８４を形成する。 （もっと読む）

【課題】反射モード及び透過モードで動作できる半透過型液晶表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透過部Ｂと反射部Ｄとを有する画素領域Ｐが定義された基板が設けられる。透明電極１６１は、薄膜トランジスタＴのドレイン電極１３７とストレージ電極Ｃとの間の第１絶縁層上に形成される。ストレージ電極Ｃは、データライン１３９と同一層に同一物質で形成される。反射部Ｄに凸凹型パターンを有する第２絶縁層が形成される。反射部Ｄの第２絶縁層上に反射電極１４９が形成される。反射電極１４９は、透過部Ｂで透明電極１６１と電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】工程の単純化を可能にする液晶表示装置とその製造方法に関する。
【解決手段】基板上でゲートラインと交差して画素領域を定義するデータラインと、前記ゲートライン及び前記データラインの間に形成された絶縁膜と、ゲート電極、ドレイン電極及びソース電極を含み前記ゲートライン及び前記データラインと接続された薄膜トランジスタと、前記画素領域それぞれで前記薄膜トランジスタと接続される複数の画素電極と、前記画素領域でそれぞれ前記画素電極と並べて形成された複数の共通電極と、前記複数の共通電極と接続された共通ラインと、前記ゲートライン、前記データライン及び前記共通ラインのうちの少なくとも一つと接続されたパッドを備え、前記ゲートライン、前記ゲート電極、前記画素電極、前記共通電極、前記共通ライン及び前記パッドは透明導電層を含む。 （もっと読む）

【課題】モリブデン／銅／窒化モリブデン多重膜配線用エッチング液を提供すること。また、前記エッチング液を利用する配線形成方法を提供すること。さらに、前記エッチング液を利用する薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】エッチング液、これを利用する配線形成方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法が提供される。モリブデン／銅／窒化モリブデン多重膜配線用エッチング液は過酸化水素１０ないし２０重量％、有機酸１ないし５重量％、トリアゾール系化合物０．１ないし１重量％、ふっ素化合物０．０１ないし０．５重量％及び残量の超純水を含む。 （もっと読む）

【課題】マスクの枚数を増やすことなく、ストレージキャパシタの電極間から半導体パターンを除去して高画質化を実現させる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるＴＦＴパネルの製造では、半導体パターンとＴＦＴのドレイン電極とを、同じマスクを利用したエッチングで同時にパターニングする。一方、画素電極の直下に形成される絶縁膜のパターニングには別のマスクを利用する。ドレイン電極を覆う絶縁膜の領域では、中央部の全体を感光させ、周辺部を半分の厚みまで感光させる。ストレージ電極の上方を覆う絶縁膜の領域は薄い一部を残して感光させる。ドレイン電極を覆う誘電膜をエッチングしてドレイン電極を露出させるとき、絶縁膜のその薄い一部がその下地の誘電膜を保護する。その後、絶縁膜のその薄い一部を画素電極の一部に置換し、保護された誘電膜を隔ててストレージ電極と対向させる。 （もっと読む）

【課題】遮光性を保持しつつ、浮遊容量の発生によるクロストークを防止できる反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】基板１表面には形成された複数のＭＯＳトランジスタ３及び補助容量部４上に反射画素電極６と、液晶と、透明電極を有する透明基板と、が順次積層され、ＭＯＳトランジスタ３のドレイン領域３Ｃに接続されたドレイン金属配線１１とゲート電極３Ｂとの間の距離をＸｄ、ソース領域３Ａに接続された接続線８とゲート電極３Ｂとの間の距離をＸｓとするとき、Ｘｄ＞Ｘｓであり、かつ補助容量部４の容量個別電極４Ａ、ゲート電極３Ｂ及びソース領域３Ａを取り囲み、かつ各容量個別電極４Ａの容量共通配線１４に接続するシールド用金属配線１５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】均一な画素電圧を維持できる液晶表示素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示素子は、第１及び第２基板と、第１基板と第２基板の間に形成された液晶層と、第１基板上にマトリックス状に定義された複数の画素と、第１基板上に第１方向に配置され、各画素を上下に隣接する第１及び第２画素に区画する複数のゲートラインと、ゲートラインと直交する第２方向に配置され、ゲートラインと共に第１及び第２画素を区画する複数のデータラインと、第１及び第２画素内に横電界を発生させる複数の第１及び第２電極と、データラインと交差するゲートライン上に形成され、第１及び第２画素を駆動させるスイッチング素子とを含み、スイッチング素子は、ゲート電極、半導体層、ソース電極、及びドレイン電極から構成され、ドレイン電極は、第１画素の第２電極に接続する第１ドレイン電極、第２画素の第２電極に接続する第２ドレイン電極から構成される。 （もっと読む）

【課題】 レジスト膜に付着した異物を除去し、パターン異常を低減する。
【解決手段】 洗浄液を用いてレジスト膜３０１を洗浄し、レジスト膜３０１に付着した臭化カリウム等の異物を除去する（Ｓ６）。尚、臭化カリウムに限定されず、各種工程の諸条件に応じてレジスト膜３０１に付着する異物が異なるため、これら異物をレジスト膜３０１から除去するのに適した洗浄液を用いてレジスト膜３０１を洗浄することが可能である。例えば、レジスト膜３０１に付着した異物に除去できるようにｐｈ値が調整された洗浄液を用いてレジスト膜３０１を洗浄してもよい。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の静電破壊強度を向上する。
【解決手段】保持容量ライン１３ＡにＬ字形の窪み部分Ｒ１を形成し、この窪み部分Ｒ１のスペースの中に収まるようにコンタクトホールＣ２Ａを配置したので、メタル配線１４が通されたコンタクトホールＣ２Ａと保持容量ライン１３Ａの間での電界は、窪み部分Ｒ１のエッジに沿って分散される。このため、コンタクトホールＣ２Ａの部分から保持容量ライン１３Ａへの静電気の放電が一箇所に集中なくなる。また、窪み部分Ｒ１のエッジがコンタクトホールＣ２Ａを中心として円弧を描いていることが好ましい。窪み部分Ｒ１のエッジは、概ね１／４の円を描いている。 （もっと読む）

【課題】バックライトから反射領域に入射した光を透過領域に誘導し、光利用効率を向上させることにより、全体の輝度を更に向上させた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明による半透過型液晶表示装置は反射領域に反射部材を含む。反射部材は好ましくは維持電極、またはドレイン電極と同じ層に形成され、更に好ましくは反射領域と透過領域との間の境界まで拡がっている。反射部材は維持電極やドレイン電極と共に反射電極の背面側で反射領域のほぼ全体を覆い、バックライト部から入射する光を反射電極に達する前に反射してバックライト部に戻す。それにより、バックライト部から反射領域に入射した光が、反射部材とバックライト部との間で反射を繰り返しながら、透過領域に誘導される。 （もっと読む）

【課題】白茶けが抑制されるとともに表示むらや焼き付きの発生を回避できて、表示品質が良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素毎に、副画素電極１２２ａ，１２２ｂと、バッファ容量１２６と、ＴＦＴ１１６，１１７，１１８とが形成されている。ＴＦＴ１１６，１１７はｎ番目のゲートバスライン１１１に供給される信号により駆動され、ＴＦＴ１１８はｎ＋１番目のゲートバスライン１１１に供給される信号により駆動される。副画素電極１２２ａはＴＦＴ１１６，１１８に接続され、副画素電極１２２ｂはＴＦＴ１１７に接続されている。また、ＴＦＴ１１８のドレイン電極１１８ａは、バッファ容量１２６の上部電極１１８ｃに接続されている。このバッファ容量１２６の下部電極１１８ｃは、ｎ＋１番目のゲートバスライン１１１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置に関し、優れた視角特性と高い輝度の得られる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】微細スリットを有する画素電極１６を備えたＴＦＴ基板とＴＦＴ基板に対向配置された対向基板との間に重合可能なモノマーを含んだ液晶を挟持させ、液晶に電圧を印加した状態でモノマーを重合させて、液晶の配向方向を微細スリットの延伸方向に規定する液晶表示装置であって、画素電極１６は、スイッチング素子に電気的に接続された直結部１６ａと、スイッチング素子から電気的に絶縁され、かつスイッチング素子のソース電極と同電位になる制御容量電極と静電容量を形成する容量結合部１６ｂと、直結部１６ａと容量結合部１６ｂとの間の間隙部１７とを有し、隣接する直結部１６ａと容量結合部１６ｂのそれぞれの微細スリット３０ａ、３０ｂの延伸方向が互いに直交している。 （もっと読む）

【課題】 ソース配線２からの漏れ電界による液晶３００の配向の乱れを低減すると共に、開口率が大きく、かつ、製造工程を増加することなくソース配線２と対向電極６との短絡が発生しにくい液晶表示装置及びその製造方法を得る。
【解決手段】 ソース配線２より下層にゲート絶縁膜８を介して、ソース配線２に沿って配置された第１の電極パターン１１と、ソース配線２より上層に層間絶縁膜９を介して、ソース配線２に沿って、且つ前記ソース配線２に実質的に重なり合わない位置に配置された第２の電極パターン１２とによって、ソース配線２からの漏れ電界を上下層に配置された電極パターン１１、１２により効果的に遮蔽する。また、第１の電極パターン１１はゲート配線１と、第２の電極パターン１２は対向電極６と同一層の導電膜で形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶等の電気光学装置において、積層構造や製造プロセスの単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、データ線及び走査線と、基板上でデータ線より下層側に配置された薄膜トランジスタとを備える。更に、基板上で平面的に見て薄膜トランジスタのチャネル領域に対向する領域を含む領域にデータ線より上層側に配置されており、画素電位側電極、誘電体膜及び固定電位側電極が下層側から順に積層されてなる蓄積容量と、画素毎に配置され且つ蓄積容量よりも上層側に配置されており、画素電位側電極及び薄膜トランジスタに電気的に接続された画素電極とを備える。固定電位側電極及び画素電位側電極の少なくとも一方は、第１の導電性遮光膜を含んでなる。 （もっと読む）