【課題】複数の機能ブロック毎に断線を検出するとともに、回路構成を簡単にし、断線の検知処理に伴う処理負荷を抑制すること。
【解決手段】第２の回路基板２０２は、所定の機能を有する第１の機能ブロックと、第１の機能ブロックと異なる機能を有する第２の機能ブロックとを有する。ＦＰＣ基板２０３は、第１の回路基板２０１と第１の機能ブロックとを接続する第１の信号線３０２、及び第１の回路基板２０１と第２の機能ブロックとを接続する第２の信号線３０４を有するとともに、第１の回路基板２０１と第２の回路基板２０２との間を往復して第１の信号線３０２の左右外側に配置される第１のダミー線３０３と、第１の回路基板２０１と第２の回路基板２０２との間を往復して第２の信号線３０４の左右外側に配置される第２のダミー線３０５とを有する。回路部３０１は、第１のダミー線３０３または第２のダミー線３０５の断線を検出する。 （もっと読む）

【課題】しきい値電圧の経時変化およびホットキャリア劣化が可及的に小さく、かつオン特性の低下が可及的に小さい薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート絶縁膜３６を窒化シリコン膜５０と酸化シリコン膜５３とで構成する。酸化シリコン膜５３は、二酸化シリコン（ＳｉＯ₂）膜５１と、組成式ＳｉＯ_x（ｘは１．２以上２未満の数）で表される組成を有する低酸化シリコン（ＳｉＯ_x）膜５２とで構成する。またはＳｉＯ₂膜５１と、屈折率が１．４６よりも大きく１．７以下であるＳｉＯ_x膜５２とで構成する。ＳｉＯ_x膜５２に接するように、活性層３７の微結晶シリコン膜６２を形成する。これによって、ＳｉＯ_x膜５２上に高密度に均一に結晶を成長させることができるので、均一でボイドの少ない微結晶シリコン膜６２を形成することができる。したがって、オン特性の低下を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】しきい値電圧の経時変化およびホットキャリア劣化が可及的に小さく、かつオン特性の低下が可及的に小さい薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極３２上に、ゲート絶縁膜３６として、第１ゲート絶縁膜５０と、第２ゲート絶縁膜５１とを形成する。第１ゲート絶縁膜５０を窒化シリコン膜で形成し、第２ゲート絶縁膜５１を酸化シリコン膜で形成し、第２ゲート絶縁膜５１の表面部にＡｒ含有層５２を形成する。Ａｒ含有層５２に接するように、微結晶シリコン膜６２を形成し、さらにｉ型非晶質シリコン膜６３およびＮ型非晶質シリコン膜６１を形成して、活性層３７を形成する。これによって、高密度に均一に結晶を成長させることができるので、均一でボイドの少ない微結晶シリコン膜６２を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置の温度上昇により生じる半導体装置に対する応力によってフィルム配線基板に設けられた配線が断線することを防止できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、互いに対向する２辺のうちの一方の端部に形成された入力端子部６と他方の端部に形成された出力端子部５とを有し、且つ、入力端子部６と出力端子部５との間に導体配線１６が形成された配線領域と該配線領域を覆う樹脂被膜８とを有するフィルム配線基板２と、フィルム配線基板２の上に設けられた放熱板３と、フィルム配線基板２における放熱板３と対向する位置に設けられた半導体素子１とを含む。樹脂被膜８は、フィルム配線基板２における入力端子部６、出力端子部５及び半導体素子１を除く配線領域の上に形成され、出力端子部５と放熱板３との間の領域が他の領域よりも厚く形成されてなる厚肉部８ａを有している。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成でフラット回路体の接続信頼性を高めて、各種の情報を液晶表示素子に確実に表示させることができる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置１は、各種情報を表示する液晶パネル１０と、該液晶パネル１０の内部から外部に導出される接続ケーブル１０ｂと、液晶パネル１０を保持するホルダ２１と、該ホルダ２１を覆うカバー部材２７とを備えている。ホルダ２１は、底壁２２と周壁２３とを有したケース状に形成されており、底壁２２の外縁部から延設され且つ液晶パネル１０の接続ケーブル１０ｂを表面上に位置付けて、ホルダ２１外部に導出する導出部２５を備えている。カバー部材２７は、前面壁２８と周壁２９とを有したケース状に形成されており、周壁２９の端部から延設され且つカバー部材２７がホルダ２１に装着された際に該ホルダ２１の導出部２５の凹部２６の表面上に位置付けられた接続ケーブル１０ｂを覆う覆い部２９ａを備えている。 （もっと読む）

【課題】第１基板に接続されるフレキシブル配線基板の折り曲げ時の断線を防止する。
【解決手段】第１基板と、前記第１基板に接続されるフレキシブル配線基板とを備え、前記フレキシブル配線基板は、前記第１基板上の端子と電気的・機械的に接続され、前記フレキシブル配線基板は、基材部と、前記基材部上に設けられる配線層と、前記配線層を覆うカバー部とを有し、前記フレキシブル配線基板の前記配線層は、前記第１基板上の端子部と電気的・機械的に接続される接続部分を有し、前記配線層の前記接続部分上の前記カバー部は除去されており、前記フレキシブル配線基板の前記配線層の前記接続部分の近傍の前記カバー部は、前記第１基板と重なっている。前記配線層の前記接続部分の近傍の前記カバー部は、前記第１基板に固定されている。 （もっと読む）

【課題】
液晶表示装置の機械的強度を改善すると共に、第１の基板と第２の基板に形成された配線との安定した電気的接続を確保することが可能な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】
第１の基板と第２の基板との間に液晶層を配置した液晶表示装置において、前記第１の基板は導電性を有する樹脂基板と偏光板とを有し、前記偏光板は前記樹脂基板の前記第２の基板と対向する面とは反対側の面に配置され、前記樹脂基板の主面は前記偏光板の主面から前記樹脂基板の主面の一部を露出する露出部を有し、前記第２の基板は複数の配線を有し、前記第１の基板は前記露出部を介して、前記複数の配線の少なくとも一つと電気的に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】転写元基板に設けられたパッドと、転写先基板に設けられた導電配線との電気的接続を安定させることが可能な半導体回路装置の製造方法などを提供する。
【解決手段】転写元基板１００上に剥離層１１０を介在させて、導電体からなる複数のバンプ１２５を有する半導体回路１２０を形成し、導電配線が形成された転写先基板と半導体回路１２０とを対向させ、導電粒子を含有する接着剤を介在させて押圧し、接着剤を広げ、接着剤を硬化させ、剥離層１１０における層内剥離及び界面剥離の少なくとも一方により、半導体回路１２０と転写元基板１００とを剥離させる剥離工程と、を備え、回路形成工程で形成される半導体回路１２０において、平面視で、複数のバンプ１２５が半導体回路１２０の第１の端辺に沿って形成され、複数のバンプ１２５と第１の端辺との間に電源配線１２３及び接地配線１２４の少なくとも一方が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工程を増やすことなく、配線の露出を防止することを目的とする。
【解決手段】金属層２２上に厚い第１部分２４と薄い第２部分２６を有するエッチングレジスト２８を形成する。エッチングレジスト２８を介して、半導体層２０及び金属層２２をエッチングによってパターニングして、金属層２２から配線３０を形成し、半導体層２０の配線３０下の部分を残す。配線３０の電気的検査を行う。第２部分２６を除去して第１部分２４を残す。残された第１部分２４を介して、半導体層２０を残す選択的エッチングによって、配線３０をドレイン電極３２及びソース電極３４に分離されるようにパターニングする。基板１０を切断する。配線３０をパターニングする工程で、ドレイン電極３２又はソース電極３４よりも基板１０の切断ライン方向の位置で、半導体層２０を残すように配線３０を切断するようにエッチングする。 （もっと読む）

【課題】高開口率化及び高精細化に対応した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】複数の走査線１２と、走査線を覆って形成した絶縁膜２１と、各走査線１２に交差する交差部１３Ｄを有する複数の信号線１３と、走査線と信号線とに隣接して配設した画素電極と、半導体層、ゲート絶縁膜、前記走査線に接続したゲート電極と、ドレイン電極１４ｂ及びソース電極１４ａの何れかで信号線に接続された一方の電極と、画素電極に接続されたドレイン電極及びソース電極の他方の電極と、ドレイン電極及びソース電極が信号線に沿う方向に直線状に配置された複数の薄膜トランジスタ１４と、第１の重ね合わせ部１７ａが交差部１３Ｄ上に重なり第２の重ね合わせ部１７ｃが一方の電極上に重なり一方の電極と信号線とを接続する複数の中継電極１７と、を具備し、中継電極の第１の重ね合せ部は走査線１２の幅方向の両側端部１２ｂ、１２ｃに対応する絶縁膜２１の段差部１３Ｅ，１３Ｄを覆う長さを有する。 （もっと読む）

【課題】断線部を修正できるアクティブマトリクス表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に格子状に設けられた走査線又は補助容量線と信号線とで囲まれた領域に絵素電極を設け、前記走査線又は前記補助容量線、前記信号線、および前記絵素電極にそれぞれスイッチング素子を接続したアクティブマトリクス表示装置は、前記走査線又は前記補助容量線の少なくとも一部をバイパスできるバイパスパターンを備え、前記バイパスパターンは、前記信号線が設けられている層と同じ層に、前記信号線の材料と同じ材料で形成され、前記バイパスパターンは、前記走査線又は前記補助容量線のパターンに実質的にカバーされ、前記バイパスパターンの長さは、隣接する２つの信号線の間の距離の少なくとも半分である。 （もっと読む）

【課題】基板と接続部材との密着性を向上させたときでも、基板と被接続部品との電気的な接続信頼性が低下するのを防ぐことができる基板の接続構造、及びこれを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】異方性導電フィルム（接続部材）２５を用いて、ソース・ゲートドライバ（被接続部品）１６が接続されるアクティブマトリクス基板５の接続構造において、アクティブマトリクス基板５の表面上に形成されるとともに、ソース・ゲートドライバ１６に設けられたバンプ（電極端子）１６ａが電気的に接続される電気配線（電極部）２０と、アクティブマトリクス基板５の表面上に設けられるとともに、異方性導電フィルム２５に固着される有機絶縁膜２４を備え、有機絶縁膜２４及び異方性導電フィルム２５の少なくとも一方に、シランカップリング剤を含ませる。 （もっと読む）

【課題】第１引き回し配線と第２引き回し配線との間のブリッジ接続部において、透明導
電性部材からなる接続電極の表面を被覆する有機樹脂膜のカバレッジ不良を抑制して、接
続電極の腐食を抑制した液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】ゲート絶縁膜１７及びパッシベーション膜２０及び平坦化膜ＯＶＬで被覆さ
れた第１引き回し配線１６ａと、ゲート絶縁膜１７の表面に形成され、パッシベーション
膜２０及び平坦化膜ＯＶＬで被覆された第２引き回し配線１６ｂとを有し、第１引き回し
配線１６ａの表面を露出させる第１コンタクトホール２１と、第２引き回し配線１６ｂの
表面を露出させる第２コンタクトホール２２とを被覆した接続電極２３によりブリッジ接
続する際、配線切り替え領域のブリッジ接続部分Ａでは平坦化膜を除去しておき、その接
続電極２３の表面を配向膜２４で被覆する。 （もっと読む）

【課題】良好な電気的接続を確保できる信号線引き回し配線と走査線引き回し配線との間
の透明導電性部材を用いたブリッジ接続を提供すること。
【解決手段】第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとの配線切り替え領域に
おいて、第１絶縁膜１７と第２絶縁膜２０を貫通して第１引き回し配線１６ａの表面を露
出させるコンタクトホールが複数個配設された第１コンタクトホール群２４と、第２絶縁
膜４を貫通して信号線引き回し配線１６ｂの表面を露出させるコンタクトホールが複数個
配設されてなる第２コンタクトホール群２５とを形成し、それらコンタクトホール群２４
、２５を被覆する接続電極２３で第１引き回し配線１６ａと第２引き回し配線１６ｂとを
ブリッジ接続する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の第二電極基板と回路基板を十分な接着強度を確保させながら接続を取る。
【解決手段】複数の画素電極を有する第一電極基板（下基板）と、該第一電極基板に相対する対向電極を有する第二電極基板(上基板)を備え、前記第一電極基板と前記第二電極基板がオフセットされ所定の間隔で貼り合わされた小型液晶表示パネルを、前記第二電極基板と回路基板の対向する面に有する電極を導電性媒体で電気的に接続する小型液晶表示装置において、回路基板の電極パッドを導電性媒体にて電気的に接続をとる際に、電極パッドと導電性媒体との接合面積を多く形成した小型液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】基板のクラックによる断線を回避して電気光学装置の信頼性や歩留りを向上させる。
【解決手段】本発明に係る電気光学装置は、基板(S1)と、基板上(S1)に配置され、画素領域(A1)と、画素領域(A1)の外周に位置する周辺領域(A2)とを有する絶縁層(12)と、上記画素領域に配置された電気光学素子と、周辺領域(A2)に配置され、上記電気光学素子を駆動する駆動回路(DC1,DC2)と、上記周辺領域に配置された外部端子(P)と、上記周辺領域に配置され、上記外部端子と上記駆動回路を電気的に接続する配線である引出配線(L1,L2)と、を有し、引出配線の少なくとも一部(L1)が基板(S1)と絶縁層(12)との間に配置される。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い効率で製造することが可能な、コンタクトホールの段差部における画素電極の断線を防止したアクティブマトリクス基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極１０と、ゲート電極を覆うように形成されたゲート絶縁層５０と、ゲート絶縁層の上に形成された半導体層４０と、半導体層と接触するように形成されたソース電極１１およびドレイン電極１２と、ソース電極およびドレイン電極の上に形成された第１層間絶縁層５４と、第１層間絶縁層の上に形成された画素電極２０と、第１層間絶縁層に形成された第１コンタクトホール５１と、第１コンタクトホール内に形成された第１金属層５５であって、厚さが第１コンタクトホールの深さより小さく、且つ、第１コンタクトホール内においてドレイン電極と電気的に接続された第１金属層５５とを備え、画素電極は第１コンタクトホール５１内で第１金属層に接触している。 （もっと読む）

【課題】参照配線や参照幹線に不良があった場合であっても、表示欠陥を防止できる基板、この基板を備える表示パネル、表示パネルの修正方法を提供すること。
【解決手段】参照配線１１３ａに不良の有無を検出する工程と、不良が検出された場合には不良参照配線１１３ｓを特定して不良箇所Ｓを特定する工程とを有するとともに、不良が断線である場合には、不良参照配線１１３ｓと予備配線１２４とを短絡する工程と、不良参照配線１１３ｓが伝送する信号と同じ信号を伝送する所定の参照配線１１３ｍと予備配線１２４とを短絡する工程とを有し、不良が他の導体との短絡である場合には、不良参照配線１１３ｖの不良箇所Ｕの前後両側の箇所を切断する工程と、不良参照配線１１３ｖと予備配線１２４とを短絡する工程と、不良参照配線１１３ｖが伝送する信号と同じ信号を伝送する所定の参照配線１１３ｗと予備配線１２４とを短絡する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】プリント回路基板のグランドパターンと金属製ベゼルとの間に挟み込まれて両者を導通接続する導電体の位置ずれを簡便に確認することができる表示装置を提供すること。
【解決手段】表示パネルと、該表示パネルの周縁部の上面および側面を覆うように被着される断面逆Ｌ字状の上壁と側壁を有した枠状の金属製ベゼルと、表示パネルの周縁部と金属製ベゼルの側壁との間で該側壁に対して略平行に離間して配置されるパネル駆動用のプリント回路基板と、金属製ベゼルの側壁とプリント回路基板に形成されたグランドパターンのランド部とを導通接続する帯状の導電体とを備え、金属製ベゼルの側壁には、外部から導電体を視認可能にする開口窓が設けられている。 （もっと読む）

【課題】比抵抗が低いながらも接触特性が良い接触部を含み、優れた接触特性を有する接触部を含む薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板と、ゲート線と、ゲート絶縁層と、半導体層と、データ線と、前記データ線と分離されているドレーン電極と、前記半導体層を覆っていて前記ドレーン電極を露出する第１接触孔、前記ゲート線の一部を露出する第２接触孔、前記データ線の一部を露出する第３接触孔を有する保護膜と、前記第１接触孔を通じて前記ドレーン電極と連結される画素電極と、前記第２接触孔を通じて前記ゲート線と連結されているゲート接触補助部材と、前記第３接触孔を通じて前記データ線に連結されるデータ接触補助部材とを含み、前記データ接触補助部材は凹凸を有することを特徴とする薄膜トランジスタ表示板を提供する。 （もっと読む）