【課題】ペリクル支持枠を配置するための載置部材をペリクル用収納容器から外れにくくする。
【解決手段】
ペリクル膜６と当該ペリクル膜６を支持する支持枠７とを有するペリクル５を輸送するためのペリクル用収納容器１において、トレイ３と、当該トレイ３の蓋となるカバー２と、トレイ３の内側に形成される凹部３０ｂと、支持枠７とが載置されると共に、トレイ３よりも剛性の高い材料で構成されている載置部材４と、を有し、載置部材４は凹部３０ｂに嵌合配置されている。 （もっと読む）

【課題】ペリクル用収納容器を構成するトレイと蓋をテープを用いて容易かつ強固に固定すること。
【解決手段】
ペリクル膜６と当該ペリクル膜６を支持する支持枠７とを有するペリクル５を輸送するためのペリクル用収納容器１であって、トレイ３と、当該トレイ３の蓋となるカバー２と、を有し、トレイ３およびカバー２の外周部に、平面を形成するように折り曲げた平面折曲部２１ｄ，３１ｄを備え、トレイ３にカバー２を被せた状態において、トレイ３の外周部とカバー２の外周部によって平面部４を形成する構成とした。 （もっと読む）

【課題】予測通りのマスクの平坦度を実際の露光装置で得られるマスクの製造方法、マスク平坦度測定方法、ペリクル装着装置、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態のマスクの製造方法は、露光マスクにペリクルを装着する工程を含むマスクの製造方法において、前記ペリクルを装着する工程（Ｓ１１０）において前記ペリクルが曝される雰囲気の第１の湿度を、前記ペリクルが装着された前記露光マスクが所定の露光装置内で曝される雰囲気の第２の湿度よりも低く制御する。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスクに、より確実に固定できるようにペリクルの支持枠にかかる荷重をより均一にして輸送可能なペリクル用収納容器を提供する。
【解決手段】 ペリクル膜６と当該ペリクル膜６を支持する支持枠７とを有するペリクル５を輸送するためのペリクル用収納容器１であって、トレイ３とこれの蓋となるカバー２と、トレイ３およびカバー２の少なくともいずれか一方の内側に、支持枠７を載置すると共に、トレイ３およびカバー２よりも剛性の高い材料で構成される載置部４とを備えるペリクル用収納容器１とする。 （もっと読む）

【課題】 保持枠が変形せず、ペリクル膜が変形することのない、取扱い及び搬送が容易で、簡単な構造で補強することのできるリソグラフィ用大型ペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 一辺の長さが300mm以上で、外形が４辺以上の辺より構成される枠体でペリクル膜を保持する大型ペリクルを収納する収納容器であって、該収納容器が樹脂で形成され、外形の少なくとも一部が収納容器より大きな容器補強体上に、該収納容器が載置又は載置後接合されてなることを特徴としている。なお、収納容器は、ペリクルを収めるカバーと該カバーを支持・運搬するためのトレーから構成されている。この容器補強体には、持ち運び用の取っ手を設けるとよい。また、容器補強体は、金属製又は樹脂製、あるいは樹脂と金属の複合材料や、樹脂と無機材料の複合材料で構成するのが好ましい。無機材料には、炭素繊維が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 長辺が３００ｍｍを超える大型のペリクル膜の製造において、平滑基板上に成膜されたペリクル膜を短時間で、かつ損傷を与えずに剥離するペリクル膜の剥離方法を提供する。
【解決手段】 フレームの長辺が３００ｍｍ以上の大型ペリクルの製造において、平滑基板上に成膜したペリクル膜１２を剥離治具１５を用いて剥離する際に、２つ以上の方向から剥離する。ペリクル膜を剥離する剥離治具が多角形状であることができる。 （もっと読む）

【課題】 収納するペリクルに異物が付着しないようにし、ペリクルの汚損を防止して品質を維持することの出来るフォトリソグラフィー用ペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 ペリクルを載置する容器本体と、ペリクルを被覆すると共に容器本体と互いに周縁部で嵌合係止する蓋体とからなるペリクル収納容器において、ペリクルフレーム外側面に設けられた穴にフレーム保持ピンを挿入してペリクルを保持する。前記容器本体が樹脂であり、前記容器本体に金属部品が接合されているものであること、ペリクルを保持する前記フレーム保持ピンを位置決めする位置決め部品と容器本体に組み付けた前記金属部品とが機械的に連結していること、ペリクルを保持する前記フレーム保持ピンのペリクルフレームとの接触部に弾性体を設置したこと、がそれぞれ望ましく、更に、前記容器本体および前記蓋体の材質が樹脂であり、それらの表面抵抗値が１×１０¹²Ω／□以下の帯電防止性能を有していることが更に、好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、搬送時にペリクルが動かず、容器を保管時にペリクルを変形させることなくしかもペリクルの出し入れに際し操作が簡単である容器を提供することにある。
【解決手段】ペリクルを容器の底面に対して平行に保持することができる平面を有し、該面は固定用の突起を有するものである箱と箱を覆う蓋からなり、箱と蓋はお互いに密着できるような部位を有するものであるペリクル用保管用容器である。 （もっと読む）

【課題】 汚染を防止しながら内外の圧力差を容易に緩和することができるペリクル及び転写基板を提供する。
【解決手段】 金属製のペリクルフレーム３の上面に、両面接着テープ等の粘着材５が付着されている。そして、その上にペリクル膜２が貼り付けられている。ペリクルフレーム３には、側面を貫通する複数の貫通孔が形成されており、それらの内部にセラミックス材等の多孔質材６が埋め込まれている。なお、貫通孔は切り欠き状のものではなく、その周囲にはペリクルフレーム３が存在している。従って、柱状の多孔質材６の側面は全てペリクルフレーム３に接しており、外部に露出することはない。また、ペリクルフレーム３のペリクル膜２とは反対側の面（下面）に、粘着材５と同様の粘着材４が付着されている。このように構成されたペリクル１は、フォトマスク又はレチクル等の基板１１に粘着材４を付着させることにより、基板１１に固定される。 （もっと読む）

【課題】短波長化が進むフォトリソグラフィ工程でもマスク基板上のヘイズの発生を効果的に防止することができるペリクルを提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィ用のペリクルを構成するペリクルフレームであって、アルミニウム合金の表面を陽極酸化処理したものからなり、硫酸イオン、硝酸イオン、塩素イオン、及び有機酸（シュウ酸、蟻酸、及び酢酸の総量）のそれぞれの含有量が、前記フレームの表面積１００ｃｍ^２あたり２５℃の純水１００ｍｌ中への１６８時間浸漬後の溶出濃度で１．１ｐｐｍ以下であることを特徴とするペリクルフレーム２及び該フレームの一端面に貼り付けたペリクル膜３とからなるフォトリソグラフィ用のペリクル１。 （もっと読む）

【課題】 従来の大型ペリクルを含め、大型ペリクルを搬送するのに適切な簡便な搬送方法を提供するものであり、そのための搬送用治具、及び大型ペリクルを収納するペリクルケースを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレーム上面にペリクル膜を設け、前記ペリクルフレーム下面にフォトマスクに接着するための粘着面を形成してなる大型ペリクルの搬送方法において、前記ペリクルフレーム下面の一部を前記大型ペリクルの搬送用治具の表面に一時的に粘着させて搬送することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 簡単な作業でペリクル膜及び仮枠を成膜基板から確実に剥離させる大型ペリクル用剥離装置を提供すること。
【解決手段】 少なくとも一辺が７００ｍｍ以上である大型のペリクル膜を形成するための成膜基板を載置する載置台と、前記載置台上に位置決めされた成膜基板に対して粘着固定される仮枠に当接し該仮枠を連続的に上昇させる上昇機構と、を有することを特徴とする大型ペリクル用剥離装置。 （もっと読む）

【課題】
簡便に脱着可能な保護カバーを備えたマスク構造体及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかるマスク構造体１００は、所定のパターンが形成されたパターン面を有するフォトマスク基板１０１と、フォトマスク基板１０１のパターン面側に、パターンを囲むように配置されたフレーム１０３と、フレーム１０３に貼り付けられ、フォトマスク基板１０１のパターン面と所定の間隔をあけて配置される保護体１０４と、を有するマスク構造体１００であって、フレーム１０３は、保護体１０４を保持する枠体１０３ａと、枠体１０３ａとフォトマスク基板１０１とを固定する柔軟性を有する自己粘着性の樹脂１０３ｂとを有し、枠体１０３ａの厚みは、フレーム１０３の全体の高さの半分以下であるものである。 （もっと読む）

フォトマスクおよびフォトマスク上に保護層を生成する方法が開示される。その方法は、基板の少なくとも一部に形成されたパターン層を備えるフォトマスクをチャンバー中に置く。酸素がパターン層に近接するチャンバー中に導入され、そのフォトマスクが、パターン層を不動態化してパターン層の光学的特性がクリーニングプロセスによって変化しないようにするために酸素とパターン層との間の反応を開始させる放射エネルギーに露出される。
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【課題】 ペリクル膜の張力によるフレームの内側への撓みを防止して露光領域の減少を防止するとともに、寸法精度およびフォトマスク上への貼付位置精度に優れたペリクルを得ることができるフレーム、及び該フレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 本発明のフレームは、枠体の少なくとも一対の辺において、その中央部が外側凸の円弧形状部、その両側に外側凹の円弧形状部、さらにその外側に直線形状部を有することを特徴とする。外側凹の円弧形状部の半径は、外側凸の円弧形状部の半径の１／３以上の大きさとするのが好ましい。
本発明は、枠体の少なくとも一対の辺長が、４００ｍｍ以上である大型のフレームに適用してより効果的である。 （もっと読む）

フォトマスク・アセンブリ、およびリソグラフィ工程中に生成される汚染物からフォトマスク・アセンブリを保護する方法を開示する。フォトマスク・アセンブリは、ペリクル・フレームと、ペリクル・フレームの第１の面に連結されたペリクル膜とから形成されるペリクル・アセンブリを含む。ペリクル・フレームはさらに内壁および外壁を含む。ペリクル膜と反対側のペリクル・フレームの第２の面にフォトマスクを連結する。リソグラフィ工程中に生成される気中分子状汚染物質（ＡＭＣＳ）がフォトマスクを汚染するのを防止するモレキュラー・シーブをペリクル・アセンブリと結合させる。
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短波長光（発振波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー、発振波長１５７ｎｍのＦ２エキシマレーザー）に対して高い透明性と耐久性を有する有用な含フッ素重合体をペリクル材料等として提供する。
ペリクル膜および／または該接着剤に用いられる重合体（Ｉ）が、下記単位（１）を必須とする重合体からなるペリクル。単位（１）とは、フッ素原子を含有し重合体主鎖を形成する連鎖が炭素原子とエーテル性酸素原子からなり、該主鎖を形成する炭素原子の１個以上は環基を形成する炭素原子であり、かつ該主鎖を形成するエーテル性酸素原子の１個以上は環基を形成しない酸素原子である単位。たとえば下式（Ａ１）で表される単位（ただし、ｎは１または２、Ｒ^Ｆ１は−Ｆまたは−ＣＦ_３、Ｒ^Ｆ２は−Ｆまたは炭素数１〜５のペルフルオロアルキル基、を示す。）。
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フォトマスク上にペリクル・アセンブリを自動的に装着するシステムおよび方法が開示される。この方法は、装着装置にフォトマスクを装填するステップと、フォトマスクに対向して装着装置の背板にペリクル・アセンブリを装填するステップを含む。背板は、装着装置によってフォトマスクおよびペリクル・アセンブリに加えられた力を測定する少なくとも１つのロード・セルを備える。少なくとも１つのロード・セルに関連する測定された力は、受け取られ、測定された力が最小限の力より大きい、またはそれとほぼ等しい場合、フォトマスク・アセンブリを形成するためにペリクル・アセンブリがフォトマスク上に装着される。
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透明のペリクル部材又は板が、間に気密空間を定義付けるようレチクルを横断して略平行に取り付けられる。ペリクルは、ペリクルの対向する端部で与えられた可撓性の接続部材によってフレーム上に取り付けられる。可撓性の接続部材は、「ベローズ」型配置の形状で有り得、レチクルに大して垂直である方向において最善の可撓性を与えるが他の全ての方向においては大きな抵抗性を与えるようにする。結果として、空間と周囲の大気との間の気体圧差における変化は、ペリクル自身の重さを使用してペリクルを支持する。言い換えれば、ペリクルは、気体圧差上に「浮いて」おり、圧差は、受動的に保持される。即ち電子接続、空気接続又は他の外付け接続は要求されない。

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