【課題】 正確なパターン転写を行うことが可能なフォトマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、複数のマスク基板それぞれの形状に関する第１のデータを取得する工程Ｓ１２と、複数のペリクルそれぞれの形状に関する第２のデータを取得する工程Ｓ１３と、第１のデータ及び第２のデータに基づいて、マスク基板とペリクルとの組み合わせを決定する工程Ｓ１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィ時のＥＵＶ露光マスクの表面での炭素系薄膜及び酸化物の生成を抑制することができる極紫外露光マスク用防塵装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】防塵装置５１には、極紫外露光マスク６１に対する防塵部材５２と、極紫外露光マスク６１と防塵部材５２との間の空間に、防塵部材５２側が極紫外露光マスク６１側よりも高電位となる電場を生じさせる電場生成手段５８と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の自重垂れ下がり量を可及的に抑制できるペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクルは、長方形状のペリクルフレーム１０にペリクル膜４４が貼付されたペリクル４２であって、複数本の太さが最大でも１００μｍの線状補強体１２が、ペリクル膜４４内に包有されて、ペリクルフレーム１０の互いに対向する長辺間に張設されている。ペリクル膜の製造方法は、平坦面にペリクル膜形成溶液を塗布して、形成予定のペリクル膜よりも薄層の下地層を形成する工程と、前記下地層上に線状補強体を張設する工程と、前記線状補強体を覆うように、前記ペリクル膜形成溶液を前記下地層上に塗布し、前記線状補強体を包有する所定厚さのペリクル膜を形成する工程とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ｉ線、ｈ線、ｇ線を含む、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を照射するリソグラフィ工程に好適な、安価で耐光性に優れたペリクル膜を提供する。
【解決手段】３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を照射するリソグラフィ工程において用いられるペリクル用ペリクル膜。このペリクル膜の特徴は、原料ペリクル膜２１の少なくとも露光光源側の表面に、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線に対する平均透過率が９０％以上であると共に、２００〜３００ｎｍの波長域の紫外線に対する平均透過率が５０％以下である紫外線吸収層２２が付与されてなる点にある。 （もっと読む）

【課題】 保管・輸送・開封に際しても、発塵することが少なく、袋に収納する製品、特にはペリクル容器の内部に収納されたペリクルを汚染することのないペリクル収納方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルを収納した容器をクリーン仕様の第一の袋に入れてその口を閉じ、次いでこれを帯電防止機能を有する第二の袋に入れてその口を閉じ、更に帯電防止機能を有する第三の袋に入れて密閉することを特徴とするペリクル収納方法である。 （もっと読む）

【課題】膜厚が均一な単結晶シリコン膜をペリクル膜として有する、EUV用ペリクルを提供すること。
【解決手段】厚さが20nm〜1μmの単結晶シリコン薄膜及び該薄膜を強化する補助構造からなるペリクル膜であって、前記単結晶シリコン薄膜と補助構造とが、酸化ケイ素層によって強固に結合されていることを特徴とするペリクル膜、及び、単結晶シリコン層、酸化ケイ素層及びシリコンハンドリング基板からなり、前記単結晶層及び酸化ケイ素層の厚さがそれぞれ20nm〜1μm、前記シリコンハンドリング基板の厚さが30μｍ〜300μｍであるＳＯＩ基板の前記シリコンハンドリング基板表面に補助構造用パターンを設けた後、酸化ケイ素膜が露出するまでドライエッチングをし、次いで露出した酸化ケイ素層を除去する工程を含むことを特徴とする、前記ペリクル膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高解像度化が求められているプリント配線板等の回路基板の製造に適したフォトマスク保護用フィルムを提供すること、及び、生分解性など分解性とすることが可能で、また、アルカリ処理により廃棄が可能な環境負荷が小さいフォトマスク保護用フィルムを提供すること。
【解決手段】式−（Ｏ・ＣＨ_２・ＣＯ）−で表わされるグリコール酸繰り返し単位を７０モル％以上有するポリグリコール酸を含有するフィルムを少なくとも１層備えるフォトマスク保護用フィルム、ポリグリコール酸を含有するフィルム及び他の熱可塑性樹脂を含有するフィルムとの積層フィルムを備えるフォトマスク保護用フィルム、並びに、これらフォトマスク保護用フィルムを使用する回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】マスクに貼り付けても、マスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクルフレームの一方の端面に接着剤層を介してペリクル膜が張設され、他方の端面にマスク貼付側の面が平坦な粘着剤層が設けられ、かつその粘着力が１Ｎ／ｍから100Ｎ／ｍの範囲にあることを特徴とし、前記粘着剤層のマスク貼付側の面の平坦度を15μｍ以下とし、ペリクル膜が貼付された前記接着剤層の面の平坦度を15μｍ以下とするのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を低減することができると共に、異物検査に優れたペリクル枠体及びペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠体２は、アルミニウム材で枠状に形成されており、アルミニウム材は、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、リン酸、及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１つの電解液で陽極酸化処理された陽極酸化皮膜Ｐが表面に形成されており、アルミニウム材の素材には、Ｃｕ：０．５〜３．０％、Ｍｇ：１．５〜４．５％、Ｚｎ：４．０〜７．０％を含む。 （もっと読む）

【課題】マスクの平坦性に影響を与えにくく、且つヘイズの低減を図ることができるペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠体２と、ペリクル枠体２の上縁面２ｅに展張支持されたペリクル膜３と、上縁面２ｅの反対側の下縁面２ｆに設けられた粘着剤１０とを備えるペリクル１であって、粘着剤１０は、アクリル系樹脂粘着剤であり、ペリクル枠体２は、Ｃｕ：０．５〜３．０％、Ｍｇ：１．５〜４．５％、Ｚｎ：４．０〜７．０％を含むアルミニウム材にて形成されている。 （もっと読む）

【課題】露光機内のマスクステージにマスクを装着した状態で、ペリクル上の透明性異物の検査を行うことができるペリクル及び露光装置を提供する。
【解決手段】ペリクル５０のペリクルフレーム５２に、ペリクル膜５１の表面上を伝搬する弾性表面波を発生させる弾性表面波素子２０Ａと、弾性表面波を受信する弾性表面波素子２０Ｂとを設け、当該弾性表面波によってペリクル膜５１上の異物の有無を検出する。このとき、ペリクル５０を装着したフォトマスク１を、露光機１００のマスクステージ１０３に載置した状態で異物検査を行う。また、弾性表面波素子２０Ａ，２０Ｂをペリクルフレーム５２に複数組設ければ、ペリクル膜５１上の異物の位置を特定できる。 （もっと読む）

【課題】寸法精度を確保しつつ、分割部材にて構成される枠部材に塗装材により塗装を行う場合であっても、塗膜の破損を抑制できるペリクル枠体、ペリクル及びペリクルの製造方法を提供する。
【解決手段】ペリクル１のペリクル枠体２では、分割枠体のコーティングにおいて、塗装材のガラス転移点を５０℃以上１５０℃以下としている。これにより、ペリクル枠体２に撓みが生じた場合であっても、ペリクル枠体２と塗装材との密着性を確保できているため、塗膜Ｐの剥がれを防止できる。また、所定の強度を有するため、ハンドリング治具等による塗膜Ｐの削れも防止できる。したがって、塗膜Ｐの亀裂等の破損の発生を抑制できる。また、分割枠体とすることにより、寸法を容易に調整することができるため、寸法精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜と接着剤層との接着性に優れたペリクルであって、繰り返しエアブローを行っても膜が剥がれにくいペリクルを提供すること。
【解決手段】光学用有機高分子材料をからなるペリクル膜と、前記ペリクル膜の表面上に接着された接着剤層と、前記接着剤層と接する枠体と、を備えるペリクルであって、前記接着剤層と前記ペリクル膜の間に、前記光学用有機高分子材料と前記接着剤層を形成させるために用いた接着剤成分との混合成分から形成される混合層を有することを特徴とするペリクル。 （もっと読む）

【課題】枠体の製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制する。
【解決手段】略矩形状に形成されて大型ペリクル膜３を展張支持する大型ペリクル用枠体２に少なくとも一つの接合部を形成し、この大型ペリクル用枠体２を構成する長辺２ａ，２ｂの一部に、外側に向けて屈曲した屈曲部１０ａ，１０ｂを形成する。このように、長辺２ａ，２ｂの一部を屈曲させるという簡易な方法により屈曲部１０ａ，１０ｂを形成できるとともに、展張した大型ペリクル膜３の張力により大型ペリクル用枠体２の辺が内側に撓んだとしても、大型ペリクル用枠体２の内側に入り込む辺の最大変位量を小さくすることができるため、製造容易性を確保しつつ露光有効面積の縮小を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】分割枠とする場合であっても接合部に枠体よりも剛性の高い部材等を用いることなく実用上問題のない剛性及び寸法安定性を維持すると共に、歩留まりを向上させることができるペリクル枠体及びペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル１のペリクル枠体２では、接合部２２ａ〜２２ｈにおける接合強度を１０ｋｇｆ以上としているため、分割枠体であっても、撓みや歪みを抑制できると共に、剛性を確保することができる。また、分割枠体とすることで、寸法を容易に調整することができ、寸法精度を確保することができると共に製造工程を簡易化できる。そのため、接合部を有さない枠体と同様の寸法精度を容易にでることができる。したがって、分割枠体を用いる際に、接合部２２ａ〜２２ｈに剛性の高い部材等を用いることなく剛性及び寸法安定性を維持できると共に、歩留まりを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの枠体として使用に耐え得る剛性を確保した上で、寸法安定性を向上させ露光中の有効露光面積を保つことができるペリクルを提供する。
【解決手段】平面視矩形状の開口部４を備えるペリクル用枠体２であって、開口部４の周縁を形成する枠部を備え、枠部は、枠部の端部同士が化学反応型の接着剤で接合されてなる接合部Ｊを有する。ペリクル１は、ペリクル用枠体２と、ペリクル用枠体２の開口部４を覆うように展張支持されたペリクル膜３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ペリクルからの発ガスを抑制し、フォトマスクからペリクルを簡単に剥がせるペリクルのフォトマスクへの取り付け構造を提供すること。
【解決手段】ペリクルフレーム４は矩形の筒状を呈し、４つの平坦な側面を有しており、係止用突起５は、各側面のペリクル膜１寄りの箇所に設けられている。掛け止め部材６の装着は、第２腕部６Ｃを係止用突起５に係止させ、第１腕部６Ｂを、ペリクルフレーム４の延長上に位置するフォトマスク２０（石英基板２１）の背面箇所に係止させることで行なわれる。これにより、第１腕部６Ｂと脚部６Ａとが交わる部分や第２腕部６Ｃと脚部６Ａとが交わる部分が撓み、ペリクルフレーム４の軸方向の他端をフォトマスク２０の表面に押圧する。 （もっと読む）

【課題】空間内に存在する化学物質を容易に回収可能な回収装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る回収装置は、一つ又は複数の部材によって構成された空間内の物質を回収する回収装置であって、上記空間内に気体又は溶媒を導入するための導入口を上記部材に形成する、導入用ニードル１３と、上記導入口を介して上記空間内に上記気体又は溶媒を供給する供給配管１４と、上記空間から上記物質を含む上記気体又は溶媒を排出するための排出口を上記部材に形成する、回収用ニードル１５と、上記排出口を介して上記物質を含む気体又は溶媒を回収する回収配管１６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光のような短波長のレーザー光を用いて長期間使用しても、フォトマスク上へのヘイズの析出を防止しうるリソグラフィ用ペリクルを提供する。また、そのリソグラフィ用ペリクルに張設するペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ用ペリクル１は、枠状のペリクルフレーム４の一方の開口枠にリソグラフィ用のレーザー光を透過するペリクル膜２が張設されており、ペリクルフレーム４の他方の開口枠がフォトマスク１０に貼着可能なリソグラフィ用ペリクル１であって、ペリクル膜２が、異物粒子１６を通過不能でガス分子１５を通気可能な孔サイズで貫通する通気孔７を有しているものである。 （もっと読む）

【課題】 マスクに貼り付けてもマスクに歪みを与えることの少ないリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 ペリクルフレームの一端面に膜接着剤が設けられ、その接着剤によりフレームにペリクル膜が張接され、もう一方のフレーム端面に粘着層が設けられ、前記接着剤層の表面の平坦度が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）