【課題】搬送時にトレイの底面がリフターの爪により突き上げられた時にペリクル膜に該トレイが接触することを防止できるペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】ペリクルを載置するトレイと、該トレイの天面に被せる蓋と、該トレイの底面に配置された脚部とを有するペリクル収納容器であって、前記トレイは、ペリクル収納時に、天面の一部が前記ペリクル又は前記蓋のいずれかに接触し底面の一部が前記脚部と接する外周部と、該外周部の内側に位置し天面が前記ペリクル及び前記蓋のいずれにも接触しない内周部とを有し、該外周部は天面と底面との間に枠材を有し、該内周部は天面と底面との間に中空部を有することを特徴とするペリクル収納容器。 （もっと読む）

【課題】蓋の剛性を上げて、蓋とペリクルとの接触等を防止でき、また蓋の取り外し作業を簡単に行うことができ、さらに蓋とペリクル載置台との隙間の発生を防止できるペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】ペリクル収納容器１の蓋４は、ペリクル収納時にペリクル載置台３に接触する外周部１０と、外周部１０の内側に位置しペリクル載置台３と接触しない内周部１１を有している。内周部１０は、中央に位置する天井部２０と、天井部２０と外周部１０を接続する側面部２１とを有している。側面部２１は、垂直断面が曲率半径５ｍｍ以上５０ｍｍ以下の複数の湾曲線分２１ａ、２１ｂを含む複数段の曲線形状を有している。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを剥がすことなく簡便かつ確実に熱分解性の汚染物質を除去すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る洗浄装置は、ペリクル２４が取り付けられたマスク基板２１のパターン面に付着した熱分解性の汚染物質に対して、ペリクル２４を介して波長８〜１１μｍのレーザ光を照射する炭酸ガスレーザ１２を備え、照射されたレーザ光によりマスク基板２１を加熱し、汚染物質を熱分解して除去する。炭酸ガスレーザ１２は、パルスレーザ光を照射する。 （もっと読む）

【課題】ペリクル収納容器の軽量化と共に、ペリクルの品質を高く維持できるペリクル収納容器を提供すること。
【解決手段】ペリクル膜およびペリクル膜を支持する支持枠を有するペリクルを、トレイ４と当該トレイ４と対向配置されるカバー１Ａの間に形成される空間に収納して輸送するためのペリクル収納容器１であって、支持枠を保持するための保持部材２を備え、保持部材２は、弾性部材３を介してトレイ４に配置されているペリクル収納容器１としている。 （もっと読む）

【課題】 ペリクルを貼り付ける前後で平坦度及び形状の変化が小さいフォトマスクを製造することができるフォトマスクブランクスを選択する方法及び製造する方法を提供する。
【解決手段】 ペリクルを貼り付ける領域内において、フォトマスクブランクスの中心を対称点として点対称の関係にある二点の高低差が０．１５μｍ以下であるか、フォトマスクブランクスの中心を中心とした同心円上の点における高さのバラツキが０．２０μｍ以下であるものを選択するフォトマスクブランクスの選択方法、及び、ペリクルを貼り付ける領域内におけるフォトマスク用基板の中心を対称点として点対称の関係にある任意の二点の高低差又はフォトマスク用基板の中心を中心とした同心円上の点における高さのバラツキが所定の値であるフォトマスク用基板を準備してフォトマスクブランクスを製造する方法、並びにこれらにより選択又は製造されたものを用いるフォトマスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、収納・移送・保管時にはトレイに確実な保持固定が可能なペリクル構造体と、フォトマスク等に貼り付ける際には簡単に歪みやたわみを発生させることなく収納容器からペリクルを取り出すことを可能とせしめるペリクル収納構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】枠体と、該枠体の上縁面に接着されたペリクル膜と、該枠体の下縁面に塗着された粘着材からなる粘着材層と、該粘着材層に粘着された保護フィルムからなり、該ペリクル膜が面積１００００ｃｍ^２以上の大型ペリクル構造体であって、枠体が矩形の形状を有し、保護フィルムが該枠体より外側に突出した第一の押さえ代を有しており、該第一の押さえ代は該枠体の一頂点を含む二辺上に位置するとともに該枠体の形状に沿ったＬ字形状を有していることを特徴とする大型ペリクル構造体。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器及びその製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。
【解決手段】 ペリクル１を収納して保管、搬送するために用いられる大型ペリクル収納容器であって、ペリクル１を収納する樹脂材料からなるトレイ２と、該トレイ２を被覆する樹脂材料からなる蓋３とからなり、該トレイ２または蓋３の少なくとも一方の外面側に、当該外表面の凹凸部をなくすように補強板４を取り付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ヘイズの発生有無の検査や発生した際のペリクル膜の再度貼作業を行うことなく、フォトマスクの特にマスクパターン形成面における有機ヘイズの発生を確実に防止し、従来の露光環境でも有機ヘイズを発生させることなく、フォトマスクを使用する。
【解決手段】昇温脱離ガス分析法（ＴＤＳ法：Thermal Desorption Spectroscopy）により測定された、測定用基板の単位面積当たりに吸着したＤＢＰ量が０．０１[ｎｇ/ｃｍ²]以下の環境下において、フォトマスクに紫外線を照射する使用前処理を行う。その後は、０．０１[ｎｇ/ｃｍ²]より多い環境で当該フォトマスクを露光転写工程に供しても良い。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィに関連するサイズ範囲のパーティクルを分解することができ、かつ、受け取った任意のパターンデータに基づいて動的に調整することができるパーティクル汚染を検出する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。第１のディテクタは第１の成分を検出するよう構成される。フィルタは検出された第１の成分に基づいて第２の成分を適応的に変化させるよう構成され、第２のディテクタはフィルタリングされた第２の成分を検出するよう構成される。結像デバイスは、検出された第２のフィルタリングされた成分に対応する像を生成し、この像はパターニングデバイスの表面上のパーティクルのおおよその位置を示す。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の再貼付を要さず、ペリクル膜に悪影響を及ぼすことなく容易且つ確実に、フォトマスクに発生した異物を除去し、又はフォトマスクにおける異物の生成を当該異物が微小な段階で抑止して、フォトマスクを信頼性の高い露光に供する。
【解決手段】光出射部２は、干渉フィルタ１２を介して、異物１０の主成分となる硫酸アンモニウムは吸収し、且つレチクル２０の構成要素であるペリクル膜２２ｂ（例えばフッ素系樹脂を材料とする。）及び基板２１（例えば石英を材料とする。）が吸収しない波長３．２μｍ付近（３．２μｍを中心として３．０μｍ〜３．４μｍ程度の波長）の赤外線を異物１０に照射する。 （もっと読む）

【課題】蓋の天面部に加わる外力により内部が減圧状態になることを防止できるペリクル収納容器を提供すること。
【解決手段】面積１０００ｃｍ^２以上の大型ペリクルを収納するための、少なくとも蓋と、該ペリクルを載置するペリクル載置台とから構成されるペリクル収納容器において、前記蓋の開封作業時に蓋の変形を防止する変形防止手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを汚染または損傷することなく、マスクから除去する装置および方法を提供する。
【解決手段】装置は、ペリクルを備えるマスク操作用の少なくとも１つの把手部と、圧力を印加されてマスクの縁に係合する、少なくとも２つの固定部材と、ペリクルの径方向外縁部に形成されるマウントの位置を非接触に判断する少なくとも１つの検出器と、材料親和性によりマスク1にペリクルを固定する接着剤を加熱する加熱装置と、マスク固定ユニットおよびペリクル除去ユニット５を有するペリクルの除去装置とを、備える。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを剥がすことなく、ペリクル付きフォトマスクに存在する成長性異物を除去するペリクル付きフォトマスクのリペア方法及び装置を提供する。
【解決手段】ガス混合機５によりチャンバー２内に収容されたペリクル付きフォトマスク１の内部空間および外部空間に活性ガスと不活性ガスとの混合ガスを供給し、これによりペリクル付きフォトマスク１の異物を反応させて溶解させる。さらに、光照射装置３によりペリクル付きフォトマスク１および活性ガスに低波長の光を照射し、異物の反応性を高め、混合ガスの気流によりペリクル付きフォトマスク１の異物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大型ペリクル用の収納容器において、特に真空成形を用いて製造した容器であっても、洗浄性を損なわずに剛性を向上させることのできる大型ペリクル収納容器を提供することを可能にすることを目的としている。
【解決手段】 ペリクル１を収納して保管、搬送するために用いられる大型ペリクル収納容器であって、ペリクル１を収納するトレイ２と、該トレイ２を被覆する蓋３とからなり、該トレイ２または蓋３の少なくとも平面部は二重構造であって、２枚のトレイ２ａ，２ｂの間にハニカム構造42を設けて構成したことを特徴とする。
【選択図】 図５
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【課題】ペリクル付着装置及びそれを利用したペリクル付着方法を提供する。
【解決手段】レチクル１４０上にペリクルフレーム１２０を含むペリクルを付着する装置であって、ペリクルフレーム１２０がレチクル１４０に付着される領域中の複数の点または面にそれぞれ個別的な圧力をペリクルフレーム１２０上に印加できるように構成されたペリクル加圧板１１０を備えるペリクル付着装置である。 （もっと読む）

表面の清浄化に有用なデバイス及び方法、特に、半導体産業、光学系などに典型的に使用される構成要素の表面の清浄化に有用なデバイス及び方法を提供する。本発明は、清浄化される表面のすぐ上方の環境へのアクセスが限定的であるか又はできないターゲット表面のレーザ表面清浄の方法である。本方法は、基板損傷の危険性の少ない表面を清浄する機能を含む。本方法は、汚染された基板表面の直接レーザ励起と基板から汚染粒子又は汚染層への熱伝達とを含む。本方法はまた、熱ベースの除去をもたらす段階と、表面清浄をもたらすのに必要な温度を基板材料の熱損傷レベルよりも低く保つことによって基板損傷の危険性を低減する段階とを含む。更に、本方法は、比較的長いパルス幅の利用によって基板損傷の危険性を低減する段階と、小さい汚染物質／粒子の除去の改善を提供する段階と、基板環境筐体の一部である表面に対して配置された材料を通過するようにビームを誘導する段階とを含む。 （もっと読む）

本発明は、部分吸収薄膜が配置されたフォトマスク基板の方向に電磁放射線を誘導する段階と、フォトマスク基板に温度上昇を発生させる段階と、薄膜の位相遅延損失の少なくとも一部分を回復させる段階とを含むフォトマスクの有効耐用年数を増加させる方法を提供する。電磁放射線は、フォトマスク基板の高吸光係数と実質的に一致する波長を有する。 （もっと読む）

【課題】 シート材を成形したものでありながら、他の補強体を用いずとも、保管、輸送中の外力に耐え、内部に収納したペリクルへの異物付着を防止する十分な剛性を有する、軽量かつ低コストのペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 容器本体および蓋体は、樹脂のシート材を成形したものであり、その外周長辺と外周短辺の接続部は、平面方向に見た場合に、長辺と成す角度が３０°以上６０°未満であり、かつ、長さ５０ｍｍ以上の直線形状、あるいは、半径４０ｍｍ以上の円弧形状に形成されていることを特徴とする。さらに、容器本体の互いに平行な２辺が、側面方向から見た場合に、外周部が少なくとも２段の立面を有する形状に形成されていることも良い。 （もっと読む）

【課題】 真空成形後の外周加工において適切な加工方法を確立し、端面にバリ等の欠陥が無い清浄なペリクル収納容器を低コストで得る。
【解決手段】 樹脂のシート材を真空成形後、シート材周囲の余剰部分を切削除去してペリクル収納容器部材とし、次いで、前記余剰部分除去後の表面部分に有機溶剤の塗布等の溶解処理を施す。切削加工後の表面に生じたバリを容易に溶解除去し平滑にできるため、端面が清浄なペリクル収納容器を低コストで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、収納・移送・保管時にはトレイに確実な保持固定が可能であり、かつ、フォトマスク等に貼り付ける際には簡単に歪みやたわみを発生させることなく収納容器からペリクルを取り出すことを可能とせしめる保護フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の大型ペリクルの保護フィルム５は、枠体１と、枠体の上縁面に接着されたペリクル膜３と、枠体の下縁面に塗着された粘着材４とからなり、ペリクル膜の面積が１０００ｃｍ^２以上である大型ペリクルＡの粘着材を保護するために枠体の下面に粘着された大型ペリクルの保護フィルムであり、保護フィルムは、枠体より外側に突出させた押さえ代を有し、かつ、押さえ代を利用して粘着テープを介して平板上に大型ペリクルを固定した時の押さえ代の単位長さ当りに掛かる荷重が０．４２ｇ／ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）