【課題】 輸送中の発塵が極めて少なく、収納したペリクルが清浄に保たれる大型のペリクルを収納するペリクル収納容器を提供する。
【解決手段】 少なくともひとつの辺長が１０００ｍｍを超えるペリクルを収納する大型のペリクル収納容器であって、ペリクル収納容器本体は金属製であるとともに、周縁で載置・固定する蓋体が接触する該ペリクル収納容器の表面に、保護部材が設けられ、ペリクル収納容器本体と蓋体とは該保護部材を介して載置・固定することを特徴とする。前記保護部材は、少なくとも２層からなっており、その蓋体と接する層（上層）は樹脂であり、ペリクル収納容器本体と接する層（下層）はシリコーン粘着剤であることが好ましく、中間層として弾性体層を有することがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来の方法で作製されたフォトマスクは、193nmの波長の光を使って露光されるうちにマスク上に形成された素子が太くなることが報告されていた。このような現状から、素子寸法変動が抑制されたフォトマスクおよびその製造方法の確立が本発明の課題である。
【解決手段】透光性基板１００上に遮光性膜パターン１１１が形成されたフォトマスクであって、少なくとも遮光性膜パターン１１１が形成された側のフォトマスク表面における硫酸イオンや硫酸塩の残渣量を０．３０ｐｐｂ未満とすることによって素子寸法変動を抑制させられることが確認できた。これにより、素子寸法変動を懸念することなくフォトマスクを使用できる。 （もっと読む）

【課題】 大型のペリクルを収納するペリクル収納容器で、安全に、運搬することができるペリクルの収納容器を提供する。
【解決手段】 ペリクルの収納容器１０は、ペリクルを載置するペリクル収納容器本体１１と、その周縁部がペリクル収納容器本体１１の開口部に嵌合することによって、ペリクルをペリクル収納容器１１本体との間に収納可能な蓋体１２と、ペリクル収納容器本体１１の底部に設けられた６つ脚部１３とを備え、脚部１３が、ペリクル収納容器１０を搬送する搬送手段の回動可能な載置台に嵌合可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】露光機内のマスクステージにマスクを装着した状態でフォトマスク上の異物の有無を検査することができるフォトマスク及び露光装置を提供する。
【解決手段】フォトマスク１のマスク基板１０の表面に、マスク基板１０の表面上を伝搬する弾性表面波を発生させる弾性表面波素子２０Ａと、弾性表面波を受信する弾性表面波素子２０Ｂとを設け、当該弾性表面波によって半導体回路パターン４１の異物の有無を検出する。このとき、フォトマスク１を露光機１００のマスクステージ１０３に載置した状態で異物検査を行う。また、弾性表面波素子２０Ａ，２０Ｂをマスク基板１０上に複数組設ければ、半導体回路パターン４１の異物の位置を特定できる。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光のような短波長のレーザー光を用いて長期間使用しても、フォトマスク上へのヘイズの析出を防止しうるリソグラフィ用ペリクルを提供する。また、そのリソグラフィ用ペリクルに張設するペリクル膜の製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ用ペリクル１は、枠状のペリクルフレーム４の一方の開口枠にリソグラフィ用のレーザー光を透過するペリクル膜２が張設されており、ペリクルフレーム４の他方の開口枠がフォトマスク１０に貼着可能なリソグラフィ用ペリクル１であって、ペリクル膜２が、異物粒子１６を通過不能でガス分子１５を通気可能な孔サイズで貫通する通気孔７を有しているものである。 （もっと読む）

【課題】 ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを課題とする。
【解決手段】 ペリクルを載置するペリクル収納容器本体２０と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体２０と周縁部で嵌め合い係止する蓋体からなるペリクル収納容器において、樹脂製の容器本体２０あるいは蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結手段により取り付けられているとともに、容器本体２０あるいは蓋体の内側にオスネジ及びメスネジの表面が露出していないペリクル収納容器である。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを損傷させることなく、異物を除去することができる異物除去装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る異物除去装置１０は、ペリクルフレーム２３を介してペリクル２２が装着されたマスク２０のペリクル２２上の異物を除去する異物除去装置であって、ペリクル２２側から超音波を照射して、ペリクル２２の近傍を腹とする定在波を発生させる超音波発生手段１１を備える。また、ペリクル２２と異物２５との間の静電気を除去するイオナイザ１２をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムにおいて用いられるレチクルを保護する取外し可能なカバーを提供すること。
【解決手段】 取外し可能なカバーは、フレームと、上記フレームによって支持される薄膜とを含む。上記薄膜は、検査波長に対して透過性であるため、所定位置にある上記取外し可能なカバーを用いて、上記レチクルを検査することが可能である。上記取外し可能なカバーが所定位置にあり、かつ、リソグラフィによる露光を行う際に取外し可能である場合、この取外し可能なカバーは上記レチクルを保護する。上記取外し可能なカバーは、少なくとも１つのレチクルファスナをさらに含み得る。上記取外し可能なカバーが所定位置にある場合、上記少なくとも１つのレチクルファスナは、上記レチクルに力を加えて、これにより、上記取外し可能なカバーが上記レチクルに対して動くのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】ペリクルの搬送性を向上し、且つ粘着剤層の劣化を抑制できるペリクル梱包体及びペリクル梱包方法を提供する。
【解決手段】ペリクル梱包体１では、ペリクル２における粘着剤層８の層面８ａと載置面５ａとの成す角度が０°よりも大きく９０°よりも小さくなるように、ペリクル２が支持体５によって支持されている。このように、ペリク２ルを載置面５ａに対して傾斜した状態で保持することにより、ペリクル２を水平に保持する構成に比べて、梱包箱４の幅寸法を小さくすることができる。そのため、搬送スペースを確保できると共に持ち運び易くなり、搬送性の向上を図ることができる。また、ペリクル２を垂直に保持する構成に比べて、ペリクル２の自重による粘着剤層８への負荷を軽減できるので、粘着剤層８の経時劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクル膜とペリクルフレームと粘着剤層とを有し、前記ペリクル膜が前記ペリクルフレームの上端面に張設され、前記粘着剤層が前記ペリクルフレームの下端面にペリクルフレームを基板に貼り付け可能に設けられてなるペリクルであって、更に、前記ペリクルフレームの内壁面に、主鎖にパーフルオロ構造を有するパーフルオロ化合物を含有する硬化性組成物の硬化物からなる内壁粘着剤層を有することを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
【効果】長期使用時に粘着剤層にＡｒＦエキシマレーザー光が照射されても、分解ガスの発生が少なく、ヘイズの発生が少ないペリクルを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクからペリクルを剥離する際に糊残りが発生しにくく、且つ、耐荷重性に優れたペリクルを提供する。
【解決手段】ペリクル枠と、該ペリクル枠の一端面にペリクル膜を有し、他端面に粘着剤を有するペリクルであって、該粘着剤が、炭素数４〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとエポキシ基との反応性を有する官能基を有するモノマーとの共重合体である（メタ）アクリル酸アルキルエステル共重合体と、多官能性エポキシ化合物との反応生成物を含み、且つ、該粘着剤の引っ張り速度３０ｍｍ/ｍinでの引っ張り試験によって得られる２３℃における３００％モジュラス値が５０〜３５０mN/ｍｍ^２であるペリクル。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって使用をしても、透過率の低下を抑制することができるリソグラフィー用ペリクルを提供する。
【解決手段】 フレーム６と、フレーム６の一方の表面に接着されたペリクル膜７を有し、ペリクル膜７が、耐クリープ性の低い接着剤よりなる接着剤層によって、フレーム６の一方の表面に接着され、時間経過とともに、ペリクル膜７の張力が徐々に低下するように構成されたリソグラフィー用ペリクル５。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスクに貼り付けられたペリクルを容易かつ安全に剥離できる簡便な治具ならびに剥離方法を提供する。
【解決手段】 フォトマスクに対する固定部材とペリクルに対する粘着層とを備えたペリクル剥離用冶具によってフォトマスとペリクルの相互の位置関係を固定し、固定された状態でマスク粘着層を引き出して除去する。 （もっと読む）

【課題】加熱にともなうアウトガスの発生を防止しつつ、マスクの洗浄処理を行うことができるマスク洗浄方法及びマスク洗浄装置を提供する。
【解決手段】マスク洗浄方法は、基板３０の主面３０ａ上に形成されたマスクパターンを有するマスク膜３２に、マスク膜３２側からエネルギー線を照射して基板３０よりもマスク膜３２の温度を高温とすることによりマスク膜３２の表面を洗浄する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】露光工程において異物の発生を抑制する。
【解決手段】半導体装置製造用マスクは、透光性基板と、前記透光性基板上の一部に形成された半遮光パターンおよび遮光パターンと、を具備する。前記透光性基板の露出した表面、半遮光パターンおよび遮光パターンの表面から１ｎｍまでの範囲において、Ｓ含有物の濃度が０．４％以下である。 （もっと読む）

【解決手段】ペリクルが載置されるトレイと、トレイを覆ってトレイと共にペリクルを収容する閉空間を形成するカバーとを備え、トレイが、ペリクルフレームの粘着剤塗布端面の一部に設けられた粘着剤の未塗布領域とのみ接触することによってペリクルを支持するペリクルフレーム支持体と、ペリクルフレームをペリクルフレーム支持体上で固定する保持機構とを有し、ペリクルフレーム支持体が、基体部と、ペリクルフレームと接する緩衝部とで構成され、両者が硬さの異なる部材の接合体で形成されたペリクル収納容器。
【効果】粘着剤層がペリクル収納容器に接触することなくペリクルが収納容器内で固定され、セパレータを使用せずとも粘着剤層を保護することができるため、保管中にセパレータを必要としない。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる、高剛性、軽量かつ低コストの大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
大型精密部材４を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバー２とを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバー２のうち、少なくともトレイ３は、アルミニウム、アルミニウム合金あるいはマグネシウム合金から構成される大型精密部材収納容器１とする。 （もっと読む）

【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供すること、及び、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供すること。
【解決手段】ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行な基本四辺形の両側辺に、四辺形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、好ましくは、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形であるペリクルフレーム、及び、前記ペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。 （もっと読む）

【課題】ペリクル等の保護膜の撓みを抑制できる保護装置を提供する。
【解決手段】マスク基板１の表面の所定領域を保護する保護装置２であって、その所定領域の周囲の少なくとも一部に配置されてマスク基板１の表面に貼り合わせられるペリクルフレーム４と、その所定領域と対向するようにペリクルフレーム４によって形成される開口部を覆うようにペリクルフレーム４に張設されるペリクル５と、を備え、ペリクルフレーム４はその所定領域に沿って異なる位置に配置される第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂと第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄとを含み、マスク基板１の表面の法線方向に関して第１辺部４Ａ及び第２辺部４Ｂの剛性が、第３辺部４Ｃ及び第４辺部４Ｄの剛性より低い。 （もっと読む）

【課題】無機酸の含有量を低減して、高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を可及的に防止できるペリクル用支持枠の製造方法、及びこれによって得られるペリクル用支持枠を提供する。
【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材で形成され、光学的薄膜体を備えてペリクルとして使用されるペリクル用支持枠の製造方法であって、酒石酸を含んだアルカリ性水溶液を用いた陽極酸化処理によりアルミニウム材の表面に陽極酸化皮膜を形成し、有機系染料を用いて染色処理した後、水蒸気により封孔処理してペリクル用支持枠を得る。 （もっと読む）