【課題】レチクルの変形を最小限に抑えることができるレチクル支持機構を提供し、レチクルの検査装置を提供する。
【解決手段】レチクル１０４を支持するレチクル支持機構１を、レチクル支持台１０２とレチクル支持台１０２上に載置された中間部材１０３とを有して構成し、レチクル支持台１０２が中間部材１０３を介してレチクル１０４支持するように構成する。レチクル支持台１０２は、レチクル１０４の隣接する２隅を使用して２点でレチクル１０４を支持し、中間部材１０３を１点で支持する。中間部材１０３は、レチクル１０４の上述の２隅とは異なる２つの隅を使用してレチクル１０４を支持する。このレチクル支持機構１を使用して検査装置１００を構成する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上で大きく撓むようなマスク基板の欠陥を高精度に検出できるようにする。
【解決手段】マスク基板の対向する二辺を検査テーブル手段の基板支持部となる傾斜面に載置すると共にマスク基板の下面にエア浮上ステージ手段からエア噴流を吹き付けることによってマスク基板が撓まないようにする。さらに、マスク基板の対向する二辺の上面側からエア噴流を吹き付けてマスク基板の下側辺を傾斜面に押し付け、マスク基板の二辺を検査テーブル手段に固定的にエア挟持させる。マスク基板の下面にエア噴流を吹き付けることでマスク基板の撓みを矯正することができ、基板検査装置は撓みの矯正されたほぼ平面状のマスク基板の欠陥を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】低い検査頻度で高精度のパターン検査を実現する。
【解決手段】実施形態によれば、経時的に変化するパターンを検査する方法が提供される。該方法は、同一の検査対象パターンについて任意の時期における輪郭形状を予測する工程と、上記検査対象パターンの要求仕様に応じた閾値を設定する工程と、上記予測された輪郭形状と上記閾値とから上記検査対象パターンが上記要求仕様を満たさなくなる時期を予測する工程と、を備える。上記検査方法は、上記同一の検査対象パターンについて異なる時期に撮像して画像を得る工程と、得られた複数の画像の輪郭をそれぞれ検出する工程と、検出された、異なる撮像時期の輪郭同士でマッチングを実行する工程と、該マッチング後に、対応する輪郭同士の差を求めて差分ベクトルを生成する工程とをさらに備え、上記輪郭形状は、生成された該差分ベクトルと上記撮像時期の間隔とに基づいて予測される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ホトマスクの表裏面に押圧部材を押し当てることなく、ホトマスクの搬送及び測定，検査時に、当該ホトマスクの除電を行う試料保持装置の提案を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、真空試料室と、予備排気室との間で搬送され、ホトマスクを保持する試料保持装置であって、ホトマスクのパターンが形成された面を正面としたときに、ホトマスクの側面よりホトマスクを押圧する押圧機構を備え、押圧機構は、ホトマスクの側面に平行な回転軸を持つ回転部材を有し、回転部材は、回転軸と交差する２つの辺の間に形成される頂角部を有し、頂角部が前記ホトマスクの側部との接触部となるように構成した。 （もっと読む）

【課題】ペリクル膜の劣化具合によらず、容易にペリクル膜の傷や破れを検知することが可能なペリクル検査装置を提供する。
【解決手段】原版３に設置されたペリクル膜２の損傷を検知するペリクル検査装置１であって、ペリクル膜２の固有振動数を計測する計測手段５、６を有し、該計測手段５、６が計測した固有振動数の値に基づいて、ペリクル膜２の損傷を検知する。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩやＴＦＴ−ＬＣＤ等の製造において、ＴＦＴ等の電子デバイスのパターンをより精度よく製造することができるフォトマスクの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】描画機のステージ１０上に配置された場合のフォトマスクブランク１３の表面形状の変形を高さ測定手段１２で測定し、描画データ作成手段１５により、その表面形状の変形要因の中でフォトマスクが露光装置で使用される際には無くなる変形要因に起因する描画のずれについて、設計描画データを補正して描画データを得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハに回路パターンを露光する際に用いられるレチクル等のマスク用基板における表裏面の異物等を、簡単かつ安価な構成で検査できるマスク用基板検査装置１００を提供する。
【解決手段】検査光学系機構１０１に対して相対移動可能なステージ３に姿勢調整可能に支持基体４を取り付け、この支持基体４にレチクルＷを保持する基板保持体５を回転可能に支持させる。そして、前記基板保持体５の回転角度位置を、表面に検査光が照射される表面検査角度位置、裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置に保持する検査角度位置保持機構９を設けるとともに、前記基板保持体５に保持されたレチクルＷの表裏面が、基板保持体５の回転軸線Ｃと平行になるように当該基板保持体５の支持基体４に対する姿勢を調整可能な平行調整機構８を設けた。 （もっと読む）

【解決手段】基板処理システム及び方法を提供する。このシステムには、ステージと、このステージ上に装着された第１及び第２のチャックと、このステージに隣接して配置された少なくとも１つの基板処理ヘッドとを設けることができる。前記ステージ及び基板処理ヘッドは、前記基板処理ヘッドが第１及び第２のテスト基板の双方を処理するのに充分な距離に亘って相対移動するように構成されている。基板処理方法によれば、第１及び第２の基板を、ステージに装着したチャック上に配置しうる。前記ステージ及び処理ヘッドは、基板処理ヘッドが基板にまたがって走査するのに充分な第１の距離に亘って、第１の軸に沿う第１の方向で相対的に移動し、次に前記第１の方向に対し平行でない方向に沿って、第２の距離に亘って相対的に移動し、次に前記第１の方向とは反対の方向で、前記ヘッドが前記基板にまたがって走査するのに充分な第３の距離に亘って相対的に移動するようにしうる。前記処理ヘッドは、前記第１の距離及び前記第３の距離の双方又は何れか一方に沿う１つ以上の位置で前記第１の基板及び第２の基板を処理する。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制する。
【解決手段】 準備した基板に対応する平面座標系における位置情報および該位置情報に関連付けられた基板の状態を示す状態情報を含む基板情報を取得後、基板の面上に膜を成膜し、成膜された膜に対応する平面座標系における位置情報および該位置情報に関連付けられた膜の状態を示す状態情報を含む膜情報を取得し、基板情報及び膜情報を含むマスクブランク情報を生成する。基板情報及び膜情報の平面座標系の基準点は、基板に形成されたマーク及び膜に形成されたマークのうち、少なくとも一方を基準として定められる。 （もっと読む）

【課題】複数のパターン領域を有する原版の検査に好適な検査装置を提供する。
【解決手段】露光により基板にパターンを転写するために使用される原版を検査する検査装置に関する。検査装置は、原版を検査する検査部３ａと、検査部３ａを制御する制御部４とを備える。制御部４は、原版に対して複数の検査領域を設定し、複数の検査領域のうち少なくとも特定の検査領域について検査部３ａに検査させる。制御部４は、その検査において検査部３ａによって異常が発見されなかった場合に、複数の検査領域のうち特定の検査領域以外の他の検査領域についての異常の有無とは無関係に、原版を使用した露光を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 フォトマスク上の単体では組成分析不可能な微細な異物の組成分析方法を提供する。
【解決手段】 異物除去探針3に組成分析可能な量まで付着蓄積した異物1または異物の削り滓2をレーザーマイクロプローブ質量分析法で組成分析する。導電性の異物除去探針の場合にはオージェ電子分光法または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。異物除去探針3で異物1または異物の削り滓2を移動させ組成分析可能な量まで寄せ集めたものにレーザーマイクロプローブ質量分析法で組成分析する。異物除去探針で導電性のパターン上に集めた場合にはオージェ電子分光または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィレチクル検査用のシステムおよび方法が提供される。リソグラフィレチクル検査システムおよびレチクル検査アナライザも開示される。
【解決手段】この方法は、非装填状態のレチクルの表面に関するトポグラフィマップの生成から開始する。次いで、レチクルが、リソグラフィ装置内のレチクルチャック上に装填される。次いで、装填レチクルに関してトポグラフィマップが生成される。次いで、非装填状態のレチクルに関するトポグラフィマップと装填状態のレチクルに関するトポグラフィマップとが比較されて、差が生成される。この差に基づいて制御動作が実施される。この制御動作は、レチクルの使用を許可すること、レチクルの使用を拒否すること、またはトポグラフィの差を補償するためにレチクルに力を与えることを含むことができる。一実施形態では、この方法はin situで行われ、この場合少なくとも装填状態のトポグラフィの生成がリソグラフィ装置内でウェーハのラン（または他のタイプのラン）中に行われる。 （もっと読む）

【課題】レチクルの検査を簡易に行えると共に納品用ケースから露光用ケースへの移し替えも一連に行える装置を提供する。
【手段】検査装置は、入庫部１２と、開蓋部１５と、検査ステージ部１０と、第１移載ユニット１６と、第２移載ユニット１７と、露光用ケースセット部１４とを備えている。検査ステージ部１０の検査テーブル２３は姿勢変更自在であり、目視で異物を発見できる。レチクルＲは、入庫部１２（納品用ケース１１）→第１移載ユニット１６→検査ステージ部１０→第１移載ユニット１６→第２移載ユニット１７→露光用ケースセット部１４（露光用ケース１３）、という経路で移動する。 （もっと読む）

【課題】 電子線露光装置等に用いられるレチクルを検査する場合でも、レチクルの酸化が発生しないレチクル検査装置を提供する。
【解決手段】 レチクル検査装置本体１には、レチクル搬送系２が結合され、レチクル検査装置本体１へのレチクルの搬入と搬出を行っている。レチクル搬送系２の出入り口には、シャッタ３が設けられ、レチクルの搬入、搬出を行うとき以外はシャッタ３を閉じることにより気密性が保たれるようになっている。レチクル検査装置本体１は、チャンバ４内に収納されており、チャンバ４内には、水蒸気の含有率が１０％以下の窒素ガス又は乾燥空気が吹き込まれるようになっている。このようにして、チャンバ４内の雰囲気は、常に水蒸気の含有率が１０％以下である状態に保たれるので、静電チャックによりレチクルを吸着しても、レチクルの一部が酸化されることが無くなる。 （もっと読む）

【課題】 測定座標を望ましい位置に修正することができるＬＳＩマスクの寸法測定方法を実現する。
【解決手段】 本発明のＬＳＩマスクの寸法測定方法は、ＬＳＩ製造時に使用されるＬＳＩマスクのレイアウト設計データ１４に所定の補正を施して生成され前記ＬＳＩマスクの製造に使用されるレティクル描画データ１５に基づいて、対向する２辺が前記レティクル描画データ１５のデータ境界上に位置する矩形領域をあらかじめ定められた測定指示座標１６の近傍に定め、当該矩形領域の対角線の交点座標を測定座標１７として出力する測定座標修正ステップ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】
コンパクトで検査精度の高いマスク検査装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる、マスク検査装置は、鉛直方向に被検査対象のマスク６を保持し、ＣＣＤカメラ３ａを鉛直方向に移動させてマスク６を検査するマスク検査装置であって、定盤２の上に立てられた角柱１と、角柱１の少なくとも２側面の基準面９、１０に対向するヘッド用直角ステージ１２と、ヘッド用直角ステージ１２を一定の高さに保つバランスウェイト４と、ヘッド用直角ステージ１２の各々の基準面側に設けられ、基準面側に気体を噴出する噴出部と気体を吸引する吸引部とを有するエアパッド１１と、ヘッド用直角ステージ１２を鉛直方向に移動させる鉛直方向駆動機構８とを備え、鉛直方向駆動機構のラック３５が角柱２に設けられているものである。 （もっと読む）