【課題】感光性シートの現像工程において、感光性シートおよびその支持体のダメージを軽減し、かつシート内のパターンが均一な成形体を得ることを課題とする。
【解決手段】無機粒子と感光性有機成分を含む感光性組成物に活性光線をパターン状に照射する工程、照射後、現像時に現像液中で周波数変調型超音波処理を行う工程の少なくとも２つの工程を有することを特徴とする成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高精度で優れた硬化深度を示す感光性ペーストを提供すること。
【解決手段】 感光性ペーストは、（Ａ）無機微粒子、（Ｂ）光重合性化合物を含む有機成分、及び（Ｃ）光重合開始剤として一般式（１）で示される化合物を含有することを特徴とし、好ましくは前記光重合開始剤（Ｃ）として、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロペオニル）−ベンジル]−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オンを用いる。また、このような感光性ペーストを用いて、電極パターン、ブラックマトリックスパターン、隔壁パターンなどの焼成物パターンが形成される。
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【課題】基板サイズの大型化に対して、最小の現像液使用量で、安定した現像特性が得られる現像方法及び現像装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板等の基板６１上にパターン露光された感光性レジスト膜７１が形成された被現像体６０の端部が現像液供給ノズル２１を通過しようとすると、現像液供給ノズル２１からは所定量の現像液８１が供給される。被現像体６０が薄板基材６２との間を一定間隔で移動していくことにより、パターン露光された感光性レジスト膜７１と薄板基材６２の間には現像液層８１ａが形成され、現像液８１による化学的作用と薄板基材６２上に設けられた超音波ユニット９０の超音波振動による物理的作用により、被現像体６０上のパターン露光された感光性レジスト膜７１の現像処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】特にカラーフィルター現像工程におけるウェット現像装置において、界面活性剤等の添加剤を含まない現像液を使用することによって現像液を安価にし、ランニングコストの削減を実現する現像方法、及び現像装置を提供する。
【解決手段】アルカリ塩水溶液に水素ガスを溶解、または水素ガスの溶解した水素水にアルカリ塩水溶液を混合することによって溶存水素アルカリ現像液を作成する機構を具備し、作成された溶存水素アルカリ現像液に超音波を照射することによって浸透性を高める。これによって通常用いられる界面活性剤等の添加剤を含む現像液への代替が可能となり、従来の現像工程よりもランニングコストを低く抑えることを実現する。 （もっと読む）

【課題】 作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシステムに適合し、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度かつ保存安定性が高い走査露光用平版印刷版等の画像記録材料として用いることができ、広く３５０ｎｍから８５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系を用いる感光性組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）トリアリールイミダゾール構造における３つの芳香環上に、少なくとも一つの、アリール又はヘテロアリール基を含んでなる置換基を有することを特徴とする、ヘキサアリールビイミダゾール型化合物、
（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び
（Ｃ）ラジカル又は酸の少なくともいずれかによって反応する付加重合性化合物、
を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するために好適に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、（ａ３）テトラヒドロフラン骨格、フラン骨格、テトラヒドロピラン骨格、ピラン骨格、ラクトン骨格、繰り返し単位が２〜１０のオキシエチレン骨格、および繰り返し単位が２〜１０のオキシプロピレン骨格の郡から選ばれる少なくとも１つの基を含有する不飽和化合物、ならびに（ａ４）（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、ならびに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有することを特徴とする、垂直配向型液晶表示素子の突起とスペーサーを同時に形成するための感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】 下側レジストパターンと、上側レジストパターンと、下側レジストパターン及び上側レジストパターン間に設けられたセパレータパターンとを含むレジストパターンの形成方法は、下側レジストパターンを、ポジ型レジスト材料、ＮＱＤノボラックレジスト材料、一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、疎水性一体型ＮＱＤノボラックレジスト材料、又はポリヒドロキシスチレン系樹脂を主成分とするレジスト材料によって形成する。 （もっと読む）

【課題】 作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシステムに適合し、安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度な走査露光用平版印刷版等の画像記録材料として用いることができ、広く３５０ｎｍから８５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な光重合開始系を用いる感光性組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）特定構造を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物、（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び（Ｃ）ラジカル又は酸の少なくともいずれかによって反応する付加重合性化合物、を含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 被エッチング膜に対して、左右の側壁の傾斜角が互いに異なるトレンチを形成することができるトレンチ形成方法、２つの側壁の傾斜角が互いに異なる充填材のパターンの形成方法、これを用いた充填材のパターン及びデバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】 基板１上に形成された被エッチング膜１０の一部をエッチングしてトレンチを形成するトレンチ形成方法であって、被エッチング膜１０上にトレンチに対応する開口３５を有するドライエッチングマスク３０を形成する工程と、ドライエッチングマスク３０をマスクとして被エッチング膜１０をエッチングしてトレンチを形成する工程と、を備え、ドライエッチングマスク３０において開口３５を挟んで対向する２つの側壁３５Ｌ，３５Ｒの傾斜角θＤＬ，θＤＲが互いに異なる。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物除去性能に優れた感光性組成物除去液を提供する。
【解決手段】アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル類、アルコキシカルボン酸エステル類及び脂環式ケトン類から選ばれる少なくとも１種の溶剤及び鎖状アミド類、環状アミド類、含硫黄化合物及び環状エステル類から選ばれる少なくとも１種の溶剤、及び所望により、炭素数９以上の芳香族炭化水素類を含有する、顔料を含有する有色感光性組成物の除去のための感光性組成物除去液。 （もっと読む）

【課題】潜像が形成された基板にパターン形成を行うに当たり、現像に用いた後の汚濁した現像液中の不溶物を効率よく回収して清澄する現像液清澄装置、および該現像液清澄装置を有するパターン形成装置を用いたプラズマディスプレイ用部材の製造方法を提供する。
【解決手段】潜像が形成された基板を現像液に接触せしめて現像を行う現像処理工程から排出される現像液を清澄する現像液清澄装置であって、
（ａ）気泡を発生させる気泡発生手段、および
（ｂ）浮遊した不溶物を除去する不溶物除去手段
を具備したことを特徴とする現像液清澄装置。である。 （もっと読む）

【課題】基板にレジスト等を塗布して塗布膜を形成した塗布基板の端部及び四隅の不要な厚い塗布膜を溶解除去する際膜残り等の発生のない塗布基板端部現像治具を提供することを目的とする。
【解決手段】塗布基板治具１００は、上顎治具１０と下顎治具２０とによりコの字型の現像治具を構成し、上顎治具１０と下顎治具２０との間の先端部には塗布基板端部を現像するための処理液貯留部５２と、前記処理液貯留部に処理液を供給する処理液供給部５１と、処理液を排出する処理液排出部５３とがそれぞれ形成されており、処理液供給部５１と処理液排出部５３は堰２１を介して排出路５４で接続され、前記排出路５４上の上顎治具１０下面にテーパ形状１１を設けたことを特徴とする塗布基板端部現像治具である。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物除去性能に優れた感光性組成物除去液を提供する。
【解決手段】アルキレングリコールモノアルキルエーテル類及び芳香族炭化水素類、及び所望により、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボン酸エステル類、アルコキシカルボン酸エステル類、脂環式ケトン類及び酢酸エステル類から選ばれる少なくとも１種の溶剤を含有する、顔料を含有する感光性組成物の除去のための感光性組成物除去液。 （もっと読む）

【課題】高感度であるとともに、作業性、経済性、耐刷性、耐汚れ性、保存安定性に優れた、例えばＣＴＰシステムに適合する走査露光用の感光性平版印刷版原版として有用な、感光性ネガ型画像形成材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 支持体上に、酸基および-ＳＨ基を有する化合物、光または熱重合開始剤、および付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物を含有する感光層を有する感光性ネガ型画像形成材料。 （もっと読む）

【課題】 撥油・撥水性のパターンを高解像度で形成することができ、親水性、もしくは親油性化合物を表面に付着させた際に、選択的にパターン非形成領域のみに付着して、ディスクリミネーションの高いパターンを得ることができるパターン形成方法、及び、パターンを応用してなる混色や白ヌケのない高解像度のカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 （１）基板上に、重合開始能をもつ活性種を表面に有する樹脂組成物をパターン状に形成する活性種パターン形成工程、及び、（２）該パターンを形成した基板に重合性基を有する撥油・撥水性化合物を接触させ、グラフト化合物を形成する撥油・撥水性パターン形成工程、を含むことを特徴とする撥油・撥水性パターン形成方法である。さらに（３）基材上の、撥油・撥水性パターンの少なくとも一部に、選択的に物質を付着させる非撥油・撥水性領域物質付着工程を行うことで、種々の素子に応用することができる。 （もっと読む）

【課題】 高分子集合体と高分子集合体との隙間への浸透力を弱め、十分な溶解速度を有するレジスト現像液と該レジスト現像液を使用して、低いラインエッジラフネスのパターンを形成可能としたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ラインエッジラフネスを低減するためには、溶解速度を低下させることなく、溶剤の分子量を大きくする必要がある有機高分子への溶解速度は、ベンゼン環と、酸素の存在が大きく影響する。また、水酸基ＯＨが存在すると逆に溶解速度が著しく低下する。また、溶解速度は、溶媒の温度によっても大きく変化する。すなわち、フェニル基、酢酸基、ケトン基、エーテル基を複数有し、かつ大きな分子量を有する溶剤を含有する現像液により、ラインエッジラフネスを低減することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 様々な精密微小空間、特にインクジェットヘッドなどの電子部品中に形成される精密微細空間を効率的かつ安価に形成するために用いて好適な天板部形成用感光性積層フィルムと、該感光性積層フィルムを用いた精密微細空間の形成方法を提供する。
【解決手段】 精密微小凹部の上部開口部を覆うように布設された後に硬化されることにより精密微細空間の天板部を構成する、精密微細空間の天板部形成用感光性積層フィルムとして、感光性組成物層と、該感光性組成物層を支持するとともに該感光性組成物層の硬化時の変形を防止する透明支持フィルムとを少なくとも有してなる積層フィルムを用いる。 （もっと読む）

少なくとも２つの異なる画像領域を有する露光基体を作製する方法である。形成すべき画像領域の種類に適応した少なくとも２つのフォトレジスト層を基体に設ける。
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【課題】層が存在しない領域を有する層が、高いレベルの精度と安い費用で正確な重なり関係で適用される、多層体及び多層体の製造プロセスを提供する。
【解決手段】部分的に形成された第一の層（３ｍ）を有する多層体（１００、１００´）の製造プロセスであって、特定の構造エレメントの高い深さ幅比、特に０．３を超える高い深さ幅比を有する回折性の第一の凹凸構造（４）が前記多層体（１００、１００´）の複製層（３）の第一の領域（５）に形成され、第一の層（３ｍ）が、前記第一の領域（５）と、前記複製層（３）に凹凸構造が形成されていない第二の領域（４、６）の前記複製層（３）に、前記複製層（３）により規定される平面に対して均一な表面密度で適用され、前記第一の凹凸構造により確定する方法で、前記第一の層（３ｍ）が前記第一の領域（５）または前記第二の領域（４、６）で除去されるとともにそれぞれに対して前記第二の領域（４、６）または前記第一の領域が除去されないように、前記第一の層（３ｍ）が部分的に除去される。 （もっと読む）

【課題】基板例えば半導体ウエハを洗浄するにあたり、簡易な構造で、ウエハＷ表面及び周縁部に付着したパーティクルをムラなく除去すること。
【解決手段】 密閉容器４１の内部において、ウエハＷをバキュームチャック４２にて、密閉容器４１とウエハＷの表面及び少なくとも裏面の周縁部との間に隙間を形成するように水平に保持した状態で、流体供給路５からウエハＷの表面の中心部に向けて洗浄液を供給すると共に、前記ウエハＷの中心部を中心とする円に沿って前記密閉容器４１の底部に設けられた流体排出部４４から前記洗浄液を排出する。洗浄液は、ウエハＷ表面と密閉容器４１との間の隙間を満たしながらウエハＷの周縁部に向かって広がり、前記流体排出部４４から排出されるので、簡易な構造で、ウエハＷ表面及び周縁部に付着したパーティクルをムラなく除去することができる。 （もっと読む）