【課題】泡の混入（光漏れ）及び混色が抑制され、スペーサ材を設けたときの高さ均一性に優れ、表示ムラの発生が抑えられたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】仮支持体上にカーボンブラックを含む感光性樹脂層を少なくとも有する感光性転写材料を用いた転写法によるブラックマトリックスの形成後、着色感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成し、形成された塗布膜を露光、現像して着色パターンを形成する工程と、仮支持体上に感光性樹脂層を少なくとも有する感光性転写材料を用いてスペーサ材を形成する工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】
バーニング不要で優れた密着性を有し、かつひび割れを防止した感光膜を得ることができる新規なポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する高分子物質、（Ｂ）画像露光光源の赤外線を吸収して熱に変換する光熱変換物質、及び（Ｍ）樹脂改質剤を含有してなるようにした。前記樹脂改質剤（Ｍ）としては、グリセリン及びその誘導体、ジグリセリン及びその誘導体、ポリグリセリン及びその脂肪酸エステル、ヒアルロン酸及びその塩、ポリエチレングリコール、ソルビトール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、果糖、ブドウ糖、オリゴ糖、オリゴ糖アルコール、マルチトール、トレハロース、還元澱粉加水分解物、グリシンベタイン、ピロリドンカルボン酸及びその塩、並びに乳酸ナトリウム等が好適である。 （もっと読む）

【課題】 被処理体におけるパターンの精度の均一性を確保しながら、省レジスト化並びに工程数および総工程時間の削減を図ることが可能なマスクパターンの形成方法およびＴＦＴの製造方法を提供する。
【解決手段】 被エッチング膜１０１上に露出した１次マスクパターン１１０の露出領域１０３ｂに対し、精密吐出ノズル８２によって局所的にレジストを吐出し、レジスト層１０２の凹部に被覆部１０５を形成することにより、基板Ｇ表面のレジストパターン形状を変化させ、２次マスクパターン１１１を形成する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの立体形状を十分に制御することが可能なレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置Ｐ３に突起部６３Ｔを有する前準備レジストパターン６３を形成したのち、その前準備レジストパターン６３を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。加熱工程において、前準備レジストパターン６３に突起部６３Ｔが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置Ｐ３において前準備レジストパターン６３が丸みを帯びにくくなる。しかも、加熱工程では、前準備レジストパターン６３が熱流動および熱収縮することにより、開口部６３Ｋにおける内壁が傾斜すると共に突起部６３Ｔが後退する。これにより、フォトレジストパターンの立体形状が所望の立体形状に近くなる。 （もっと読む）

【課題】薄膜剥離における残渣の完全な除去と位置精度の高い薄膜の剥離を実現すること
が可能な剥離方法を備えた薄膜剥離装置を提供する。
【解決手段】接触部位７と除去部位８とを有したユニット４が、ステージ６或いはユニッ
ト可動部位５の移動によって基板１上に形成された薄膜の内の除去される薄膜２ａに対応
する剥離位置に移動し、薄膜の内の除去される薄膜２ａだけを剥離し、残渣受口９により
残渣を完全に除去する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、充分な膜厚均一性を有するレジストパターンを形成することができ、且つ、生産効率の低下を抑制することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｇが載置されると共に、基板載置面の温度を所定温度として基板温度を調整するための温調プレート１１と、チャンバ１０内にフォトレジストの溶剤雰囲気を供給する溶剤雰囲気供給手段１４〜１８と、チャンバ１０内の雰囲気温度を検出する雰囲気温度検出手段２３と、前記温調プレート１１の設定温度を制御すると共に前記雰囲気温度検出手段２３による検出温度が入力される制御手段２４とを備え、前記制御手段２４は、設定している前記温調プレート１１の温度と、前記雰囲気温度検出手段２３により検出された雰囲気温度とを比較し、該比較結果に基づいて温調プレート１１の設定温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理後に処理液がノズルから滴り落ちるのを防止して、基板の処理を均一に行う。
【解決手段】基板１の処理を行う場合、制御弁２３ａ及び制御弁２４ａが閉じた状態で、モータ１７により基板１を回転しながら、制御弁２２ａを開く。ノズル２０ａは、処理液供給源Ａから供給された処理液を、基板１の表面へ供給する。基板１の処理が終了すると、まず、制御弁２２ａを閉じて、制御弁２３ａを開く。そして、制御弁２４ａを開き、ノズル２０ａ内の圧力を大気開放する。ノズル２０ａ内の圧力を大気開放すると、ノズル２０ａ内と大気との差圧がなくなるので、ノズル２０ａ内の処理液が自重により落下してノズル２０ａから迅速に排出される。従って、ノズル２０ａの内部に処理液が残らず、基板１の処理後に処理液がノズル２０ａから滴り落ちるのが防止され、処理のむらが発生しない。 （もっと読む）

【課題】高感度であるとともに保存安定性および耐刷性に優れた、例えばＣＴＰシステムに適合する走査露光用の感光性平版印刷版の感光層として有用な重合性組成物及び該重合性組成物を用いた感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、ラジカル重合開始剤、および、該ラジカル重合開始剤から生成するラジカルによって水素引抜き反応を受ける基を有する重合体を含有することを特徴とする重合性組成物及び該重合性組成物を用いた感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】通常のフォトリソグラフィーの工程において使用される塗布装置に対しユニットの追加等の大幅な装置の付加をすることなく、また塗布、乾燥等の工程を増やすことなく遮光パターンの上面にだけ撥インク性を付与することを可能にする感光性樹脂の塗布装置及び塗布方法を提供することが求められていた。
【解決手段】基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置および塗布方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】溶解リフロー処理によりその面積が拡大した有機膜パターンを収縮することが可能な基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された有機膜パターンを加工する有機膜パターン加工処理を備える基板処理方法において、有機膜パターン加工処理では、有機膜パターンを溶解させ変形させる溶解変形処理（ステップＳ３）と、溶解変形した変形有機膜パターンを第三の除去処理（ステップＪ３）とをこの順に行う。第三の除去処理の少なくとも一部を有機膜パターンに対する第二の薬液処理（ステップＳ５）により行う。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ナノパターンを形成する方法、特に、大面積に連続してナノパターンを形成する方法と、ロール状の基板にナノパターンを形成する方法、およびこれによって形成されたパターンを有する基板に関するものである。本発明は、大面積試片と干渉光の光源を互いに相対的に移動させる方法と、ロール状の基板を回転させながら、干渉光の光源と前記ロール状基板との基板の軸方向への相対運動によって露光する方法を利用することにより、ナノパターンを形成するときに求められる広い設備空間、レーザ出力の制限性、およびパターン自由度の制限性などの従来問題を解決したものである。 （もっと読む）

【課題】現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、環境問題が無く、空シャワー運転でも劣化しない洗浄処理液、該洗浄処理液を用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法を提供。
【解決手段】塩基性化合物と、少なくとも１つの水酸基を含むアセチレン界面活性剤、アルキルエーテル系界面活性剤、及びフェノキシオキシアルキレン界面活性剤から選択される少なくともいずれかの界面活性剤を少なくとも１種含有し、かつ、ナフタレン系界面活性剤含有することを特徴とする洗浄処理液。 （もっと読む）

【課題】高密度、高精細であり、かつ、高い導電性を有する配線パターンを有するメタライズドセラミックス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス焼結体基材上に、金属粉末および現像液に可溶な有機バインダーを含有する導電ペーストを塗布して、導電ペースト層を形成する工程、導電ペースト層上に、フォトレジスト層を形成する工程、フォトレジスト層上の所望の位置に光を照射し、現像液に不溶なレジストパターンを形成する工程、現像液により、レジストパターン以外のフォトレジスト、および、レジストパターン以外のフォトレジスト下部の導電ペーストを除去し、所望の導電ペーストパターンを形成する工程、焼成により、レジストパターンを除去し、導電ペーストパターンを焼結して、配線パターンを形成する工程、を有するメタライズドセラミックス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高分子前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に、十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができ、しかも安価な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１’）で表わされる構造を含むオキシムエステル誘導体（Ａ）と、高分子前駆体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。


（式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素又は１価の有機基であり、それらは同一であっても異なっていてもよい。また、それら２つが結合して環状構造を形成していても良い。） （もっと読む）

【課題】少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基または１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基を含有する感光性シランカップリング剤。基板１の表面に感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行い、露光部３にカルボキシル基を発生させ、露光部３または未露光部４のみに選択的に微粒子５を配する。得られた微粒子パターンを用いて単一電子素子、パターンドメディア、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスを作製する。 （もっと読む）

本発明は、微小電気コンポーネント、微小機械コンポーネント、微小電気機械（ＭＥＭＳ）コンポーネント、又は微小流体コンポーネントを基板上にパッケージするための方法であって、容易に除去可能な第二基板上の架橋フォトレジストから作られた空洞を形成し、選択されたマイクロデバイスを含む第三基板に前記空洞を結合し、次に前記除去可能な第二基板を剥がすことによりパッケージする方法に関する。
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【課題】比較的簡易な構成でありながらも、基板上に供給した処理液を確実に除去し、かつ効率よく回収することができるとともに、処理液による処理の面内均一性を高めることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】現像ユニットは、基板Ｇを、その被処理面が上方を向いた状態で搬送する搬送路５と、搬送路５を搬送される基板Ｇ上に現像液を供給する現像液供給機構と、搬送路５を搬送される基板Ｇ上の現像液を吸引する現像液吸引機構６５とを具備し、搬送路５は、通過時の基板Ｇが谷側に湾曲または屈曲するように搬送方向の傾斜角度を変更させる谷折り部Ｐ１を有しており、現像液供給機構は、谷折り部Ｐ１よりも搬送方向上流側で現像液を供給し、現像液吸引機構６５は、谷折り部Ｐ１位置または谷折り部Ｐ１近傍位置で現像液を吸引する。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基で保護された２級アミノ基を有する感光性シランカップリング剤。基板１の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行ない、露光部３に２級アミノ基を発生させ、露光部２に選択的に微粒子を配する。得られた微粒子パターを用いて単一電子素子、パターンドメディア、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスなどを作製する。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルタ製造の現像工程の現像液循環方式生じる、現像液成分濃度の減少や感光性樹脂組成物の溶解による現像液汚染に伴う製品品質への悪影響を防ぐための現像液濃度調整方法および現像装置を提供する。
【解決手段】 アルカリ成分等の現像剤成分を含む現像液を用いて現像槽２で現像処理を行った後、現像液を限外濾過ユニット９で濾過して、濾液の現像剤成分量を定量測定後、該濾液に高アルカリ濃度液を混合し、アルカリ成分濃度の調整を行い、調整後の現像液を再度現像に供する現像液循環方式を適用する現像液濃度調整方法であって、該限外濾過ユニット９で得られた濾液のアルカリ成分濃度測定結果と、現像タンク４中の溶存感光性樹脂組成物濃度に対する高アルカリ濃度液補充量と、濃度回復量との相関に応じて高アルカリ濃度液補充量を決定する現像液濃度調整方法および該方法を用いた現像装置。 （もっと読む）

【課題】 レジスト内に添加された撥インキ剤を安定的に表面に発現させる。
【解決手段】 樹脂ブラックマトリクス作製における塗布工程において、基板の大型化に伴い従来のスピンナー方式からスピンレス方式へと移行している。その塗布方式において、乾燥速度に差の有る撥インキ剤の添加された感光性レジストを供給から吐出までを２つの経路により行い、ガラス基板に塗布された塗膜の表面に乾燥速度の速い感光性レジスト、その反対側を乾燥速度の遅いレジストとする事により、塗布後の乾燥工程において、溶剤の乾燥により塗膜表面に発現する撥インキ剤を安定させ、尚且つ、現像工程においても塗膜中の溶剤分が完全に蒸発していない為に、従来同等の現像性をもち安定した樹脂ブラックマトリクスを供給する事が可能となる。 （もっと読む）