【課題】 カラーフィルタ製造の現像工程の現像液循環方式生じる、現像液成分濃度の減少や感光性樹脂組成物の溶解による現像液汚染に伴う製品品質への悪影響を防ぐための現像液濃度調整方法および現像装置を提供する。
【解決手段】 アルカリ成分等の現像剤成分を含む現像液を用いて現像槽２で現像処理を行った後、現像液を限外濾過ユニット９で濾過して、濾液の現像剤成分量を定量測定後、該濾液に高アルカリ濃度液を混合し、アルカリ成分濃度の調整を行い、調整後の現像液を再度現像に供する現像液循環方式を適用する現像液濃度調整方法であって、該限外濾過ユニット９で得られた濾液のアルカリ成分濃度測定結果と、現像タンク４中の溶存感光性樹脂組成物濃度に対する高アルカリ濃度液補充量と、濃度回復量との相関に応じて高アルカリ濃度液補充量を決定する現像液濃度調整方法および該方法を用いた現像装置。 （もっと読む）

【課題】 レジスト内に添加された撥インキ剤を安定的に表面に発現させる。
【解決手段】 樹脂ブラックマトリクス作製における塗布工程において、基板の大型化に伴い従来のスピンナー方式からスピンレス方式へと移行している。その塗布方式において、乾燥速度に差の有る撥インキ剤の添加された感光性レジストを供給から吐出までを２つの経路により行い、ガラス基板に塗布された塗膜の表面に乾燥速度の速い感光性レジスト、その反対側を乾燥速度の遅いレジストとする事により、塗布後の乾燥工程において、溶剤の乾燥により塗膜表面に発現する撥インキ剤を安定させ、尚且つ、現像工程においても塗膜中の溶剤分が完全に蒸発していない為に、従来同等の現像性をもち安定した樹脂ブラックマトリクスを供給する事が可能となる。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを溶解し所望のパターンを形成するリフロー処理において、断線等の不良発生を防止することができ、マスクしたい所定エリアに対し効率的に、かつ充分な均一性を有するパターンを形成することのできる基板処理方法を提供する。
【解決手段】厚膜部と薄膜部とを有するレジストパターン２０６から、再現像処理により薄膜部を除去するステップと、前記再現像処理により下地膜２０５上に形成されたレジスト２０６を溶解し、下地膜２０５の縁部に形成された段差部２０５ａを通過させ所定エリアＴｇをマスクするステップとを実行し、所定エリアＴｇをマスクするステップにおいて、下地膜２０５上では第一の溶解速度モードで前記フォトレジスト２０６を溶解し、溶解されるフォトレジストが前記段差部２０５ａに到達後は、第一の溶解速度モードよりも溶解速度が遅い第二の溶解速度モードで前記フォトレジスト２０６を溶解する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、パターン形成されたフォトレジストの膜厚を基板面内で均一とし、且つ、パターン形成にかかる処理時間を短縮し生産効率を向上することのできる基板処理方法を提供する。
【解決手段】下地膜のエッチングマスクとして使用されたフォトレジストパターンの一部を再現像処理により除去するステップＳ２と、再現像処理により下地膜上に残存するフォトレジストパターンに露光処理を施し、フォトレジストパターンを表面改質するステップＳ３と、露光処理されたフォトレジストパターンを溶剤雰囲気に曝して溶解し、所定エリアをマスクするステップＳ４とを実行する。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソ工程で使用する現像液中にとけたレジストは、アルカリ成分や界面活性剤成分を吸着して、その機能や効果を麻痺させる。したがって、レジストの溶解した現像液の成分濃度を測定すると、事実上機能を失った成分まで測定してしまい、充分な工程管理ができなかった。
【解決手段】 界面活性剤を含む現像液、または、無機もしくは有機のアルカリ成分を含む現像液を、限外濾過フィルター２１にて濾過し、得られた濾液を使って界面活性剤量またはアルカリ成分量を定量測定する。本発明の現像装置は、この測定方法により界面活性剤量、または、無機もしくは有機のアルカリ成分量を測定した後、現像液の界面活性剤量、または、無機もしくは有機のアルカリ成分量を所望の濃度に調整する手段を有する。 （もっと読む）

【課題】 現像液の供給量を抑えつつ、基板全面にわたって均一な処理を迅速に施すことができる現像処理装置を提供する。
【解決手段】 現像ユニット３０は、基板Ｇを水平姿勢で載置して搬送する搬送ベルト５３と、搬送ベルト５３上の基板Ｇに現像液を供給する現像液供給機構６０とを具備し、搬送ベルト５３の表面には、載置された基板Ｇを囲繞するように、現像液供給機構６０によって基板Ｇに供給された現像液を堰き止める堰部５５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】安価で環境負荷を発生させる虞のない導電膜パターニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上に酸化亜鉛を含む導電材料によって導電膜Ｌ１を形成する導電膜形成工程と、この導電膜形成工程によって形成された導電膜Ｌ１上に耐アルカリ性材料によってレジスト膜Ｒ１を積層して形成するレジスト膜形成工程と、このレジスト膜形成工程によって形成されたレジスト膜Ｒ１に対して露光マスクＭ１を介して露光を行う露光工程と、この露光工程の終了後、アルカリ性の現像液によって、レジスト膜Ｒ１の現像を行うとともに導電膜Ｌ１のエッチングを行う現像およびエッチング工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】パターン表面の異物、パターン倒れ、およびパターンラフネスの問題を同時に簡便に解決することができるレジスト用基板処理液とそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】炭素数が１１〜３０の炭化水素基を有する一級アミンまたはアンモニアのアルキレンオキサイド付加物と、水とを含んでなることを特徴とする、レジスト基板用処理液とそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 金属パターン等のパターンに何等影響を与えることなく、鍍金用マスク材を容易に剥離することを可能にし、又、その鍍金用マスク材を再利用することを可能にするパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 基板上に厚膜レジストを塗布して厚膜レジスト母型とし該厚膜レジスト母型にパターン形成を施して厚膜レジストパターンを形成する工程と、厚膜レジストパターン上にＰＤＭＳのプレポリマー混合液を流し込んで硬化させてＰＤＭＳシートを形成する工程と、上記ＰＤＭＳシートを上記基板及び厚膜レジストパターンから剥離させて別の基板に貼り付ける工程と、を具備してなるパターン形成方法において、上記ＰＤＭＳのプレポリマー混合液を流し込んで硬化させる前に貫通孔を形成するための加圧処理を施すようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤を提供する。
【解決手段】アセタール化ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの水溶性変性ＰＶＡをイオン交換処理により、脱金属イオン、脱酸を行った後、８０℃以上の加熱処理を行う。これにより変性ＰＶＡ中の２５万以上の重量平均分子量を有する高分子量体成分量が低減される。加熱処理後の変性ＰＶＡと架橋剤を含む微細パターン形成補助剤を、レジストパターン３上に塗布して被覆層４を形成した後、レジストパターン３及び被覆層４を加熱することにより、レジストパターン３から被覆層に酸が拡散される。拡散された酸により、レジストパターン表面近傍の被覆層が架橋、硬化される。被覆層４を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層５を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 （もっと読む）

【課題】種々の用途に適用可能なエレクトロニクス用洗浄液の提供。
【解決手段】下記一般式（ｓ−１）で表される化合物（ｓ−１）を含むエレクトロニクス用洗浄液と、これを用いたパターン形成方法。
［化１］


［式中、Ｒ^２１〜Ｒ^２３はそれぞれ独立に水素原子、または直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であって、Ｒ^２１〜Ｒ^２３のうち少なくとも２つはアルキル基であり、該アルキル基は、シクロヘキサン環における当該アルキル基が結合した炭素原子以外の炭素原子と結合して環を形成していてもよい。］ （もっと読む）

【課題】白抜けのないカラーフィルターの作製方法を提供する。
【解決手段】基板上に遮光性を有する濃色離画壁を形成し、該濃色離画壁により区切られた凹部にインクジェット方式によってＲ，Ｇ及びＢのインクを吹き付けて堆積させ着色層を形成し、且つ下記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を満たすことを特徴とするカラーフィルターの作製方法。
（ａ）前記インクが、着色剤、重合性化合物及び重合開始剤を含有し、インク中の溶剤量が５０質量％以下である重合性インクであること。
（ｂ）前記着色層と濃色離画壁との境界線を、前記基板の厚さ方向着色層形成側から観察した場合における濃色離画壁側に凸な角が、曲率半径０．５μｍ以上の曲線形状であること。
（ｃ）前記Ｒ，Ｇ及びＢのインクを吹き付けて堆積させた後、活性エネルギー線によって硬化して前記着色層を形成すること。 （もっと読む）

【課題】リードタイムの短縮とパターン形成性のばらつきを低減することが可能となるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）、および（Ｅ）の各工程をこの順に行うパターン形成方法において、（Ｂ）工程と（Ｄ）工程の間に、（Ｃ）加熱乾燥工程で得られた塗膜を２５％ＲＨ以下の湿度雰囲気で除湿する除湿工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。
（Ａ）無機微粒子と感光性有機成分と有機溶媒とを含有する感光性ペーストを基板上へ塗布する塗布工程
（Ｂ）該塗布工程で得られた塗膜を加熱乾燥する加熱乾燥工程
（Ｄ）該加熱乾燥工程で得られた塗膜を露光する露光工程
（Ｅ）該露光工程で得られた塗膜を現像する現像工程 （もっと読む）

【課題】凹版転写法で形成するカラーフィルタ用のブラックマトリクスにおいて、上表面が撥インク性であるブラックマトリクスを形成する。
【解決手段】感光性を有し、層状物上表面が、カラーフィルタの色材層用のインクジェットインクに対して撥インク性を有するブラックマトリクス材層状物４を仮支持体１に配してなる感光性転写部材５を凹版転写法用凹版ｊに、熱、圧を加えた状態の下で貼り合わせ、裏面露光し、仮支持体１を剥がした後、ブラックマトリクス材層状物を現像し、所望のパターンにして凹版転写法用凹版の凹部にブラックマトリクス材を得て、カラーフィルタ用基板ｄと現像後の凹版転写法用凹版ｊとの間に無溶剤感光硬化型接着材を挟み込み、露光して接着剤を硬化させ、凹版転写法用凹版ｊをカラーフィルタ用基板から引き剥がした。 （もっと読む）

【課題】可視光に対する高い透過率を有し、液晶分子の配向能に優れるグレーティングの製造方法、及び該製造方法を用いて得られるグレーティングの提供。
【解決手段】〈１〉下記（１）〜（４）で示す工程を備えるグレーティングの製造方法。（１）透明基板上に、下記の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む感放射線性樹脂組成物を塗布し、溶剤を除去した塗布膜を得る工程、 （Ａ）分子内に架橋反応を担う反応基を有するアルカリ可溶性樹脂 （Ｂ）キノンジアジド化合物 （Ｃ）溶剤、（２）前記（１）で得られた塗布膜に放射線を照射し、次いでアルカリ水溶液で現像して所定のラインアンドスペースパターンを前記基板上に形成する工程、（３）前記（２）で得られたラインアンドスペースパターンを形成した基板を加熱する工程、（４）前記（３）で加熱後のラインアンドスペースパターン上に垂直配向膜を形成する工程。〈２〉前記〈１〉の製造方法で得られるグレーティング。 （もっと読む）

【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用テンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１１にシリコン系の薄膜１５を形成する。薄膜１５の表面に感光性樹脂層１７を形成する。透明基板１１に光Ａを照射し、透明基板１１の表面にレジストパターン２１を形成する。レジストパターン２１をマスクとして、薄膜１５にエッチングを行い、シリコンパターン２３を形成する。シリコンパターン２３を酸化処理し、透明基板１１の表面に酸化シリコンパターン１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、赤外光のレーザーによる走査露光に対し、高感度で、かつセーフライト耐性及び耐刷性に優れたネガ型感光性組成物、及びこれを利用した平版印刷版を提供することを課題とする。
【解決手段】ラジカルを発生する化合物、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体、分子内にビニル基が置換したフェニル基を２個以上有するモノマー、及び下記化１で表される増感色素を含有することを特徴とする感光性組成物。
化１
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【課題】凹凸パターンを有する無機物層を作業性良く形成できる製造方法を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】（Ｉ）基板１上に無機物粒子を有する樹脂組成物層２を圧着、（ＩＩ）感光性樹脂組成物層３を積層圧着、（ＩＩＩ）活性光線５を照射、（ＩＶ）現像によりパターンを形成、（Ｖ）パターンの上部から圧力をかけ、樹脂組成物層に、パターンを埋め込む工程、（ＶＩ）パターンを除去して凹凸パターンを形成、（ＶＩＩ）焼成して凹凸パターンを有する無機物層を形成する工程、を少なくとも含む凹凸パターンを有する無機物層の製造法。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ工程時に入射光の進行方向及び透過度を調節する方法で、多様な傾斜及び形状を有するポリマー又はレジストパターン及びこれを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド並びにこれらの形成方法に関する。
本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法は、基板上に所定の形状にポリマー又はレジストパターンを形成する方法において、（ａ）前記基板上に感光性ポリマー又はレジストを塗布して、ポリマー又はレジスト膜を形成するステップと、（ｂ）前記ポリマー又はレジスト膜上にフォトマスクを位置させて、露光部分を決定するステップと、（ｃ）露光される光の経路上に光調節膜を位置させるステップと、（ｄ）前記光調節膜を調節して、前記ポリマー又はレジスト膜に照射される光の進行方向及び透過度を調節するステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法によれば、多様な傾斜及び形状の３次元構造のポリマー又はレジストパターン、金属薄膜パターン、金属パターン構造、ポリマーモールドを簡便に形成できる。
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【課題】安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性組成物は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物から選択される少なくとも１種、（ａ２）特定のオキセタン基含有不飽和化合物、および（ａ３）特定のエーテル構造を有する不飽和化合物の共重合体、ならびに〔Ｂ〕１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）