【課題】製造するディスプレイ画面サイズとバイアス角度の組み合わせごとの生産計画を変更しても柔軟に対応できると共に、金属メッシュパターンのメッキ仕上がり品質が均一に安定した電磁波シールド材ロール体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】長尺の透明基材２１の少なくとも一方の面に金属メッシュパターン２２が設けられ、かつロールの状態で供給される電磁波シールド材ロール体３０であって、前記金属メッシュパターン２２は、前記透明基材２１の長手方向に繋ぎ目無く連続して設けられるとともに、前記金属メッシュパターン２２の上には、前記金属メッシュパターン２２の長手方向に所定の間隔を介して配置された電極枠２４が、積層されている。 （もっと読む）

【課題】第１層が形成されてできた凹凸の影響によるリンス不足に起因する現像残渣の発生を防止し、各色パターンが良好な矩形状に構成され、平坦性の高いカラーフィルタを作製する。
【解決手段】（ａ）第１の着色層形成工程と（ｂ）第１の着色層上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と（ｃ）第１の着色層上の領域のうち第１の着色層とは異なる第２の着色層を形成する領域のみにおけるフォトレジスト層を除去することにより、第１の着色層上に画像を形成する画像形成工程と（ｄ）画像形成工程によって形成された画像様に、第２の着色層を形成する領域における第１の着色層をドライエッチング法により除去するエッチング工程と（ｅ）フォトレジスト層除去工程と（ｆ）着色光硬化性組成物を前記第１の着色層が除去された前記領域に露光、現像により付与して第２の着色層を形成する第２の着色層形成工程と、を設けて構成されている。 （もっと読む）

【課題】着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）および外部からのエネルギーの付与により発色する化合物または外部からのエネルギーの付与により発色する発色組成物（Ｃ）を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成されたパターンの現像後における接着性を向上させることができる感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（ａ）下記一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位から主としてなるポリマーと、（ｂ）接着助剤として末端に酸無水物基を有するシロキサンと、及び（ｃ）溶媒とを含む。
【化１】


［式中、Ｒ¹は３価又は４価の有機基、Ｒ²は２価の有機基、Ｒは炭素炭素不飽和二重結合を有する一価の有機基又は炭素炭素不飽和二重結合を有する化合物がイオン結合したＯ^-Ｍ⁺（Ｍ⁺は水素イオン又は炭素炭素不飽和二重結合を有する化合物と水素からなる陽イオンを表わす。）で表される基であり、全繰り返し単位中に炭素炭素不飽和二重結合を少なくとも１つ含み、ｍは２以上の整数であり、ｎは１又は２である。］ （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックスに最適な撥インキ性を具備させる事により高品質なカラーフィルターをより効率的に製造する事が出来るカラーフィルタの製造方法及び装置を得る。
【解決手段】透明基板上に撥インキ性を付与できる撥インキ剤が含有されているブラックマトリックス用の感光性樹脂組成物を塗工する第１の工程と、前記透明基板を室温の大気中で所定時間待機させ予備乾燥を行う第２の工程と、減圧乾燥作業を行なう第３の工程と、前記透明基板にブラックマトリックスのパターンを露光し現像し焼成する第４の工程と、前記ブラックマトリックスの開口部にインキジェット方式により所望の色のインキを吐出して着色層を形成する第５の工程によりカラーフィルターを製造する。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽性能、光透過性に優れた電磁波遮蔽フィルムを製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に金属塩微粒子を含有する塗布液をインクジェット方式により塗布、乾燥し、得られた塗布層を露光、現像して金属部を形成し、物理現像及び／またはメッキ処理することにより、該金属部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成することを特徴とする電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】微小異物の発生を抑制し、塗布膜としたときの膜厚の膜厚の均一性（面内均一性）が良好な染料含有ネガ型硬化性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）染料、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）ラジカル重合性モノマー、を含んでなる混合物を、フィルタを複数回通過させる工程を有する。 （もっと読む）

【課題】微小異物の発生を抑制し、塗布膜としたときの膜厚の膜厚の均一性（面内均一性）が良好な染料含有ネガ型硬化性組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）染料、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）ラジカル重合性モノマーを含んでなる混合物を、孔径が０．０２μｍ以上０．２μｍ未満のフィルタを通過させる工程を有する。 （もっと読む）

【課題】複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供する。
【解決手段】モールド１は、基板３の一つの面に凸状のレジストパターン５が形成された構造を有している。基板３表面に、スピンまたはスプレー法でレジストを塗布し、レジスト層７を形成する。次に、電子線によりパターンをレジスト層７に描画し、現像を経て基板上に凹凸形状２を得る。レジストパターン５をシリル化により硬化し、モールド１を得る。またこれらの工程を繰り返すことにより、モールド１を得る。複雑なパターン形状を容易にかつ少ない工程で作製でき、さらに凹凸の高さがそろったモールドとその製造方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートを、低いコストで製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明による、所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートの製造方法は、基板上に紫外線硬化樹脂層を形成するステップと、紫外線硬化樹脂層に、微細開口部に対応したパターンの、紫外線露光を行うステップと、現像を行うステップと、紫外線硬化樹脂層を基板から剥離させてプレートを得るステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂の製造方法及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、下記式（１）
【化１】


（上記式（１）において、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはフッ素化メチル基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
で表される重合単位を少なくとも含む半導体レジスト樹脂の保護膜用樹脂の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で液保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】スルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェートである光カチオン重合開始剤（Ａ）と主鎖構造に脂環構造を有し且つエポキシ基が３個以上の多官能エポキシ化合物（Ｂ）を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】スルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェートである光カチオン重合開始剤（Ａ）と下記一般式（１）で表されるビスフェノールフルオレン系エポキシ樹脂（Ｂ）


（式中、Ｒはアルキレン基を示し、ｎは平均値であり、０〜３０の正の実数を示す。）
を含有してなる感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）および着色剤（Ｃ）を含有するポジ型着色感放射線性樹脂組成物において、硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）およびオキセタニル基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体であるポジ型着色感放射線性樹脂組成物［ただし、構成単位（ａ２）に導くオキセタニル基を有する不飽和化合物が不飽和カルボン酸であることはない］。 （もっと読む）

【課題】超微細な導電性パターンを容易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供すること。偏光度に優れたワイヤグリッド型偏光子を提供すること。
【解決手段】光開裂によりラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位に光開裂を生起させ、ラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに導電性素材を付与して、導電性発現層を形成する工程と、をこの順に行うことを特徴とする導電性パターン形成方法、及び該導電性パターン形成方法により得られたワイヤグリッド型偏光子。 （もっと読む）

【課題】固体表面に超微細のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、該ラジカル重合可能な不飽和化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位からラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】超微細な導電性パターンを容易に形成しうる導電性パターン形成方法、及び偏光度に優れたワイヤグリッド型偏光子を提供する。
【解決手段】光開裂によりラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、前記基材上に、撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物を接触させた後、該撥油性の官能基を有するラジカル重合性化合物が光吸収しない波長の光のみで全面露光を行い、前記パターン露光時の非露光領域に残存した該光重合開始部位に光開裂を生起させ、グラフトポリマーを生成させて、当該基材表面にグラフトポリマーの生成領域と非生成領域とを形成する工程と、該グラフトポリマーの非生成領域に導電性素材を付着させる工程と、をこの順に行う導電性パターン形成方法、及び該方法により得られるワイヤグリッド型偏光子。 （もっと読む）

【課題】 凹凸追従性と高解像度とが両立され、かつ、欠陥のない高精細なパターンを効率よく形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上にクッション層と感光層とをこの順に有し、該クッション層における全光線透過率が８６％以上、かつ、ヘイズ値が１０％以下であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】焼成後にガラス基板の黄変が少ない光硬化性組成物を提供するある。また、この光硬化性組成物を用いることによって、導電性焼成物パターンを形成したガラス基板を提供する。
【解決手段】（Ａ）低融点合金粉末、（Ｂ）有機バインダー、（Ｃ）光重合性モノマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。このような光硬化性組成物は、ペースト状形態であってもよく、また予めフィルム状に製膜したドライフィルムの形態であってもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザー光によるアブレーション加工を行う際、分解物などの洗浄除去を容易に行うことができ、高品質のパターン、特にカラーフィルタ用のブラックマトリックスを形成する方法を提供する。
【解決手段】基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。この方法は、カラーフィルタ用ブラックマトリックスの形成に好適である。ブラックマトリックスの形成に適用する場合は、被加工膜２を遮光性樹脂膜と、薄膜パターン１０をブラックマトリックスと、それぞれ読み替えればよい。 （もっと読む）