【課題】硬度及び光沢性が高く、耐衝撃性に優れるとともに、所望の色を発色することが可能な発色材を提供する。
【解決手段】平滑な主面を有する金属下地膜と、前記金属下地膜の前記主面上に形成された、着色材からなる複数の島状部と、前記金属下地膜の前記主面上において、前記複数の島状部の間の空隙を埋めるとともに、上面が、前記複数の島状部の上面位置以上の高さに位置するように形成された金属膜と、を具えるようにして発色材を構成する。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって連続して駆動できる電子放出素子を提供する。
【解決手段】この発明によれば、第１電極と、第１電極上に形成され、開口部を有する絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、前記開口部を挟んで第１電極と対向するとともに、その一部が前記絶縁層と重なるように配置された第２電極と、第１及び第２電極と前記絶縁層との間に配置され、絶縁性微粒子及び導電性微粒子で構成された微粒子層と、を備え、第１電極と第２電極との間に電圧を印加し、第１電極から放出される電子を前記微粒子層で加速させて第２電極を透過するように構成したことを特徴とする電子放出素子が提供される。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好で、低温加熱での硬化が可能であり、かつ高い放射線感度を有するポジ型感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】３級炭素がオキセタニル構造を有するポリビニルエーテルより選択される少なくとも１種の構造単位を含む重合体と酸発生剤を含有し、さらに望ましくは、重合体がモノマー単位として、無水マレイン酸またはマレイミド構造単位を含むポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。 （もっと読む）

【課題】ＨＳＱレジストを用いた微細構造物の製造において、高い歩留まりで製品を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の微細構造物の製造方法は、（工程１）基板と、ハイドロシルセスキオキサンを含むレジスト層と、水溶性導電性高分子化合物を含む層とがこの順序で積層されてなる積層体を準備し、前記積層体に対して荷電粒子線の照射および現像を施してレジストパターンを備えた基板からなるレジストパターン付き基板を準備する工程、（工程２）走査型顕微鏡による前記レジストパターンの観察を行い、観察されたレジストパターン付き基板を、観察結果に基づいて良品または不良品に判別する工程、および（工程３）前記良品を用いて微細構造物を製造する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、パターンエッジの荒れが少ない高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物ならびに前記感光性ペースト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 （Ａ）着色剤を表面に有してなる導電性粉末、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂
（Ｃ）多官能（メタ）アクリレートおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】成形が容易で、硬化後に高い屈折率と化学的安定性を備えた光学部材を有する光電変換素子を提供する。
【解決手段】本発明にかかる光電変換素子は、受発光素子上に、金属酸化物を主成分とする波長５８９ｎｍにおける屈折率２．０以上の無機粒子と、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物と、分子内に水酸基およびカルボキシル基の少なくとも一方を有するアルカリ可溶性重合体と、オキシムエステル構造を有する光ラジカル重合開始剤と、を含む、感光性組成物の硬化膜を有する。 （もっと読む）

【課題】異なる酸化度の酸化銅が混在している状態において、一方のみを選択的に溶解させることのできる酸化銅用エッチング液及びそれを用いた酸化銅用エッチング方法を提供すること。
【解決手段】本発明の酸化銅用エッチング液は、キレート剤と酸化剤と界面活性剤とを少なくとも含み、該キレート剤が、α，ω−ジアミン酢酸、α，ω−ジアミンコハク酸、α，ω−ジアミンプロピオン酸、１，２−ジアミノプロパン四酢酸、クエン酸、イソクエン酸、フマル酸、アジピン酸、コハク酸、グルタミン酸、リンゴ酸、酒石酸、及びこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも一種を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。 （もっと読む）

【課題】オーバーコート層４を形成する樹脂として熱硬化性樹脂を用いた塗布膜が品質基準に達しない場合、塗布膜のみを剥離し、ブラックマトリックス２及び着色画素３を活用してカラーフィルタを廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、製造装置。
【解決手段】カルボキシル基が露出していない熱硬化性樹脂を用いた塗布膜の品質が基準に達しない際、該塗布膜を軟化点以下の温度で微加熱してカルボキシル基を塗布膜表面に露出させ、アルカリ液による中和、溶解処理を施して塗布膜のみを剥離し、ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された状態のガラス基板１の再生を行う。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法及びパターン形成体を提供する。
【解決手段】基板上に第１層目のハードマスク層を形成し、基板上の第１層目のハードマスク層を備えた面に、順に、第２層目から第Ｎ層目までのハードマスク層を形成し、第Ｎ層目のハードマスク層のパターニング処理し、順に、第（Ｎ−１）層目から第１層目までのハードマスク層のパターニング処理し、パターニングされた第１層目から第Ｎ層目までのハードマスク層をエッチングマスクとして基板に第１段目の異方性エッチングしてパターニング処理することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性、耐熱透明性及びパターン形状に優れ、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する架橋性アクリル樹脂、（Ｃ）高分子感光剤、並びに、（Ｄ）溶媒を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、並びに、前記感光性樹脂組成物を使用する硬化膜の形成方法、硬化膜、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】抵抗値が低くかつ高精細なパターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）ガラス粒子、（Ｃ）芳香族系エポキシ樹脂に、不飽和カルボン酸およびカルボン酸無水物を反応させて得られる化合物、（Ｄ）エチレン性不飽和基含有化合物、ならびに（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】基板を平流し方式で搬送しながら現像処理を行う現像処理装置において、基板の処理条件の違いに拘わらず、現像処理を効果的に行う。
【解決手段】基板Ｇの搬送路２と、前記搬送路を搬送される前記基板の前端から後端にわたり現像液Ｄを液盛りする第一の現像ノズル１０と、前記基板の処理に係る情報を取得する基板情報取得手段２０と、前記第一の現像ノズルの下流側に搬送路に沿って移動可能に設けられた第二の現像ノズル１３と、前記第二の現像ノズルを移動させるノズル移動手段１４と、前記第二の現像ノズル及び前記ノズル移動手段の駆動を制御する制御手段２５とを備え、前記制御手段は、前記基板情報取得手段から得られた情報に基づき、前記ノズル移動手段を駆動し、前記搬送路上における所定位置に前記第二の現像ノズルを移動させ、前記第二の現像ノズルから前記基板に現像液を供給する。 （もっと読む）

【課題】無機レジストの現像速度を抑制することができる現像液、およびそれを用いた微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細加工体の製造方法は、基材上に設けられた無機レジスト層を露光する工程と、露光された無機レジスト層を現像液により現像する工程とを備える。現像液は、アルカリ性水溶液とアミン類とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】製造効率の向上、ひいてはコスト低減を図ることのできるフォトレジストのパターン形成方法及び同方法を用いたプローブの製造方法、並びに電子デバイス検査用プローブを提供する。
【解決手段】基板上に第１のレジスト材料を積層する下部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を第１のパターンで露光する第１の露光工程と、第１の露光工程に引き続き、前記下部レジスト層上に、第２のレジスト材料を積層する上部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を露光するために用いた前記第１のパターンと少なくとも一部が重合する第２のパターンで前記上部レジスト層を露光する第２の露光工程と、不要なレジストを除去して開口部が形成されたレジスト層を形成する現像工程と、を有するフォトレジストのパターン形成方法とした。 （もっと読む）

【課題】
フォトリソグラフィー法により精細な接着剤パターンを形成し、各種部材に対する接着性、硬度や耐熱性、耐薬品性等の特性に優れる接着剤パターンの硬化物を形成できる組成物の硬化物を介して部材同士が接合された積層構造物の製造方法を提供する。
【解決手段】
１分子中に複数のオキセタニル基を有する多官能オキセタン化合物と常温で固体のグリシジル型エポキシ化合物と光酸発生剤と有機溶剤とを含む接着剤を被接着部材表面に塗布する工程と、
被接着部材表面に塗布された前記接着剤を活性エネルギー線によりパターン露光する工程と、
パターン露光した接着剤の未露光部を現像にて除去することによって接着剤パターンを形成する工程と、
接合すべき接着部材を前記接着剤パターンに圧着させる工程と、
前記接着剤パターンを熱硬化させる工程とを含むことを特徴とする積層構造物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】分光特性に優れた青色画素、感度、解像性、色純度、透過率に優れたカラーフィルタ、及びカラー表示装置を提供する。
【解決手段】複数色の組からなる着色膜のうちの少なくとも一色の組の着色膜が、色材に染料を含有し感光性を付与しないアルカリ現像性着色組成物の塗布膜を硬化してなる着色層（５ａ）と、該着色層の上にアルカリ現像性感光性組成物の塗布膜を硬化してなる感光層（５ｂ）とからなる。色材の染料が青色染料である。青色染料がトリアリールメタン骨格を有する青色染料である。アルカリ現像性樹脂の酸価が、５０〜１５０ｍｇ／ＫＯＨの範囲である。溶剤がケトン類である。 （もっと読む）

【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 （もっと読む）

【課題】従来に比べてより正確且つ精密に基板上で高分子合成することができる酸転写性樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップを提供する。
【解決手段】本組成物は、（Ａ）重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、を含有する酸転写性樹脂組成物であって、酸発生剤（Ｂ）は、放射線の照射により、スルホニルアニオンを構造中に有する酸を発生させ、スルホニルアニオンの化学構造式中の全原子数に対する炭素原子数の割合が３０％以上である。本方法は、酸解離性基を有する第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、第１膜上に、組成物を用いて第２膜を形成する工程、第２膜を露光して、露光された部分に対応する第１膜から保護基を除去する工程、第２膜を除去する工程、第１膜のうち保護基が除去された部位に第２化合物を結合する工程、を備える。 （もっと読む）