現像装置
【課題】水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させない現像装置を提供する。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。
【解決手段】水置換工程の水置換槽Ｓ４へ水洗水を供給する循環タンクＳＴ１に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器４０を備え、測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水Ｄ３及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整する。現像液成分による汚染度として水洗水の導電率を用いる。循環タンクとして２基の循環タンクを並列に設け、一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が公差外となった際に、他方の循環タンクに切り換えること。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画素の形成に用いる現像装置に関するものであり、特に、現像液から水洗水への水置換の際に、水洗水が現像液の成分によって汚染される汚染度を正確に把握して管理し、汚染に起因した基板の汚れ発生を防止することが可能な現像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、分光特性制御、コントラストの調整、反射率の低減などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法にはフォトリソグラフィ法が挙げられる。
【０００３】
画素の形成は、例えば、ガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、及び現像によって画素を形成するといった方法がとられている。この際の現像方式としては、シャワー方式、浸漬方式、パドル方式などが挙げられる。
【０００４】
図１は、カラーフィルタを製造する際の、現像処理を行う現像装置の一例を示す概略図である。図１に示すように、この現像装置の現像処理工程は、パターン露光での未硬化レジストの部分を溶解除去する現像工程（１０）、現像反応を停止させる水置換工程（２０）、及び現像液の成分を除去する水洗工程（３０）で構成されている。
この現像装置には、上記各工程の処理槽である、現像槽（Ｓ１〜Ｓ３）、水置換槽（Ｓ４）、及び水洗槽（Ｓ５〜Ｓ９）を貫くように搬送ローラー（５）が設けられており、図１中、白太矢印で示すように、搬送ローラー（５）上を搬送されてくる基板（１）に対し、各工程での処理が順次に行われる。なお、点線で示す符号（ＰＬ）は基板（１）の搬送路を表している。
【０００５】
現像工程（１０）の装置は、現像を行う現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）、現像液の循環タンク（ＧＴ）、供給する現像液を濾過する濾過器（Ｒ）、現像液の貯留タンク（ＣＴ）、各開閉弁、各配管で構成されている。
現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）に現像液をシャワー状に噴射するようになっている。
【０００６】
循環タンク（ＧＴ）中の現像液は、循環タンク〜現像槽間を循環して使用される。濾過器（Ｒ）により濾過された現像液は、配管（Ｈ）を経て、現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）の各ノズルから噴射され、基板（１）に現像を施し循環タンク（ＧＴ）へと戻る。現像液の疲労に応じ、循環タンク（ＧＴ）中の現像液は排水（Ｄ１）され、循環タンク（ＧＴ）には貯留タンク（ＣＴ）から現像液の新液が補充されるようになっている。この排水及び補充は適宜に行われる。
【０００７】
水置換工程（２０）の装置は、水置換槽（Ｓ４）、各配管で構成されている。水置換槽（Ｓ４）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のウオータカーテン（Ｗ）が設けられており、現像直後の基板（１）に水洗水をカーテン状に噴射するようになっている。
水置換槽（Ｓ４）には、水洗工程（３０）の水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）から水洗水が供給され、基板（１）上の現像液を置換した水洗水は排水（Ｄ２）される。
【０００８】
水洗工程（３０）の装置は、水洗槽１（Ｓ５）〜水洗槽５（Ｓ９）、水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）、水洗水の循環タンク２（ＳＴ２）、純水の貯留タンク（ＪＴ）、各開閉弁、各配管で構成されている。
水洗槽１（Ｓ５）〜水洗槽５（Ｓ９）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）に水洗水をシャワー状に噴射するようになっている。
【０００９】
循環タンク１（ＳＴ１）内、及び循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水は、循環タンク〜水洗槽間を循環して使用される。循環タンク２（ＳＴ２）から供給を受けた循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽１（Ｓ５）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと戻る。
また、循環タンク２（ＳＴ２）の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽２（Ｓ６）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと回収される。
循環タンク１（ＳＴ１）中の水洗水は、その汚染度に応じ排水（Ｄ３）され、循環タンク１（ＳＴ１）には循環タンク２（ＳＴ２）から水洗水が補充されるようになっている。この循環タンク１（ＳＴ１）からの排水及び循環タンク１への補充は適宜に行われる
【００１０】
水洗工程（３０）の水洗槽３（Ｓ７）は、他のノズルと比較して高圧の水洗水を噴射する水洗槽である。この水洗槽３（Ｓ７）には、搬送ローラー（５）の下方にもノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）の上方及び下方から高圧の水洗水をシャワー状に噴射するようになっている。
この水洗槽３（Ｓ７）へは、循環タンク２（ＳＴ２）からの水洗水が供給される。基板（１）を水洗した水洗水は循環タンク２（ＳＴ２）に戻る。
【００１１】
また、水洗工程（３０）の水洗槽４（Ｓ８）へは、純水の貯留タンク（ＪＴ）から純水を直水として供給される。基板（１）を水洗した水洗水は循環タンク２（ＳＴ２）に回収される。
また、水洗槽５（Ｓ９）には、槽内の仕切られた部位にエアナイフ（Ａ）が設けられており、純水での水洗が終了した基板（１）上に残留している水洗水をエアにより液切り乾燥を行っている。循環タンク２（ＳＴ２）には貯留タンク（ＪＴ）から純水が適宜に補充されるようになっている。
【００１２】
上記のように、この現像装置の水洗処理は、水洗工程の終期の段階で直水としての純水にて基板を水洗し、回収した水洗水を水洗工程の初期の段階へと順次に循環して使用するので、水洗水を効率よく利用したものといえる。
【００１３】
さて、上記水置換工程（２０）での処理は、現像工程（１０）から水洗工程（３０）への移行に際し、現像反応を瞬時に停止させ、現像の面内均一性を図ると共に、現像液が水洗工程へ持ち出されるのを抑えるためになされる処理である。
この処理にて、現像液の持ち出しを完全に無くすことが望ましいのであるが、実際には、現像液の成分は水置換工程（２０）では完全に除去されずに、水置換工程（２０）後の水洗工程（３０）の水洗槽１（Ｓ５）の水洗水に混入する。
【００１４】
この現像液の成分が混入した水洗水が、循環タンク１（ＳＴ１）に回収され循環水として用いられた際に、基板上には現像液の成分が再付着して汚れを発生させることがある。この汚れは、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水が現像液の成分で汚染されることによるので、前記のように、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水及び循環タンク２（ＳＴ２）からの補充は適宜に行われる。
しかし、排水及び補充の頻度は、製品の品質をもとにして汚染を推測して行われるので、
正確なものとはいえない。
【００１５】
そこで、このような汚れを発生させない方策としては、例えば、現像工程（１０）の終期の段階に、現像液の液切りカーテンを設ける方策、水置換工程（２０）のウオータカーテン（Ｗ）にて、噴射する流量を増やす方策、或いは、水洗工程（３０）の循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水頻度を増やす方策、などが挙げられる。
【００１６】
しかし、液切りカーテンを設ける方策では、相応の設備費が嵩むことになる。また、他の方策では、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の汚染度は正確に把握されていないので、流量や頻度を適正に設定して増やすことは困難である。
このため、方策を施すことによって、余分なランニングコストが発生する可能性、或いは、方策を施しても、汚れを発生させる可能性が残されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００６−３１３２１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置を用いた現像処理において、水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗工程の水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させることのないように、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を正確に把握し、管理することにより、余分なランニングコストを費やすことなく、汚染に起因した基板の汚れを防止することが可能な現像装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置において、
１）前記水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、該循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、
２）該測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水、及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整することを特徴とする現像装置である。
【００２０】
また、本発明は、上記発明による現像装置において、前記現像液成分による汚染度として、水洗水の導電率を用いることを特徴とする現像装置である。
【００２１】
また、本発明は、上記発明による現像装置において、前記循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、該水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えることを特徴とする現像装置である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は、水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、測定器で計測された汚染度、例えば、導電率が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整するので、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置を用いた現像処理において、水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗工程の水洗槽に混入した現像液の成分の汚染に起因した基板の汚れを防止することが可能な現像装置となる。
【００２３】
また、本発明は、上記現像装置において、循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換え交互に供給するので、基板を汚染することなく効率よく水洗処理を継続して行うことができる現像装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】カラーフィルタ製造時の現像処理を行う現像装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明による現像装置の一例を示す概略図である。
【図３】図２中の部分を拡大し、循環タンク近傍を説明する概略図である。
【図４】請求項３に係わる現像装置の一例における循環タンク近傍を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明を、その実施の形態に基づいて説明する。
図２は、本発明による現像装置の一例を示す概略図である。また、図３は、図２中符号（Ｐ）で囲む部分を拡大し、循環タンク近傍を説明する概略図である。図２、図３に示すように、この一例として示す現像装置は、前記図１に示す現像装置を基本とし、図３に示す部分を特徴としている。
【００２６】
図２に示すように、この現像装置の現像処理工程は、パターン露光での未硬化レジストの部分を溶解除去する現像工程（１０）、現像反応を停止させる水置換工程（２０）、及び現像液の成分を除去する水洗工程（３０）で構成されている。
この現像装置には、上記各工程の処理槽である、現像槽（Ｓ１〜Ｓ３）、水置換槽（Ｓ４）、及び水洗槽（Ｓ５〜Ｓ９）を貫くように搬送ローラー（５）が設けられており、図２中、白太矢印で示すように、搬送ローラー（５）上を搬送されてくる基板（１）に対し、各工程での処理が順次に行われる。
【００２７】
水置換工程（２０）の装置は、水置換槽（Ｓ４）、各配管で構成されている。水置換槽（Ｓ４）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のウオータカーテン（Ｗ）が設けられており、現像直後の基板（１）に水洗水をカーテン状に噴射するようになっている。
水置換槽（Ｓ４）には、水洗工程（３０）の水洗水の、例示する循環タンク１（ＳＴ１）から水洗水が供給され、基板（１）上の現像液を置換した水洗水は排水（Ｄ２）される。
【００２８】
循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽１（Ｓ５）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと戻る。
また、循環タンク２（ＳＴ２）の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽２（Ｓ６）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと回収される。
また、開閉弁３（Ｖ３）を開状態にして、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水を排水（Ｄ３）し、開閉弁４（Ｖ４）を開状態にして、循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水を循環タンク１（ＳＴ１）へ補充することができる。また、循環タンク２（ＳＴ２）のオーバーフロー配管（図示せず）によりオーバーフロー分を循環タンク１（ＳＴ１）へ補充することもできる。
【００２９】
図３に示すように、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、循環タンク２（ＳＴ２）から供給された水洗水（ａ）と、水洗槽１（Ｓ５）からの循環した水洗水（ｂ）と、水洗槽２（Ｓ６）から回収された水洗水（ｃ）とが混合したものである。
【００３０】
本発明による現像装置は、水置換工程（２０）の水置換槽（Ｓ４）へ水洗水を供給する、例示する循環タンク１（ＳＴ１）に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器（４０）を備えている。
現像液成分による汚染度としては、例えば、水洗水の導電率を用いることができる。導電率は水洗水中の総イオン量の目安となることから、循環タンク１（ＳＴ１）内に持ち込まれた現像液成分による汚染度を把握することが可能である。図３に示す測定器（４０）は、計測部（４１）とセンサ−（４２）で構成される、例えば、導電率計である。
【００３１】
この測定器で計測された汚染度、例えば、導電率が予め設定された公差外となった際には、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水、及び循環タンク１（ＳＴ１）内へ、水洗槽から回収された水洗水として循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水の補充を行い、汚染度、例えば、導電率を公差内に調整する。
計測された導電率が公差外となると、図示せぬ制御機構によって自動的に開閉弁３（Ｖ３）を開とした循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水、及び開閉弁４（Ｖ４）を開とした循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）へ補充が行われ、導電率は公差内に調整される。
【００３２】
この公差は、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水を水置換槽（Ｓ４）へ供給し、水置換槽（Ｓ４）にて現像液と置換する水洗水として用いても、基板に汚れを発生させることのない許容される閾値をもとにして設定される。この設定は、例えば、品種により適宜に設定される。
【００３３】
図４は、請求項３に係わる現像装置の一例における循環タンク近傍を説明する概略図である。この一例の現像装置は、水置換工程（２０）の水置換槽（Ｓ４）へ水洗水を供給する循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設けたものである。水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が、予め設定された公差外となった際には、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えて水洗水の供給を行うことができる。
【００３４】
図４は、循環タンクとして図２に示す循環タンク１（ＳＴ１）を例示したものである。図４に示すように、例示した循環タンク１（ＳＴ１）は、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）と循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）が並列した構成である。循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）には、測定器Ａ（４０Ａ）、開閉弁（Ｖ３−Ａ〜Ｖ６−Ａ）、各配管が備えられており、また、循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）には、測定器Ｂ（４０Ｂ）、開閉弁（Ｖ３−Ｂ〜Ｖ６−Ｂ）、各配管が備えられている。
【００３５】
循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内、及び循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）内には、前もって汚染度が公差内に調整された水洗水を充填しておく。全ての開閉弁を閉とし、先ず開閉弁６Ａ（Ｖ６−Ａ）と開閉弁５Ａ（Ｖ５−Ａ）を開け、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）を作動させる。
水洗槽１（Ｓ５）から水洗水（ｂ）が循環され、水洗槽２（Ｓ６）から水洗水（ｃ）が回収され始めると、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内の水洗水の汚染度が次第に上昇する。汚染度が予め設定された公差外となった時点で循環タンク１Ａからの水洗水の供給を、循環タンク１Ｂからの供給へと切り換える。
【００３６】
この切り換えは、開閉弁６Ａ（Ｖ６−Ａ）と開閉弁５Ａ（Ｖ５−Ａ）を閉とし、循環タ
ンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）の作動を停止させる。次に、開閉弁６Ｂ（Ｖ６−Ｂ）と開閉弁５Ｂ（Ｖ５−Ｂ）を開け、循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）を作動させることにより行われる。
【００３７】
循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）を作動させた後に、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内の水洗水の汚染度を公差内へと調整する。この調整は、開閉弁３Ａ（Ｖ３−Ａ）と開閉弁４Ａ（Ｖ４−Ａ）を開とすることにより行われる。
この調整が終了した後は、上記開閉弁を閉とし、作動中の循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）内の水洗水の汚染度が上昇し公差外となるまで待機する。
【００３８】
上記にように、請求項３に係わる発明の現像装置は、２基の循環タンクが並列に設けられており、循環タンクを交互に切り換えて水洗水を供給するので、基板を汚染することなく効率よく水洗処理を継続して行うことができる。
【符号の説明】
【００３９】
１・・・基板
５・・・搬送ローラー
１０・・・現像工程
２０・・・水置換工程
３０・・・水洗工程
４０・・・測定器
Ａ・・・エアナイフ
ＣＴ・・・貯留タンク
Ｄ１〜Ｄ３・・・・・・排水
ＧＴ・・・現像液の循環タンク
Ｈ・・・配管
Ｎ・・・ノズル
ＰＬ・・・基板の搬送路
Ｒ・・・濾過器
Ｓ１〜Ｓ３・・・現像槽１〜現像槽３
Ｓ４・・・水置換槽
Ｓ５〜Ｓ９・・・水洗槽１〜水洗槽５
ＳＴ１・・・水洗水の循環タンク１
ＳＴ２・・・水洗水の循環タンク２
Ｖ１〜Ｖ７・・・開閉弁１〜７
Ｗ・・・ウオータカーテン
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画素の形成に用いる現像装置に関するものであり、特に、現像液から水洗水への水置換の際に、水洗水が現像液の成分によって汚染される汚染度を正確に把握して管理し、汚染に起因した基板の汚れ発生を防止することが可能な現像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置において、カラー表示、分光特性制御、コントラストの調整、反射率の低減などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。この表示装置に用いられるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成され用いられる。表示装置に用いられるカラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法にはフォトリソグラフィ法が挙げられる。
【０００３】
画素の形成は、例えば、ガラス基板上にフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜へのフォトマスクを介したパターン露光、及び現像によって画素を形成するといった方法がとられている。この際の現像方式としては、シャワー方式、浸漬方式、パドル方式などが挙げられる。
【０００４】
図１は、カラーフィルタを製造する際の、現像処理を行う現像装置の一例を示す概略図である。図１に示すように、この現像装置の現像処理工程は、パターン露光での未硬化レジストの部分を溶解除去する現像工程（１０）、現像反応を停止させる水置換工程（２０）、及び現像液の成分を除去する水洗工程（３０）で構成されている。
この現像装置には、上記各工程の処理槽である、現像槽（Ｓ１〜Ｓ３）、水置換槽（Ｓ４）、及び水洗槽（Ｓ５〜Ｓ９）を貫くように搬送ローラー（５）が設けられており、図１中、白太矢印で示すように、搬送ローラー（５）上を搬送されてくる基板（１）に対し、各工程での処理が順次に行われる。なお、点線で示す符号（ＰＬ）は基板（１）の搬送路を表している。
【０００５】
現像工程（１０）の装置は、現像を行う現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）、現像液の循環タンク（ＧＴ）、供給する現像液を濾過する濾過器（Ｒ）、現像液の貯留タンク（ＣＴ）、各開閉弁、各配管で構成されている。
現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）に現像液をシャワー状に噴射するようになっている。
【０００６】
循環タンク（ＧＴ）中の現像液は、循環タンク〜現像槽間を循環して使用される。濾過器（Ｒ）により濾過された現像液は、配管（Ｈ）を経て、現像槽１（Ｓ１）〜現像槽３（Ｓ３）の各ノズルから噴射され、基板（１）に現像を施し循環タンク（ＧＴ）へと戻る。現像液の疲労に応じ、循環タンク（ＧＴ）中の現像液は排水（Ｄ１）され、循環タンク（ＧＴ）には貯留タンク（ＣＴ）から現像液の新液が補充されるようになっている。この排水及び補充は適宜に行われる。
【０００７】
水置換工程（２０）の装置は、水置換槽（Ｓ４）、各配管で構成されている。水置換槽（Ｓ４）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のウオータカーテン（Ｗ）が設けられており、現像直後の基板（１）に水洗水をカーテン状に噴射するようになっている。
水置換槽（Ｓ４）には、水洗工程（３０）の水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）から水洗水が供給され、基板（１）上の現像液を置換した水洗水は排水（Ｄ２）される。
【０００８】
水洗工程（３０）の装置は、水洗槽１（Ｓ５）〜水洗槽５（Ｓ９）、水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）、水洗水の循環タンク２（ＳＴ２）、純水の貯留タンク（ＪＴ）、各開閉弁、各配管で構成されている。
水洗槽１（Ｓ５）〜水洗槽５（Ｓ９）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）に水洗水をシャワー状に噴射するようになっている。
【０００９】
循環タンク１（ＳＴ１）内、及び循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水は、循環タンク〜水洗槽間を循環して使用される。循環タンク２（ＳＴ２）から供給を受けた循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽１（Ｓ５）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと戻る。
また、循環タンク２（ＳＴ２）の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽２（Ｓ６）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと回収される。
循環タンク１（ＳＴ１）中の水洗水は、その汚染度に応じ排水（Ｄ３）され、循環タンク１（ＳＴ１）には循環タンク２（ＳＴ２）から水洗水が補充されるようになっている。この循環タンク１（ＳＴ１）からの排水及び循環タンク１への補充は適宜に行われる
【００１０】
水洗工程（３０）の水洗槽３（Ｓ７）は、他のノズルと比較して高圧の水洗水を噴射する水洗槽である。この水洗槽３（Ｓ７）には、搬送ローラー（５）の下方にもノズル（Ｎ）が設けられており、搬送ローラー（５）上の基板（１）の上方及び下方から高圧の水洗水をシャワー状に噴射するようになっている。
この水洗槽３（Ｓ７）へは、循環タンク２（ＳＴ２）からの水洗水が供給される。基板（１）を水洗した水洗水は循環タンク２（ＳＴ２）に戻る。
【００１１】
また、水洗工程（３０）の水洗槽４（Ｓ８）へは、純水の貯留タンク（ＪＴ）から純水を直水として供給される。基板（１）を水洗した水洗水は循環タンク２（ＳＴ２）に回収される。
また、水洗槽５（Ｓ９）には、槽内の仕切られた部位にエアナイフ（Ａ）が設けられており、純水での水洗が終了した基板（１）上に残留している水洗水をエアにより液切り乾燥を行っている。循環タンク２（ＳＴ２）には貯留タンク（ＪＴ）から純水が適宜に補充されるようになっている。
【００１２】
上記のように、この現像装置の水洗処理は、水洗工程の終期の段階で直水としての純水にて基板を水洗し、回収した水洗水を水洗工程の初期の段階へと順次に循環して使用するので、水洗水を効率よく利用したものといえる。
【００１３】
さて、上記水置換工程（２０）での処理は、現像工程（１０）から水洗工程（３０）への移行に際し、現像反応を瞬時に停止させ、現像の面内均一性を図ると共に、現像液が水洗工程へ持ち出されるのを抑えるためになされる処理である。
この処理にて、現像液の持ち出しを完全に無くすことが望ましいのであるが、実際には、現像液の成分は水置換工程（２０）では完全に除去されずに、水置換工程（２０）後の水洗工程（３０）の水洗槽１（Ｓ５）の水洗水に混入する。
【００１４】
この現像液の成分が混入した水洗水が、循環タンク１（ＳＴ１）に回収され循環水として用いられた際に、基板上には現像液の成分が再付着して汚れを発生させることがある。この汚れは、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水が現像液の成分で汚染されることによるので、前記のように、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水及び循環タンク２（ＳＴ２）からの補充は適宜に行われる。
しかし、排水及び補充の頻度は、製品の品質をもとにして汚染を推測して行われるので、
正確なものとはいえない。
【００１５】
そこで、このような汚れを発生させない方策としては、例えば、現像工程（１０）の終期の段階に、現像液の液切りカーテンを設ける方策、水置換工程（２０）のウオータカーテン（Ｗ）にて、噴射する流量を増やす方策、或いは、水洗工程（３０）の循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水頻度を増やす方策、などが挙げられる。
【００１６】
しかし、液切りカーテンを設ける方策では、相応の設備費が嵩むことになる。また、他の方策では、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の汚染度は正確に把握されていないので、流量や頻度を適正に設定して増やすことは困難である。
このため、方策を施すことによって、余分なランニングコストが発生する可能性、或いは、方策を施しても、汚れを発生させる可能性が残されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２００６−３１３２１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置を用いた現像処理において、水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗工程の水洗槽に混入した現像液の成分が、循環して基板に汚れを発生させることのないように、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を正確に把握し、管理することにより、余分なランニングコストを費やすことなく、汚染に起因した基板の汚れを防止することが可能な現像装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置において、
１）前記水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、該循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、
２）該測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水、及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整することを特徴とする現像装置である。
【００２０】
また、本発明は、上記発明による現像装置において、前記現像液成分による汚染度として、水洗水の導電率を用いることを特徴とする現像装置である。
【００２１】
また、本発明は、上記発明による現像装置において、前記循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、該水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えることを特徴とする現像装置である。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は、水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、測定器で計測された汚染度、例えば、導電率が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整するので、現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置を用いた現像処理において、水置換工程における現像液から水洗水への水置換の際に、水洗工程の水洗槽に混入した現像液の成分の汚染に起因した基板の汚れを防止することが可能な現像装置となる。
【００２３】
また、本発明は、上記現像装置において、循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換え交互に供給するので、基板を汚染することなく効率よく水洗処理を継続して行うことができる現像装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】カラーフィルタ製造時の現像処理を行う現像装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明による現像装置の一例を示す概略図である。
【図３】図２中の部分を拡大し、循環タンク近傍を説明する概略図である。
【図４】請求項３に係わる現像装置の一例における循環タンク近傍を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本発明を、その実施の形態に基づいて説明する。
図２は、本発明による現像装置の一例を示す概略図である。また、図３は、図２中符号（Ｐ）で囲む部分を拡大し、循環タンク近傍を説明する概略図である。図２、図３に示すように、この一例として示す現像装置は、前記図１に示す現像装置を基本とし、図３に示す部分を特徴としている。
【００２６】
図２に示すように、この現像装置の現像処理工程は、パターン露光での未硬化レジストの部分を溶解除去する現像工程（１０）、現像反応を停止させる水置換工程（２０）、及び現像液の成分を除去する水洗工程（３０）で構成されている。
この現像装置には、上記各工程の処理槽である、現像槽（Ｓ１〜Ｓ３）、水置換槽（Ｓ４）、及び水洗槽（Ｓ５〜Ｓ９）を貫くように搬送ローラー（５）が設けられており、図２中、白太矢印で示すように、搬送ローラー（５）上を搬送されてくる基板（１）に対し、各工程での処理が順次に行われる。
【００２７】
水置換工程（２０）の装置は、水置換槽（Ｓ４）、各配管で構成されている。水置換槽（Ｓ４）内には、基板を搬送する搬送ローラー（５）、及び搬送ローラー（５）の上方に複数のウオータカーテン（Ｗ）が設けられており、現像直後の基板（１）に水洗水をカーテン状に噴射するようになっている。
水置換槽（Ｓ４）には、水洗工程（３０）の水洗水の、例示する循環タンク１（ＳＴ１）から水洗水が供給され、基板（１）上の現像液を置換した水洗水は排水（Ｄ２）される。
【００２８】
循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽１（Ｓ５）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと戻る。
また、循環タンク２（ＳＴ２）の水洗水は、配管（Ｈ）を経て、水洗槽２（Ｓ６）の各ノズルから噴射され、基板（１）に水洗を施し循環タンク１（ＳＴ１）へと回収される。
また、開閉弁３（Ｖ３）を開状態にして、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水を排水（Ｄ３）し、開閉弁４（Ｖ４）を開状態にして、循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水を循環タンク１（ＳＴ１）へ補充することができる。また、循環タンク２（ＳＴ２）のオーバーフロー配管（図示せず）によりオーバーフロー分を循環タンク１（ＳＴ１）へ補充することもできる。
【００２９】
図３に示すように、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水は、循環タンク２（ＳＴ２）から供給された水洗水（ａ）と、水洗槽１（Ｓ５）からの循環した水洗水（ｂ）と、水洗槽２（Ｓ６）から回収された水洗水（ｃ）とが混合したものである。
【００３０】
本発明による現像装置は、水置換工程（２０）の水置換槽（Ｓ４）へ水洗水を供給する、例示する循環タンク１（ＳＴ１）に、循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器（４０）を備えている。
現像液成分による汚染度としては、例えば、水洗水の導電率を用いることができる。導電率は水洗水中の総イオン量の目安となることから、循環タンク１（ＳＴ１）内に持ち込まれた現像液成分による汚染度を把握することが可能である。図３に示す測定器（４０）は、計測部（４１）とセンサ−（４２）で構成される、例えば、導電率計である。
【００３１】
この測定器で計測された汚染度、例えば、導電率が予め設定された公差外となった際には、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水、及び循環タンク１（ＳＴ１）内へ、水洗槽から回収された水洗水として循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水の補充を行い、汚染度、例えば、導電率を公差内に調整する。
計測された導電率が公差外となると、図示せぬ制御機構によって自動的に開閉弁３（Ｖ３）を開とした循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水の排水、及び開閉弁４（Ｖ４）を開とした循環タンク２（ＳＴ２）内の水洗水の循環タンク１（ＳＴ１）へ補充が行われ、導電率は公差内に調整される。
【００３２】
この公差は、循環タンク１（ＳＴ１）内の水洗水を水置換槽（Ｓ４）へ供給し、水置換槽（Ｓ４）にて現像液と置換する水洗水として用いても、基板に汚れを発生させることのない許容される閾値をもとにして設定される。この設定は、例えば、品種により適宜に設定される。
【００３３】
図４は、請求項３に係わる現像装置の一例における循環タンク近傍を説明する概略図である。この一例の現像装置は、水置換工程（２０）の水置換槽（Ｓ４）へ水洗水を供給する循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設けたものである。水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が、予め設定された公差外となった際には、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えて水洗水の供給を行うことができる。
【００３４】
図４は、循環タンクとして図２に示す循環タンク１（ＳＴ１）を例示したものである。図４に示すように、例示した循環タンク１（ＳＴ１）は、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）と循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）が並列した構成である。循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）には、測定器Ａ（４０Ａ）、開閉弁（Ｖ３−Ａ〜Ｖ６−Ａ）、各配管が備えられており、また、循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）には、測定器Ｂ（４０Ｂ）、開閉弁（Ｖ３−Ｂ〜Ｖ６−Ｂ）、各配管が備えられている。
【００３５】
循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内、及び循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）内には、前もって汚染度が公差内に調整された水洗水を充填しておく。全ての開閉弁を閉とし、先ず開閉弁６Ａ（Ｖ６−Ａ）と開閉弁５Ａ（Ｖ５−Ａ）を開け、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）を作動させる。
水洗槽１（Ｓ５）から水洗水（ｂ）が循環され、水洗槽２（Ｓ６）から水洗水（ｃ）が回収され始めると、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内の水洗水の汚染度が次第に上昇する。汚染度が予め設定された公差外となった時点で循環タンク１Ａからの水洗水の供給を、循環タンク１Ｂからの供給へと切り換える。
【００３６】
この切り換えは、開閉弁６Ａ（Ｖ６−Ａ）と開閉弁５Ａ（Ｖ５−Ａ）を閉とし、循環タ
ンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）の作動を停止させる。次に、開閉弁６Ｂ（Ｖ６−Ｂ）と開閉弁５Ｂ（Ｖ５−Ｂ）を開け、循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）を作動させることにより行われる。
【００３７】
循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）を作動させた後に、循環タンク１Ａ（ＳＴ１−Ａ）内の水洗水の汚染度を公差内へと調整する。この調整は、開閉弁３Ａ（Ｖ３−Ａ）と開閉弁４Ａ（Ｖ４−Ａ）を開とすることにより行われる。
この調整が終了した後は、上記開閉弁を閉とし、作動中の循環タンク１Ｂ（ＳＴ１−Ｂ）内の水洗水の汚染度が上昇し公差外となるまで待機する。
【００３８】
上記にように、請求項３に係わる発明の現像装置は、２基の循環タンクが並列に設けられており、循環タンクを交互に切り換えて水洗水を供給するので、基板を汚染することなく効率よく水洗処理を継続して行うことができる。
【符号の説明】
【００３９】
１・・・基板
５・・・搬送ローラー
１０・・・現像工程
２０・・・水置換工程
３０・・・水洗工程
４０・・・測定器
Ａ・・・エアナイフ
ＣＴ・・・貯留タンク
Ｄ１〜Ｄ３・・・・・・排水
ＧＴ・・・現像液の循環タンク
Ｈ・・・配管
Ｎ・・・ノズル
ＰＬ・・・基板の搬送路
Ｒ・・・濾過器
Ｓ１〜Ｓ３・・・現像槽１〜現像槽３
Ｓ４・・・水置換槽
Ｓ５〜Ｓ９・・・水洗槽１〜水洗槽５
ＳＴ１・・・水洗水の循環タンク１
ＳＴ２・・・水洗水の循環タンク２
Ｖ１〜Ｖ７・・・開閉弁１〜７
Ｗ・・・ウオータカーテン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置において、
１）前記水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、該循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、
２）該測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水、及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記現像液成分による汚染度として、水洗水の導電率を用いることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、該水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の現像装置。
【請求項１】
現像工程、水置換工程、水洗工程からなる現像装置において、
１）前記水置換工程の水置換槽へ水洗水を供給する循環タンクに、該循環タンク内の水洗水の現像液成分による汚染度を計測する測定器を備え、
２）該測定器で計測された汚染度が予め設定された公差外となった際に、循環タンク内の水洗水の排水、及び循環タンク内へ水洗槽から回収された水洗水の補充を行い、汚染度を公差内に調整することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記現像液成分による汚染度として、水洗水の導電率を用いることを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記循環タンクとして、２基の循環タンクを並列に設け、水置換槽へ水洗水を供給している一方の循環タンク内の水洗水の汚染度が予め設定された公差外となった際に、該水洗水の供給を、前もって汚染度が公差内に調整されている他方の循環タンクに切り換えることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の現像装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１２４３０９（Ｐ２０１１−１２４３０９Ａ）
【公開日】平成２３年６月２３日（２０１１．６．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２７９２３０（Ｐ２００９−２７９２３０）
【出願日】平成２１年１２月９日（２００９．１２．９）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月２３日（２０１１．６．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月９日（２００９．１２．９）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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