【課題】複数の現像槽２０中を搬送しながら連続して現像し、続く水洗にてガラス基板１１の先端部と後端部との間で殆ど時間差なく現像を停止した際に発生する、ガラス基板の長さ方向の線幅のバラツキを縮小するアルカリ現像方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１１上に噴射するアルカリ現像液のｐＨ値を、複数の連続した現像槽の中央部の現像槽で最大値にし、搬入装置に隣接する先端部の現像槽及び搬出装置に隣接する後端部の現像槽に向かって、中性値に近づくよう段階的に漸減させること。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング法を用いたカラーフィルタの製造方法であって、ドライエッチング処理後のフォトレジスト層の除去が容易であって、所望の着色層パターンを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）支持体上に着色層を形成する工程と、（ｂ）前記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、（ｃ）前記フォトレジスト層をパターン様に除去して前記着色層上に画像を形成する工程と、（ｄ）前記パターン様に前記着色層をフッ素系ガスと酸素とを含むガスを用いたドライエッチング処理により除去する工程と、（ｅ）前記ドライエッチング処理によりフォトレジスト層の露出面側に形成された表面変質層を、含酸素ガスを用いたドライエッチング処理により除去する工程と、（ｆ）残存するフォトレジスト層を除去する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】レジストをエッチングマスクとして用いず、またリフトオフ法を用いることなくパターン形成が可能となるパターンの形成方法等を提供する。
【解決手段】パターンの形成方法であって、
母材上の薄膜の表面に、レジストによるパターンを形成する工程と、
レジストによるパターンの上に、反転層を形成する工程と、
反転層を前記レジストの表面が露出するまで除去した後に、レジストを除去することにより、レジストによるパターンと相補的な前記反転層による反転パターン形成する工程と、
反転層による反転パターンをマスクとして前記薄膜をエッチングし、該薄膜上に反転層を有する該薄膜によるハードマスク層を形成し、該ハードマスク層をマスクとして、または薄膜上の前記反転層を除去したハードマスク層をマスクとして、母材をエッチングする工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】パターン幅の微細化、パターンの３次元化が可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、現像処理により意図的にレジストパターンを倒壊させることを特徴とする。本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルタの特性低下を防止したカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】
第１の着色層塗布工程と、所望の大きさよりも大きく第１の着色層２０を形成する第１の着色層形成工程と、第２の着色層塗布工程と、フォトレジスト層形成工程と、フォトレジスト層２２を第３の着色層２３を形成するパターン様に除去する画像形成工程と、エッチング工程と、フォトレジスト層除去工程と、３の着色層塗布工程と、第１の着色層２０が露出するまで平坦化する平坦化工程とによりカラーフィルタを製造する。 （もっと読む）

【課題】高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池の実現を可能とする負極基材、この負極基材を用いた二次電池、この負極基材の形成に用いられるポジ型ホトレジスト組成物、及びこの負極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物により形成された有機膜を備えた支持体に、金属膜を形成してなることを特徴とする負極基材、又は前記有機膜をパターン露光により所定形状にパターン化したパターン化有機膜を備えたことを特徴とする負極基材によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 （もっと読む）

【課題】基板の損傷を防止しつつ基板の表面に均一に処理液を供給することができる基板処理装置を提供する
【解決手段】基板処理装置の洗浄処理部５ａ〜５ｄは、基板保持台２１、処理液ノズル５０、不活性ガス供給板１１０、および供給板回転駆動機構１３８を備える。基板保持台２１により基板Ｗが略水平に保持され、その基板Ｗに処理液ノズル５０から処理液が供給されるとともに、不活性ガス供給板１１０から不活性ガスが供給される。このとき、不活性ガス供給板１１０は、供給板回転駆動機構１３８により回転されつつ不活性ガスを基板Ｗの表面に供給する。 （もっと読む）

【課題】従来技術では困難であった一方の開口部から他方の開口部まで同一径で、径が５０μｍ以下の微細径貫通孔を形成することを可能とする。また、孔の内部を外部から視認できるようにする。
【解決手段】本発明の一実施形態によれば、第１の樹脂基材１３の一平面に所望の微細径の金属線１９を所望のピッチで配設し、前記金属線１９が配設された第１の樹脂基材１３の一平面と、前記第１の樹脂基材と同じ材質からなる第２の樹脂基材１４の一平面とを、前記第１および第２の樹脂基材の材質を主成分とする接着剤を介して接着して一体化し、一体化された前記第１および第２の樹脂基材１５を所望の厚さに切断し、一体化された前記第１および第２の樹脂基材１７をエッチング液に浸漬して前記金属線１９を溶解すること、を備えることを特徴とする微細径貫通孔を有する樹脂基材１８の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】ヒートモードの無機レジストにおいて、原盤のレジストに凸凹の溝を形成する際に、原盤の現像終点をリアルタイムで検知することで、上記溝深さを正確に制御する。
【解決手段】原盤を回転させながら現像を行い、現像と同時にレジスト面側からレジスト表面に検出光をフォーカス制御し、レジスト面からの反射光から凹凸のプッシュプル信号振幅を検知することで、現像終点を検知する。 （もっと読む）

【課題】パターニング精度を維持したまま高ＯＤ化させる。
【解決手段】ポジ型あるいはネガ型のフォトレジスト中にクロミズム特性を有する材料を含む感光性樹脂組成物を提供する。この感光性樹脂組成物は、加熱あるいは光照射等によってＯＤ値を変化できる。したがって、パターニング工程後に加熱あるいは光照射等を行って高ＯＤ化させることによって、パターニング精度を高く維持すると共に、高ＯＤ化させたブラックマトリクスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】光反応性樹脂からなる構造体を破損せずに簡単に製造する製造方法を提供する。
【解決手段】光反応性樹脂２０からなる構造体１を製造する方法であって、液体状の光反応性樹脂２０が塗布された温水溶融シート１０の光反応性樹脂２０にマスク３０のパターン３２を露光し、露光後の光反応性樹脂２０と温水溶融シート１０を現像し、現像後の光反応性樹脂２０と温水溶融シート１０を５０℃以上の温水で処理して温水溶融シート１０を溶解することを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】グラフトポリマー生成領域と非生成領域との境界が鮮明なパターンを形成することのできるグラフトパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（ａ）可視域に吸収を有する増感剤、（ｂ１）該増感剤により増感される重合開始剤、（ｂ２）該増感剤により増感されない重合開始剤、及び（ｃ）重合性不飽和結合を有する化合物を含有する硬化性層を形成し、該硬化性層に対して画像様に可視光を照射して、当該硬化性層に硬化部と未硬化部とを形成する工程と、該硬化性層の未硬化部を現像により除去し、前記硬化性層の残存部と前記支持体の露出部によるパターンを形成する工程と、該パターン上に、グラフトポリマー前駆体を接触させた後、紫外光を照射して、前記硬化性層の残存部上にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーの生成領域と非生成領域とからなるグラフトパターンを形成する工程と、を有するグラフトパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】サンドブラスト用マスクを簡便な方法で形成する際に好適に用いられる積層体、およびサンドブラスト用マスク、ならびに被加工基材の処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に積層体は、互いに背向する少なくとも一対の面に粘着性を有する基材と、前記基材の前記一方の面に設けられた感光性樹脂層と、を含む。この積層体を用いてサンドブラスト用マスクを形成することで、取り扱いが容易なサンドブラスト用マスクを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】立体模様と視覚効果のあるプラスチック部材及び製作方法を提供する。
【解決手段】製作方法は、立体模様面と平坦面を有するプラスチック部材を製作し、プラスチック部材の立体模様面または平坦面に視覚効果を生じさせる薄膜層を形成するステップからなる。 （もっと読む）

【課題】作業性に優れ、かつパターン形状に優れたＦＰＤの構成要素（例えば、誘電体、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができるＦＰＤの製造方法を提供すること
【解決手段】式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう）を含有するレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体含有樹脂層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体含有樹脂層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、無機パターンを有するパネル材料を形成する。 （もっと読む）

【課題】 安定したパターン形成を可能にする、導電性パターン形成方法の提供。
【解決手段】
ａ） 金属微粒子、この金属微粒子を分散媒体中で分散状態に維持する分散剤、光酸発生剤及び分散媒体を含む感光性パターン形成用組成物を用意する段階、
ｂ） 前記感光性パターン形成用組成物を基材上に塗布、乾燥して、基材上に前記組成物からなる膜を形成する段階、
ｃ） 段階ｂ）で得られた膜に放射線を照射して潜像を得る段階、
ｄ） 段階ｃ）で得られた潜像を含む膜を熱処理する段階、及び
ｅ） 段階ｄ）からの熱処理した膜を現像液で処理してパターンを得る段階、
を含む、導電性パターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感光性着色膜を現像する際において、製造効率を向上させる。
【解決手段】感光性着色膜を現像する際には、アルカリ水溶液にノニオン系界面活性剤が添加された現像液であって、ノニオン系界面活性剤が、ポリプロピレングリコール基を疎水基とし、ポリエチレングリコール基を親水基とした構造において、疎水基の数平均分子量が１２００±２７５であり、且つ、親水基の含有率が２０〜８５重量％である現像液を用いる。 （もっと読む）

【課題】簡便に製造され精度の高いパターンを有するサンドブラスト用マスクおよびその製造方法、ならびにサンドブラスト用マスクの使用方法を実現する。
【解決手段】本発明に係るサンドブラスト用マスクの製造方法は、基材の上に感光性樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層の不要部分を昇華させて、感光性樹脂部材からなるパターンを形成するパターン形成工程と、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において、モールドパターン破壊を低減するインプリントモールドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント用モールドは、凹凸状パターンの少なくとも凹部の角をラウンド形状にしたことを特徴とすることにより、インプリントにおけるモールド離型時に、モールド材料中の応力集中を緩和することが出来る。このため、モールドパターンの破壊を低減することが可能となる。特に、高アスペクト比のパターン転写であってもモールドパターン破壊を低減することが可能となる。 （もっと読む）