【課題】被成形体の破損を低減する技術を提供する。
【解決手段】型面に凹部と凸部とを有するパターンが形成された成形型１０であって、凸部の角が円弧を有するように形成された成形型１０を用いて成形する。この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡便に、溝構造または中空構造を有する部材、特に微細な部材を製造する。
【解決手段】パターン形成された硬化性樹脂組成物のある基板上に、当該硬化性樹脂組成物とは違う組成の硬化性樹脂組成物を塗布し、パターンを形成し、その後、最初に形成した硬化性樹脂組成物パターンを溶剤によって除去することで、２番目の硬化性樹脂組成パターンを離型する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、円筒状のワークを横置きにしてワークの内表面を加工する場合であっても、ワークの撓みを抑制して良好に加工を行うことを目的とする。
【解決手段】円筒内表面の加工装置（レーザ照射装置６）は、ワーク３の両端を回転可能に支持するワーク支持台（中空支持軸６４ａおよびベアリング台６４ｂ）と、ワーク３を回転させる駆動装置（モータ、ベルト６４ｃおよびプーリ６４ｄ）と、前記ワーク支持台に形成される孔６４ｆから通されてワーク３内においてワーク３の軸方向に延びるヘッド支持軸（ヘッドガイド軸６２およびヘッド駆動軸６３ｂ）と、前記ヘッド支持軸に沿って移動しながら、ワーク３の内表面にレーザ光を照射するヘッド６１と、を備えて構成されている。 （もっと読む）

【課題】より感度が高いｄｅｅｐ−ＵＶレジスト材料を用いることで、より生産性の高い、より微細なノズル構造を形成できるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】（ｉ）インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に特定の高分子化合物を含有するレジスト材料を含む層を形成した後、該層をパターニングしてインク流路パターンを形成する工程と（ii）常温にて固体状のエポキシ樹脂を含む液体を流路パターン上に塗布してインク流路壁となる被覆樹脂層を形成する工程と（iii）インク吐出圧力発生素子上に位置する被覆樹脂層を除去してインク吐出口を形成する工程と（iv）流路パターンを除去する工程とを有しており、工程（ii）において、インク流路パターン上に形成される被覆樹脂層の屈折率とインク流路パターンの屈折率との差が０．０３以下であるインクジェット記録ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた熱分解性及び感光性を有し、充分な膜厚を有する被膜を形成することが可能な焼結性レジスト組成物を提供する。また、該焼結性レジスト組成物を用いたマイクロ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ構造体の製造に用いられる焼結性レジスト組成物であって、（メタ）アクリル樹脂、光重合開始剤及び有機溶剤を含有し、上記（メタ）アクリル樹脂の含有量が２０〜５０重量％であり、上記（メタ）アクリル樹脂は、分岐構造を有する（メタ）アクリレートに由来するセグメントを４０〜９０重量％、及び、両末端が（メタ）アクリレートで変性されたポリオキシアルキレンエーテルオリゴマーに由来するセグメントを４〜２０重量％含有する焼結性レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】難エッチング材を含む部材であっても、簡便に、かつ、良好な形状にパターニングすることができるドライエッチングによるパターニング方法及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】被エッチング部材のドライエッチングを施す面に感光性樹脂のマスク２４ａを形成した後、撥水処理２８を施す。撥水処理後、感光性樹脂のマスクをポストベークする。次いで、感光性樹脂のマスクを介してドライエッチングを施すことにより被エッチング部材をパターニングする。被エッチング部材としては、磁性体材料、強誘電体材料、及び貴金属の少なくとも一種を含む膜を有するものを好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】銀及び／又は銀合金を含む基板に適用できるフォトレジスト剥離液組成物を提供する。
【解決手段】銀および／または銀合金を含む基板のフォトレジスト剥離液組成物であって、−式（Ｉ）ＮＨ_２−Ａ−Ｙ−Ｂ−Ｚ式中、Ａ、Ｂは、それぞれ相互に独立して、直鎖状または分枝鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｙは、ＮＨまたはＯのいずれかであり、Ｚは、ＮＨ_２、ＯＨ、ＮＨ−Ｄ−ＮＨ_２（ここでＤは直鎖状または分枝鎖状の、炭素数１〜５のアルキレン基である、）で表される化合物、−式（ＩＩ）ＮＨ_２−Ａ−Ｎ(−Ｂ−ＯＨ)_２式中、Ａ，Ｂは式（Ｉ）と同じで表される化合物、−モルホリン、−Ｎ−置換モルホリン、−ピロカテコール、−ハイドロキノン、−ピロガロール、−没食子酸、及び−没食子酸エステルからなる群から選択される１種または２種以上と、１種または２種以上の極性有機溶剤とを含有する、前記フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトレジストの膜厚を略均一にすることで、良好なパターン形状を円筒状の外表面に形成することができる円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ワーク３の円筒状の外表面３ａに凹凸パターンを形成する円筒外表面の加工方法であって、液槽２内の塗布液１中にワーク３を浸漬させる浸漬工程と、ワーク３を中心軸ＣＡ回りに回転させながら引き上げる取出工程と、ワーク３の外表面３ａに塗布された塗布液１を乾燥させてフォトレジスト層５を形成する乾燥工程と、フォトレジスト層５に光を照射することで凹部パターンを形成する光照射工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】減圧乾燥処理にて、真空計が誤作動をしても、塗膜を良好に減圧乾燥できる減圧乾燥処理方法、排気ポンプの異常にて生産能力に支障をきたさない減圧乾燥処理方法を提供する。
【解決手段】１）メイン排気はメイン排気１とメイン排気２で構成され、２）メイン排気１の動作は、スロー排気の終了時、メイン排気バブルの作動により開始させ、塗膜が減圧乾燥をほぼ終了する時間（動作時間３−１）の経過後に終了させ、３）メイン排気２の動作は、ａ）真空計が予め設定された真空到達圧に到達したことを検知した時に終了させ、ｂ）或いは、余裕として設定された時間（動作時間３−２）の経過後に終了させる。警報は、動作時間３−２の経過後の直後に作動させる。 （もっと読む）

【課題】ノルボルネン系化合物重合体フィルムを基材とするカラーフィルターを製造するに際して、製造工程において熱履歴を受けても色ずれを生じることがないカラーフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系化合物付加重合体からなるフィルム基材上に、カラーフィルター用感光性樹脂組成物を塗布し、これを露光し、現像し、熱硬化処理して画素を形成するカラーフィルターの製造方法において、前記熱硬化処理を酸素濃度１０，０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で行なうことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。 （もっと読む）

【課題】位置合わせなしに回折構造による絵柄と金属層による絵柄の位置が合った回折構造形成体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基材表面の一部に回折構造を形成する工程と、前記回折構造が形成された表面全面に金属層を形成し、前記金属層の全面にレーザー光を万線状または網点状に照射し、回折構造における吸収を利用して回折構造上の金属層の一部を選択的に破壊する工程と、前記回折構造が形成された表面全面にフォトレジストを形成し、露光光を金属層の一部が選択的に破壊された部分を通すことによって生じた回折光を前記フォトレジストに照射して前記回折構造上のフォトレジストを硬化させ、現像して前記回折構造を覆うレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスクとしてエッチングを行い、前記回折構造以外の部分の金属層を除去する工程とを有する回折構造形成体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】流路などの微小セル構造を積層形成するための１０μｍ以下の大きさの複数のマイクロパターン部材を有するマイクロパターン複合材であって、各層の位置合わせを容易とし、確実に接着することを可能とするマイクロパターン形成用材料を提供する。
【解決手段】マイクロパターン部材５Ａを形成するためのマイクロパターン形成用材料であって、第１のトリガーが部分的に与えられることにより部分的に硬化し、かつ部分的に硬化した部分以外の部分が除去された後に、第１のトリガーとは異なる第２のトリガーが与えられることにより硬化し、かつ接着性を発現するマイクロパターン形成用材料。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）

【課題】オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。また、カーボンナノチューブを熱硬化剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、熱硬化させてカーボンナノチューブ高分子複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷する、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゴムまたはクッション性を有する樹脂からなるクッション層と、該クッション層の表面に形成されたネガ型感光性組成物層と、該ネガ型感光性組成物層の表面に形成されたグラビアセルと、を含み、該ネガ型感光性組成物層がネガ型感光性組成物からなり、該ネガ型感光性組成物が所定の組成を含有するようにした。 （もっと読む）

【課題】ネガ型感光性組成物を用いて、フォトリソグラフィによってシャープな形状の凹部が形成されたエンボスロール及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属ロールの表面に深度が５〜１００μｍでかつ凹部が非連続的に形成されている多数の凹部を有するエンボスロールであって、ネガ型感光性組成物を用いるフォトリソグラフィ法によって前記凹部を形成する。前記ネガ型感光性組成物が、（Ａ）カルボキシル基を有し且つエチレン性不飽和結合を有するポリマーと、（Ｂ）近赤外線吸収色素と、（Ｃ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーと、（Ｄ）アミノアルコール、アミノアルコールの誘導体及び環状アミンからなる群から選択される１種以上のアミン類と、（Ｅ）有機ホウ素化合物と、（Ｆ）スルホニル化合物と、を含有することが好適である。 （もっと読む）

【課題】光触媒を利用し、親水・撥水パターンを有するパターン形成体であって、親水性部分と撥水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。本発明によれば、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストをもって形成されたパターン形成体を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ネガティブフォトレジストを用いたガラスまたは金属エッチング方法およびこれを用いたクリシェの製造方法に関する。本発明に係るガラスまたは金属エッチング方法は、ネガティブフォトレジストと金属または金属酸化物との接着力が優れているので金属または金属酸化物エッチング液によってフォトレジスト層が腐食されないだけでなく、逆型のフォトマスクを製作する必要がないので製造工程が簡単であり、混合波長などの低分解能光源を用いることができて経済的である。 （もっと読む）

【課題】塗布したときの塗布面の面内均一性が良好であり、着色パターンの側壁に生ずる無機物の堆積を防止して、高精細で、分光特性に優れた着色膜を形成することができる着色パターン形成用着色熱硬化性組成物を提供する。また、高精細で、分光特性に優れた着色パターン及びその形成方法、ならびにカラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。さらに、本発明は、表示特性に優れた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】熱硬化性化合物と、着色剤と、テロメリゼーション法又はオリゴメリゼーション法により形成されたフルオロ脂肪族基を、側鎖に有する高分子界面活性剤と、を含有する着色パターン形成用着色熱硬化性組成物である。全固形分含有量は、５〜１５質量％であることが好ましく、前記着色剤の含有量が、全固形分質量に対して５５〜９０質量％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面に多孔性の低誘電率膜（ポーラスＬｏｗ−ｋ膜）が形成された基板に付着しているレジストを、多孔性の低誘電率膜にダメージを与えるのを防止しながら良好に基板から剥離することができるレジスト剥離方法を提供する。
【解決手段】シリル化剤を必須的に含む強化剤がＳＣＣＯ2と混合されて強化用処理流体が調製され、この強化用処理流体が処理チャンバーに供給される。これにより、基板Ｗに形成されたポーラスＬｏｗ−ｋ膜がシリル化される。続いて、フッ化物成分を必須的に含む剥離剤がＳＣＣＯ2と混合されて剥離用処理流体が調製され、この剥離用処理流体が処理チャンバーに供給される。シリル化によりポーラスＬｏｗ−ｋ膜の剥離剤に対するエッチング耐性が高められていることから、ポーラスＬｏｗ−ｋ膜へのダメージ発生を防止しながらレジストを剥離除去することができる。 （もっと読む）