【課題】耐熱性を有するレリーフ構造体を製造可能であり、塗布欠陥が著しく低減された感光性樹脂組成物の製造方法、及び該方法により得られた感光性樹脂組成物を用いたレリーフパターンを提供する。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）感光剤、（Ｃ）溶剤を含む固形分濃度３０質量％以上のポジ型感光性樹脂組成物を０．１μｍ以下の中空糸フィルターで濾過する工程を含むポジ型感光性樹脂組成物の製造方法、及び該感光性樹脂組成物を用いて形成したレリーフパターン。 （もっと読む）

【課題】版厚精度の優れた液状感光性樹脂凸版を短時間で製造できる方法及び装置を提供すること
【解決手段】少なくともどちらか一方は透明基板である２枚の支持基板の間に配置した液状感光性樹脂層の少なくとも一方の面に活性光が透過可能な透明フィルムを重ね、片面または両面から活性光により画像形成露光をした後、現像処理を行う凸版印刷用感光性樹脂版の製造方法であって、液状感光性樹脂層を成形後、画像成形露光前、または画像成形露光中に前記２枚の支持基板の間隔を上部支持基板に接する範囲内で増加させることを特徴とする凸版印刷用感光性樹脂版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光処理、現像処理をして良好に網点を再現して製版可能とし、簡素な構成で制御が容易で廉価に製作可能な装置で露光処理をできるようにする。
【解決手段】光ラジカル重合反応を利用した画像記録層を設けた光重合性平版刷版に対し画像データに基づいて変調された光ビームを画像形成レベルの出力で照射して潜像を形成すると共に、画像記録層における非画像形成部に対して予備レベルの低出力の光ビームを照射して画像の形成に関与しない潜像を形成し、現像部で画像記録層に現像液を付けてブラッシングすることにより、画像形成レベルの光ビームで形成された潜像を残し、予備レベル光ビームで形成された潜像を除去して潜像を顕在化して製版する。 （もっと読む）

【課題】通常のフォトリソグラフィーの工程において使用される塗布装置に対しユニットの追加等の大幅な装置の付加をすることなく、また塗布、乾燥等の工程を増やすことなく遮光パターンの上面にだけ撥インク性を付与することを可能にする感光性樹脂の塗布装置及び塗布方法を提供することが求められていた。
【解決手段】基板の表面にスリットノズルで塗布液を供給する塗布ユニットと、該基板の表面に塗布した塗布液を乾燥せしめる減圧乾燥装置を備える減圧乾燥ユニットと、を備える塗布装置において、減圧乾燥装置がフルオロカーボン系のガス導入部、プラズマ放電部を備えていることを特徴とする塗布装置および塗布方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、微小電気コンポーネント、微小機械コンポーネント、微小電気機械（ＭＥＭＳ）コンポーネント、又は微小流体コンポーネントを基板上にパッケージするための方法であって、容易に除去可能な第二基板上の架橋フォトレジストから作られた空洞を形成し、選択されたマイクロデバイスを含む第三基板に前記空洞を結合し、次に前記除去可能な第二基板を剥がすことによりパッケージする方法に関する。
（もっと読む）

【課題】水系インクおよび溶剤インクの何れのインクに対しても印字特性が良好な凸版印刷用感光性印刷原版、これに用いるインク受容層形成用組成物、及び凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に、感光性樹脂層とインク受容層とが順次積層されてなる凸版印刷用感光性印刷原版であって、インク受容層は、アクリル変性ポリエステル樹脂エマルジョン、および水溶性樹脂を含有する組成物からなる層である凸版印刷用感光性印刷原版である。 （もっと読む）

【課題】 良好な液浸リソグラフィーを可能とし、しかもフォトレジスト層の現像時に同時に除去することができて、優れたプロセス適用性を有する液浸リソグラフィー用として有効な保護膜材料、及びこのような材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される化合物を溶媒として含有する、アルカリ現像液に可溶なレジスト保護膜材料。
【化１】


（上式中、Ｒ¹は炭素数１〜９の直鎖状又は分岐状のフッ素原子を１個以上有するアルキル基であり、Ｒ²とＲ³は同一又は異種で水素原子、又は炭素数１〜８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基でフッ素原子を１個以上有していても良く、Ｒ⁴は炭素数１〜９の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であり、Ｒ¹＋Ｒ²＋Ｒ³＋Ｒ⁴の炭素数の合計が６〜１０の範囲である。） （もっと読む）

【課題】 レジスト内に添加された撥インキ剤を安定的に表面に発現させる。
【解決手段】 樹脂ブラックマトリクス作製における塗布工程において、基板の大型化に伴い従来のスピンナー方式からスピンレス方式へと移行している。その塗布方式において、乾燥速度に差の有る撥インキ剤の添加された感光性レジストを供給から吐出までを２つの経路により行い、ガラス基板に塗布された塗膜の表面に乾燥速度の速い感光性レジスト、その反対側を乾燥速度の遅いレジストとする事により、塗布後の乾燥工程において、溶剤の乾燥により塗膜表面に発現する撥インキ剤を安定させ、尚且つ、現像工程においても塗膜中の溶剤分が完全に蒸発していない為に、従来同等の現像性をもち安定した樹脂ブラックマトリクスを供給する事が可能となる。 （もっと読む）

【課題】印刷版材料の生産時に所定のサイズに断裁する際の粉落ちによる工程汚染、印刷版材料に印刷機に取り付ける際の印刷機汚染、作業者の印刷版材料取り扱い時の汚れを著しく軽減する印刷版材料の製造方法、及び印刷時の位置精度を大幅に高めるための印刷方法を提供する。
【解決手段】基材上に磁性体を含有する少なくとも親水性層を有する平版印刷版材料に、磁力を与えながら所定の寸法に切断することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。
前記平版印刷版材料が感熱画像形成層を有すること、前記磁性体が光熱変換能を有すること、前記基材が非磁性素材から成ること、は何れも好ましい態様である。 （もっと読む）

【課題】所望の界面で剥離可能であり、剥離性の良好な多層材料、剥離残りを効果的に抑制し、良好なパターンが得られる樹脂パターンの形成方法、及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層とを有し、前記熱可塑性樹脂層が、分子内に極性基を有すると共にエネルギー付与によって気体を発生したり構造変化を生じて該熱可塑性樹脂層を膨張させる化合物を含み、転写後エネルギー付与を行った場合には熱可塑性樹脂層と中間層との界面で剥離され、エネルギー付与を行わない場合には中間層と感光性樹脂層との界面で剥離される多層材料、並びに該多層材料を用い、エネルギー付与によって熱可塑性樹脂層を膨張させ、該熱可塑性樹脂層と中間層との界面で仮支持体を剥離する工程を有する樹脂パターンの形成方法、該形成方法によって樹脂パターンを形成した基板を備える液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】転写材料を複数並列に転写する場合に転写材料の貼り合わせの近傍での気泡及びシワの発生を防ぐことが可能な積層体の製造方法及びその方法により製造された積層体、その積層体を用いた液晶表示装置用基板、液晶表示素子並びに液晶表示装置の提供。
【解決手段】仮支持体と熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層とを少なくとも有する複数の感光性樹脂転写材料を用いて基板上に複数の前記感光性樹脂層を同時に転写する工程を少なくとも含む積層体の製造方法であって、前記感光性樹脂層及び前記熱可塑性樹脂層の１３０℃における溶融粘度比が、感光性樹脂層溶融粘度／熱可塑性樹脂層溶融粘度＝０．５〜５０である積層体の製造方法及びその方法により製造された積層体、その積層体を用いた液晶表示装置用基板、液晶表示素子並びに液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】端面処理においてピンホール、レジスト残りを発生させないガラス基板端部のレジスト除去方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板４０の端部と対向する治具５５の部位に、捻じり振動子の円筒形ホーン２０を端部の辺と平行に設けて、Ａ）スリット内に処理液を充填させた後、端部を処理液貯留部５１に位置させる前に、円筒形ホーンから超音波を処理液に照射し気泡を押し出すこと。Ｂ）スリット内に処理液を充填させ、端部を処理液貯留部に位置させた後、端部に処理液を接触させた状態で、円筒形ホーンから超音波を端部の塗布膜に照射し塗布膜を溶解除去すること。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の諸特性を損なうことなく、基板上に形成される反射防止膜と、この表面に形成されるレジスト膜との密着性を高めて、パターン倒壊を抑制することができる反射防止膜形成方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】まず、基板Ｗに反射防止膜材料を回転塗布して、基板Ｗ上に反射防止膜Ｂを形成する。次に、ＨＭＤＳとキシレンとの混合溶媒を反射防止膜Ｂの上面に所定量供給して、そのまま回転乾燥させる。混合溶媒によって、反射防止膜Ｂの表面エネルギーのうち水素結合成分を小さくする表面改質処理が行われて、反射防止膜Ｂａとなる。その後、基板Ｗに熱処理を行う。以上により、基板Ｗに反射防止膜Ｂａが形成される。これによれば、反射防止膜Ｂａは、本来の諸特性を損なうことなく、レジスト膜との水中における密着エネルギーが増大する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。
【解決手段】先ずレジスト膜の表面に液層を形成した状態で露光した後の基板から保護膜を除去する。次に基板を加熱処理した後、基板の現像処理を行う。この態様において、前記保護膜を除去する前に露光後の基板の表面を洗浄液により洗浄するか、あるいは前記保護膜を除去した後、基板を加熱処理する前に、基板の表面を洗浄液により洗浄する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック支持体を使用する平版印刷版材料の製造方法を提供することであり、また、印刷時の寸法再現性、現像均一性に優れた、平版印刷版材料の提供。
【解決手段】連続帯状のポリエステルフィルム上に親水性層及び感熱性画像形成層を積層塗布後、溝状の下刃１１と３０〜８５度の刃先角を有する円形上刃１０によって所定サイズに断裁加工してなる平版印刷版材料１の製造方法において、該平版印刷版材料１の厚さが１００μｍ以上３００μｍ以下であり、かつ断裁部の下刃溝間隔（ａｍｍ）と上下刃のオーバーラップ量（ｂｍｍ）が、０．０５≦ｂ／ａ≦０．５の関係であることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表面側から基板の裏面側に液浸液が回り込んでも、基板の裏面が濡れたままの状態になるのを抑制することができる基板処理方法を提供することにある。
【解決手段】露光処理が施される被処理基板５と露光処理を行う露光装置１の投影光学系４との間に液体を介在させつつ露光処理を行う液浸露光に供される被処理基板５の露光処理が施される側の第１の主面５ａ上にレジスト膜３２を設けるのに先立って、少なくとも第１の主面５ａとは反対側の第２の主面５ｃのうち周縁部５ｂから所定の範囲内の領域に対して選択的に疎水化処理を施す。 （もっと読む）

【課題】パターン形成方法に関し、パターン疎密に依るエッチング形状の差を解消することが可能であり、また、エッチングシフト量の変動などに対して即応性に優れ、且つ、低コストのパターン形成方法を提供しようとする。
【解決手段】パターン密度が異なる回路パターンの形成を必要とする被エッチング膜２のエッチングに於いて、パターン密度にかかわらずエッチング後に所望の寸法をもつ被エッチング膜２を形成する為、所望のエッチングシフト量が得られるレジスト膜厚をそれぞれのパターン密度に応じて決定し、前記パターン密度に対応して膜厚を変化させたレジスト膜４をマスクとしてエッチングを行う。 （もっと読む）

【課題】リードタイムの短縮とパターン形成性のばらつきを低減することが可能となるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）、および（Ｅ）の各工程をこの順に行うパターン形成方法において、（Ｂ）工程と（Ｄ）工程の間に、（Ｃ）加熱乾燥工程で得られた塗膜を２５％ＲＨ以下の湿度雰囲気で除湿する除湿工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。
（Ａ）無機微粒子と感光性有機成分と有機溶媒とを含有する感光性ペーストを基板上へ塗布する塗布工程
（Ｂ）該塗布工程で得られた塗膜を加熱乾燥する加熱乾燥工程
（Ｄ）該加熱乾燥工程で得られた塗膜を露光する露光工程
（Ｅ）該露光工程で得られた塗膜を現像する現像工程 （もっと読む）

【課題】凹版転写法で形成するカラーフィルタ用のブラックマトリクスにおいて、上表面が撥インク性であるブラックマトリクスを形成する。
【解決手段】感光性を有し、層状物上表面が、カラーフィルタの色材層用のインクジェットインクに対して撥インク性を有するブラックマトリクス材層状物４を仮支持体１に配してなる感光性転写部材５を凹版転写法用凹版ｊに、熱、圧を加えた状態の下で貼り合わせ、裏面露光し、仮支持体１を剥がした後、ブラックマトリクス材層状物を現像し、所望のパターンにして凹版転写法用凹版の凹部にブラックマトリクス材を得て、カラーフィルタ用基板ｄと現像後の凹版転写法用凹版ｊとの間に無溶剤感光硬化型接着材を挟み込み、露光して接着剤を硬化させ、凹版転写法用凹版ｊをカラーフィルタ用基板から引き剥がした。 （もっと読む）

【課題】基板縁部の不要な塗布膜を除去する際に塗布膜の溶解物の基板への乗り上げを防ぎ、基板へのパーティクルの付着及び基板の被処理面への影響を抑えることができる塗布膜除去装置を提供すること。
【解決手段】塗布膜が形成された角型の基板Ｍの縁部に溶剤を吹き付けて当該縁部の不要な塗布膜１００を除去する塗布膜除去装置において、前記基板Ｍを水平に保持する基板保持部と、基板の辺の縁部に向けて溶剤を供給する溶剤吐出口６２ａ及び供給された溶剤及び溶解物を吸引して除去する吸引口６４とを含んだ塗布膜除去手段と、溶剤が供給される基板の辺に近接すると共に当該辺に沿って設けられ、前記溶剤及び溶解物を、溶剤の表面張力により一旦引込む溶剤引込部材５２と、前記基板Ｍの辺に沿って塗布膜を除去するための移動機構と、を備えるように塗布膜除去装置を構成することで、塗布膜のばたつきが抑えられ当該塗布膜が基板へ乗り上げることが抑えられる。 （もっと読む）