【課題】 本発明は種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法、例えば、「ワン−ポット」製法に関する。本発明の好ましいワンポット製法は、選択されたフォトレジスト溶媒中でフォトレジスト樹脂バインダーを調製する工程、当該溶媒中から樹脂バインダーを分離することなく、感光性成分及び他の成分を当該樹脂バインダー混合物中に添加して、樹脂バインダーが調製された溶媒中でフォトレジスト組成物を調製する方法を包含している。また、本発明は、フォトレジスト樹脂バインダー、特に、酸不安定基又は不活性ブロッキング基などの基と共有結合することができるフェノール性−ＯＨ基を含有するフェノール性ポリマー、の新規な製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】寸法精度及び生産性に優れるフォトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明の第１の態様にかかるフォトレジストパターン形成方法は、基板上に形成された被エッチング膜上にフォトレジストを塗布するステップと、前記フォトレジストが塗布された基板を、プリベーク炉内でプリベークするステップと、前記プリベーク炉から搬出した前記基板を温調ユニット内において、温度センサにより基板温度を測定しながら所定の温度まで冷却するステップと、前記温調ユニットから搬出した前記基板上のフォトレジストを露光機内で露光するステップと、前記露光機から搬出した前記基板上のフォトレジストを現像するステップと、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】 現像した後の硬化レジストパターンの解像度が高度に優れ、サイドウォールのがたつきが少なく、これに由来するエッチング工程又はめっき工程において形成される回路の欠けや断線、ショートなどの欠陥の少ないプリント配線板等の金属配線パターンの製造過程における露光方法を提供すること。
【解決手段】片面又は両面に金属導体層を有する金属被覆絶縁板の金属被覆された面に、支持体（Ａ）、厚みが１〜３５μｍであるネガ型感光性樹脂層（Ｂ）、及び保護層（Ｃ）を有する感光性樹脂積層体を、ネガ型感光性樹脂層（Ｂ）が該金属被覆絶縁板の金属被覆面と密着するようにラミネートして、フォトマスクを通して紫外線露光するに際し、露光の前に支持体を剥離した上で、フォトマスクの像をレンズを通して投影させることを特徴とする感光性樹脂層への露光方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてナフチル基を有する繰り返し単位とフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することで、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することでパターン形状の劣化を防止でき、膜表面に残存する液滴が誘発するパターン形成不良を低減することもできる。
従って、本発明のレジスト材料を用いれば、液浸リソグラフィーにおけるコストを削減し、欠陥の少ない微細なパターンを高精度で形成できる。 （もっと読む）

【課題】
環状オレフィン系重合体を含有する組成物に対し優れた溶解性を有し、かつ乾燥性にも優れるシンナー組成物、及びこのシンナー組成物を用いて環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
２種のアルコールエーテルと２種のアルコールエステルを含有してなることを特徴とする環状オレフィン系重合体含有組成物除去用シンナー組成物、及びこのシンナー組成物を用いて環状オレフィン系重合体含有組成物が付着した被洗浄物を洗浄する工程を有する半導体装置又は平面表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）一般式（Ｃ−１）等で表わされるアゾ化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有することを特徴とするレジストパターン形成方法。
【化１】


（Ｒ^１１〜Ｒ^１４は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等であり、Ｒ^１１〜Ｒ^１４の全てが同時に水素原子であることはない。） （もっと読む）

【課題】到達減圧度や減圧速度を高めても、逆テーパー化しないレジストパターンが得られるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−１）等で表わされるトリアゾール化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物を基板に塗布して基板上にポジ型感光性樹脂組成物膜を形成する工程、得られたポジ型感光性樹脂組成物膜を到達圧力５〜４，０００Ｐａの条件で減圧乾燥した後、加熱乾燥して感光性レジスト膜を形成する工程、及び形成された感光性レジスト膜をパターン露光した後、現像してレジストパターンを形成する工程を有するレジストパターン形成方法。
【化１】


（Ｒ^１１及びＲ^１２はα，α−ジメチルベンジル基等であり、少なくとも一方はα，α−ジメチルベンジル基又はアルコキシカルボニルエチル基。Ｒ^１３は水素原子等。） （もっと読む）

【課題】レーザー光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷、特にＦＭスクリーンを使用した面内の網点均一性が良好で、かつ環境条件に対しても安定な光重合型感光性平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】親水性支持体上に、(i)３５０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ増感色素、（ii）ヘキサアリールビスイミダゾール化合物および（iii）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を含有する光重合性の感光層と、さらにその上に保護層を有するレーザーで画像記録可能なネガ型の光重合性感光性平版印刷版において、前記保護層の塗布・乾燥による形成後の感光層残留溶剤量が８．０ｍｇ／ｍ^２以上、４０．０ｍｇ／ｍ^２以下であることを特徴とする光重合型感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】良好な撥インク性を有し、高さバラツキの小さい離画壁が得て、表示ムラを抑えた高品位な画像表示を可能とする。
【解決手段】撥インク剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて塗布形成された塗布膜を、膜面からの高さ０．５ｃｍでの気体の流速が０．５ｍ／ｓ以下となる範囲で乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造用露光装置の投影光学系とウェハとの間を液体で満たした状態で露光処理する液浸リソグラフィにおいて、ウェハの外周部付近を露光する際にもウェハの外側へ液体が流出するのを防ぎつつ露光処理できる液浸リソグラフィ用ウェハおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】感光性レジストが塗布された液浸リソグラフィ用ウェハであって、前記ウェハの外周端面および端面周辺部に撥液剤層が設けられており、前記撥液剤層が、前記ウェハの外周端面および端面周辺部の感光性レジストを除去した箇所に設けられているか、あるいは、前記撥液剤層が、前記ウェハの外周端面および端面周辺部の感光性レジスト上に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 レーザー露光による画像記録が可能であり、機上現像性及び耐刷性が優れた機上現像型の平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 露光部の２５℃における、相対湿度３０％に対する相対湿度５０％の含水量変化率が２．O質量％以下である画像形成層を有し、油性インキと水性成分とを供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版。画像形成層が、露光により疎水性に変化する官能基を有するバインダー樹脂や塩構造を有する重合性化合物を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】パターン画像を形成する前の感光性樹脂膜の面内膜厚変動を小さくすることができる感光性樹脂膜の形成方法を提供する。
【解決手段】撥インク剤を添加し、撥インク剤の添加後と添加前の表面エネルギーの差が２ｍＮ／ｍ以上となる感光性樹脂組成物を調製する工程と、前記感光性樹脂組成物を基板上又は仮支持体上に塗布し、真空乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程とを有する感光性樹脂膜の形成方法とする。 （もっと読む）

【課題】高精細なパターン印刷に適応できる印刷版を簡便な方法で製造する技術の提供。
【解決手段】フォトマスクとポジ型感光性樹脂とを構成成分とするモールドであって、該フォトマスク中に配置された紫外線遮光部分の上にポジ型感光性樹脂が積層されていることを特徴とするモールドを用いた印刷版の製造。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上に凸凹のない平坦な塗布膜を形成すること。
【解決手段】このレジスト塗布処理において、２回目以降のＹ方向走査では、レジストノズル１５４の直ぐ後で超音波照射部１６０をオン状態で、つまり両帯状レジスト液膜Ｒ(1)，Ｒ(2)の境界Ｅ付近に向けて超音波を放射させながらレジストノズル１５４と一体に移動させる。この超音波照射部１６０の超音波照射走査により、両帯状レジスト液膜Ｒ(1)，Ｒ(2)の境界Ｅ付近では、レジスト液が低粘度化ないし流動化して、液膜表面が基板面と平行な方向（水平方向）に均され、凸凹が除去される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光におけるパターン光と異なる波長の光の影響を低減することができ、パターン転写精度の向上をはかる。
【解決手段】マスク上に形成されたパターンを、ＥＵＶ露光装置を用いて基板上のレジスト膜に転写するレジストパターン形成方法であって、基板１００上にレジスト膜１０１を形成する工程と、レジスト膜１０１上に、ＥＵＶ露光装置内のパターン光と異なる波長の光で、且つレジスト膜１０１を感光させる光に対する透過率が、ＥＵＶ露光装置のパターン露光光に対する透過率よりも低い補助膜１０２を形成する工程と、ＥＵＶ露光装置を用いてマスクからのＥＵＶ光をレジスト膜１０１に照射するパターン露光工程と、レジスト膜１０１のパターン露光後に補助膜１０２を除去する工程と、補助膜１０２の除去後にレジスト膜１０１に対して現像液を用いて現像する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物が提供される。本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、塩基で処理することによって変化させることのできる水接触角度を有する１種以上の物質、および／またはフッ素化された光酸不安定基を含む１種以上の物質、および／またはポリマー主鎖から間隔を置く酸基を含む１種以上の物質を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは、液浸リソグラフィー工程中にレジスト層に接触する浸漬流体中へのレジスト物質の浸出を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィープロセスに於いて、ブロッブ欠陥、閉塞欠陥等の欠陥の発生を低減することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、フォトレジスト材料を基板上に塗布してフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を形成した基板と投影レンズの間に液体を挿入し、該液体を介して前記フォトレジスト膜を露光する液浸露光を行う工程と、現像液を用いて前記フォトレジスト膜を現像する工程とを含み、該現像工程において、現像後のリンスを下記一般式（１１）および/または（１２）記載のアセチレンアルコールを０．０００１〜１０質量％含む純水で行うことを特徴とするパターン形成方法。
【化６２】
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【解決手段】フォトレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、ウエハーと投影レンズの間に屈折率１．４以上の液体を挿入して１８０〜２５０ｎｍの波長で露光する工程と、加熱処理後現像液を用いて現像する工程と、現像後のリンスを炭素数１〜４のアルコールを０．１〜５０質量％含む純水で行う工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によって、液浸リソグラフィーにおいてホールパターンの閉塞欠陥やブロッブ欠陥を削減できる。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成するための感放射線性樹脂組成物に含有される感放射線性樹脂組成物用重合体を提供する。
【解決手段】下記式で表される構造を含有する感放射線性樹脂組成物用重合体。


（前記式中、Ｘ、Ｙは互いに独立に酸素又は硫黄を表し、ｍ、ｎは互いに独立に１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】使用頻度等の管理が簡単に行える樹脂凸版を提供する。
【解決手段】印刷部１ａの表面に多数の凸部２が形成された樹脂凸版１（４）であって、上記印刷部１ａとは別の個所の内部もしくは裏面にバーコード５が、樹脂凸版１（４）の表面側および裏面側の少なくとも一方から読み取り可能な状態で形成されている。 （もっと読む）