【課題】ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いた二重露光により微細なコンタクトホールパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体１１上に、ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜１２を形成し、前記レジスト膜に対し、フォトマスクを介した第一の露光を行い、第一のラインアンドスペースパターンの潜像１２’を形成した後、フォトマスクを介した第二の露光を行い、前記第一のラインアンドスペースパターンの潜像と交差するように、第二のラインアンドスペースパターンの潜像１２’’を形成し、前記レジスト膜を現像して前記レジスト膜にホールパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用組成物から気体の発生を抑制する手段を提供すること。
【解決手段】樹脂成分と溶剤とを含む液浸露光用組成物をフィルタで濾過する工程Ａと、液浸露光用組成物の溶存気体を脱気する工程Ｂと、工程Ａ及び工程Ｂを終えた後に液浸露光用組成物を充填する工程Ｃと、を有する液浸露光用組成物の製造方法の提供による。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、レジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により精製し、スラリーを得る工程と、スラリーを濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る工程と、恒率乾燥領域内で湿粉を乾燥して乾燥物を得る工程と、乾燥物を再溶解し、洗浄溶剤をフォトレジスト用溶剤に置換する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】露光工程においてレジスト膜から発生するアウトガスの量を低減して、レジスト膜の適正なパターニングを実現可能なレジスト処理装置を提供する。
【解決手段】開示するレジスト処理装置１０は、基板Ｗに形成されたレジスト膜に対して処理を行うレジスト処理装置１０であって、内部を真空に維持することができる処理容器１２と、処理容器１２内に設けられ、レジスト膜が形成された基板Ｗが載置される載置台１４と、化学的に不活性な第１のガスおよび第２のガスを含む混合ガスを所定の流量にて載置台１２に向けて噴出するガス供給部１６と、ガス供給部１６から所定の流量で噴出される混合ガスが処理容器内で分子線になり得る真空度に処理容器１２を排気することが可能な排気部１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】精製前のフォトレジスト用樹脂を含有する樹脂溶液中に含まれる、樹脂の重合の際に副生したオリゴマーや低分子量のポリマー、目的とする重量平均分子量よりも高分子量のポリマーを効果的に除去することができ、分子量分布が狭く且つ残留金属濃度の低いフォトレジスト用樹脂を得ることができるフォトレジスト用樹脂の精製方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂の精製方法は、フォトレジスト用樹脂と溶剤とを含有する樹脂溶液におけるフォトレジスト用樹脂の精製を、カラムクロマトグラフィー（充填剤；例えば、シリカゲル等の無機材料）により行う。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料、該高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料を高い生産性で製造することができるポジ型平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料梱包体を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、波長７００〜１２００ｎｍに吸収極大を持つ近赤外線吸収色素とを含有する感光層を設けた後、熱処理して製造されたポジ型平版印刷版材料において、前記熱処理時の印刷版材料の雰囲気が、ｐＨ＝３〜６の酸性雰囲気であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）アルキレングリコールアルキルエーテルカルボキシレートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に適用した場合のマスク形状再現性、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）特定の混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。 （もっと読む）

【課題】１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。
【解決手段】ナフトールを有する繰り返し単位、アダマンタンに結合する１級のヒドロキシ基を有する繰り返し単位、酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有する第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第１のレジストパターンを形成する工程と、前記第１のレジストパターンに波長２００ｎｍ以下の高エネルギー線の照射処理、及び加熱処理の少なくとも一方を施すことによって架橋硬化させる工程と、前記第１のレジストパターン上に第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第２のレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）で表される繰り返し単位から構成される高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（Ｒ^1a及びＲ^1bはＨ又はアルキル基、Ｒ²はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ³はＨ又は酸不安定基、Ｒ^4a〜Ｒ^4cはＨ又はアルキル基、Ｒ⁵はアルキル基。０＜ａ１＜１、０≦ａ２＜１、０≦ｂ１＜１、０≦ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＜１、０＜ｂ１＋ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＋ｂ１＋ｂ２≦１。）
【効果】上記レジスト保護膜材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現できる。 （もっと読む）

【課題】寸法ばらつき及び欠陥を可及的に低減したレジストパターンを高いスループットで形成する。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成し、
減圧処理を施した後に、減圧状態の下で前記レジスト膜に露光処理を施し、
常温換算の相対湿度が所定の範囲に保たれたガスを、減圧環境下に導入することにより、減圧状態を解放しながら前記レジスト膜を加湿する、減圧解放処理を行い、
前記減圧解放処理の後、前記レジスト膜を加熱するベーク処理を行い、
前記レジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を支持するピンの基板への転写を防止することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｇを収容するチャンバ１０６と、チャンバ１０６内を減圧する減圧手段１４２と、チャンバ１０６内に配列され、被処理基板Ｇを下方から支持する複数のリフトピン１２８と、リフトピン１２８の複数本をグループ単位として、各グループ内のリフトピン１２８をそれぞれ独立に昇降させるリフトピン昇降手段１２６と、減圧乾燥処理に伴い変化する基板Ｇの温度を、所定の温度範囲に区切って検出する基板温度範囲検出手段１３３と、前記グループ内のリフトピン１２８毎に、当該ピンにおける基板Ｇとの接触部を前記基板温度範囲検出手段１３３により検出された温度範囲に含まれる所定温度に設定するリフトピン温調手段１３１、１３２と、リフトピン昇降手段１２６の駆動制御を行う制御手段１３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えており、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物（製品）中の異物を低減することができる調製装置を提供する。
【解決手段】本調製装置１は、移動式ユニット１０を備えており、移動式ユニット１０には、移動式基台１１と、攪拌装置１３を有する調製タンク１２と、濾過装置１４と、調製タンク１２内の内容物を濾過装置１４まで運ぶための第１ライン１５と、濾過装置１４を通過した内容物を調製タンク１２まで運ぶための第２ライン１６と、調製タンク１２内に原料を供給するための原料供給部３と、調製物を移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部４と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】微粒子等の異物を効率的に捕集することができ、且つレジスト用樹脂含有溶液の生産性に優れるレジスト用樹脂含有溶液の製造方法、及び異物量が低減されたレジスト用樹脂含有溶液を提供する。
【解決手段】本レジスト用樹脂含有溶液の製造方法は、レジスト用樹脂含有溶液を、フィルタに通過させて濾過する濾過工程を備えており、該濾過工程は、第１濾過工程と、該第１濾過工程よりも線速度が低い第２濾過工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含む液体を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、続いて、形成したレジスト膜１０１の上に、無機酸化物からなるナノ粒子（ＨｆＯ_２）とアルカリ可溶性基を有する脂環式化合物（1,3−アダマンタンジオール）とを含む液体１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】第一のレジスト組成物を用いて形成された第一のレジスト膜から第一のレジストパターンが形成された支持体上に、ネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成した後、選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する方法において、前記ネガ型レジスト組成物は、酸解離定数（ｐＫａ）が−３．５〜０の酸を露光により発生する酸発生剤（Ｂ２−１）を含有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ディフェクト要因となる異物が低減されたレジスト用樹脂含有溶液の製造方法、及びディフェクトの発生を抑制できるレジスト用樹脂含有溶液を提供する。
【解決手段】本レジスト用樹脂含有溶液の製造方法は、レジスト用樹脂含有溶液を、親水性の濾材層に通液させた後、疎水性の濾材層に通液させる濾過工程を備えており、且つ親水性の濾材層と疎水性の濾材層とが近接していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物の含有量を低減させたレジスト樹脂含有溶液を得るレジスト樹脂含有溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト樹脂と微粒子とを含有する原溶液から微粒子を除去するろ過工程を含むものであり、ろ過工程は、原溶液を、ろ過装置内を循環させて行うものであり、ろ過装置は、原溶液を貯留し、その内部を加圧可能な加圧タンク１１と、加圧タンク１１から排液される原溶液をろ過するフィルタを有するろ過器１３と、ろ過されたフィルタ処理液を貯留する緩衝タンク１５と、フィルタ処理液を加圧タンク１１に投入する投入ポンプ１７と、加圧タンク内に不活性ガスを供給するガス供給器１９と、を備え、加圧タンク内の圧力を、不活性ガスによって所定の圧力に加圧し、加圧された加圧タンク内の圧力によって、加圧タンク１１から原溶液を排液するレジスト樹脂含有溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ヒートモード型のフォトレジスト層に凹部または低耐久性部を形成する際に発生する異物を除去しながら凹部または低耐久性部を形成することができるパターン形成方法と、この方法を用いた凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 （もっと読む）