【課題】耐傷性に優れる平版印刷版材料が得られる平版印刷版材料の積層体の製造方法および平版印刷版材料積層体を提供する。
【解決手段】支持体上に感光層を有する平版印刷版材料３上に合紙１を重ねる重ね工程２１と、合紙１が重ねられた平版印刷版材料３を積み重ねる積層工程２３とを有する、平版印刷版材料積層体７の製造方法であって、該平版印刷版材料３上に重ねられた合紙１は、該合紙１の両面が各々正負逆に帯電されている平版印刷版材料積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、なかでも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるカルボキシル基を有するラクトン化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＣ１〜１０の１価炭化水素基又はＨ。あるいは、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｗは−ＣＨ₂、−Ｓ−又は−Ｏ−。ｋ¹は０〜４の整数。ｋ²は０又は１。） （もっと読む）

【解決手段】（１）〜（３）の単位を含有する高分子。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、ＲｆはＨ、Ｆ、ＣＦ₃又はＣ₂Ｆ₅、Ａは二価の有機基。Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は酸素を含有してもよい有機基、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が相互に結合して式中の硫黄原子と環を形成しうる。Ｎは０〜２の整数を示す。Ｒ⁸はＨ又はアルキル基、Ｂは単結合または二価の有機基。ａは０〜３、ｂは１〜３、Ｘは酸不安定基。）
【効果】感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用。 （もっと読む）

【課題】異物の混入が少なく、微細なパターンを形成することができるレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法は、フィルター（１１）を備える流路（１）と、流路（１）の後部側に設けられたノズル（３）と、を有する充填装置（Ａ）を用い、レジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物を容器（４）に充填するレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法であって、レジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物を流路（１）に通液してフィルター（１１）でろ過する工程と、フィルター（１１）の前後の差圧が０．３ＭＰａ以下で、ろ過後のレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物を、ノズル（３）から容器（４）に充填する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化及びスループットの向上が図れ、かつ、塗布膜の平坦性の維持が図れるようにすること。
【解決手段】ウエハＷ上に紫外線硬化樹脂液を塗布する塗布ノズルを具備する塗布処理ユニット１５と、紫外線硬化樹脂液が塗布されたウエハを載置し、ウエハの温度上昇を抑制する冷却板７１と、紫外線硬化樹脂液が塗布されたウエハを載置し、紫外線硬化樹脂液中の液分を蒸発させる熱板７０と、を具備する熱処理ユニット３２と、塗布処理ユニットから冷却板へウエハを搬送する搬送機構１１０と、冷却板を熱板に対して進退移動すると共に、ウエハを受け渡しする移動機構７５と、搬送機構によってウエハを冷却板に載置させる際に、ウエハ表面に紫外線を照射する第１の紫外線照射手段７７Ａと、移動機構の駆動によって冷却板上のウエハを熱板上に載置させる際に、ウエハ表面に紫外線を照射する第２の紫外線照射手段７７Ｂと、を設ける。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物を製造する方法であって、濾過工程を含み、その過程においてナイロンからなる濾過膜を有するフィルターを通過させることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン化された傾斜フォトレジスト層の新しい形成方法を提供する。
【解決手段】上面と底面を有する基板を提供するステップ、前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、前記フォトレジスト層上に透明層を提供するステップ、前記透明層上に遮光層を提供するステップ、前記遮光層および前記透明層を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される１種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、３０℃〜１４０℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（１）［式（１）中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基等を示し、Ｘは加水分解性基を示す。］ （もっと読む）

【課題】機能性樹脂組成物としての基本特性に影響を及ぼすことなく、さらなる解像度の向上を実現することができる化学増幅型レジスト組成物及び液浸露光用化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位と、式（Ｉ）


で示される構造単位と、多環式ラクトン構造を有する構造単位とを含有し、それ自体有機溶媒に可溶、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式（II）Ａ⁺Ｅ^-(II）で示される酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】画像再現の均一性に優れ、他の平版印刷版材料を傷付けにくい平版印刷版材料を与える平版印刷版材料積層体の断裁方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に画像形成層を有する平版印刷版材料１を該画像形成層を同方向にして複数枚積層した積層体の支持体側に第一保護部材４を、画像形成層側に第二保護部材５を有する平版印刷版材料積層体を、該第二保護部材５側から押し切り刃８を用いて断裁する平版印刷版材料積層体の断裁方法であって、該第一保護部材４の厚さ（Ｔ１）が４００μｍ以下であり、該第一保護部材４の厚さ（Ｔ１）と該第二保護部材５の厚さ（Ｔ２）とが、Ｔ１／Ｔ２≦０．９である関係を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】異物が少ないカラーフィルタを作製できる硬化性着色組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）重合性化合物、及び（Ｅ）溶剤を含む硬化性着色組成物を製造する過程で、濾過を３回以上行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境負荷が少なく製版時間が短縮された、フレキソ印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】感光性樹脂層（Ａ）、該層（Ａ）に隣接する中間層（Ｂ）、該層（Ｂ）に隣接する接着力調整層（Ｃ）及び該層（Ｃ）に隣接する隣接層（Ｄ）を含む感光性樹脂構成体を露光し、層（Ａ）の一部を硬化する工程（工程（ｉ））、又は感光性樹脂層（Ａ）及び中間層（Ｂ）を露光し、層（Ａ）の一部を硬化した後、接着力調整層（Ｃ）及び該層（Ｃ）に隣接する隣接層（Ｄ）を、層（Ｃ）が層（Ｂ）あるいは層（Ａ）に接するように積層し感光性樹脂構成体とした後、該感光性樹脂構成体を露光する工程（工程（ｉｉ））と、工程（ｉ）又は（ｉｉ）の後、層（Ｂ）、層（Ｃ）及び層（Ｄ）を剥離することにより、層（Ａ）の未硬化部分の少なくとも一部を除去する工程（工程（ｉｉｉ））とを含むフレキソ印刷版の製造方法、それに適用できる感光性樹脂構成体及びそれから得られる印刷版。 （もっと読む）

【課題】高分子化合物（Ａ）を用いたレジスト材料及びレジスト保護膜材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現する。
【解決手段】側鎖にヘキサフルオロアルコールを有するモノマー（１ａ）と、側鎖のヘキサフルオロアルコールの水酸基が保護されたモノマー（１ｂ）の共重合により得られる高分子化合物（Ａ）を液浸リソグラフィー用フォトレジスト用の添加剤材料及びレジスト保護膜材料として用いる。
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【課題】レーザー光を使用することなく、ＣＴＰ等のディジタル化に対応することができ、かつ、短時間で高コントラストの親水・撥水パターンを形成することが可能な印刷版の製造方法、及び印刷後の印刷版を印刷原版へと再生する印刷版の再生方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷版の製造方法は、光触媒層及び撥水性層を備える印刷原版を用いて印刷版を製造する方法であって、撥水性層上に、活性光を遮光する遮光パターンを形成する工程と、印刷原版に、遮光パターンを介して、オゾンで処理しながら活性光を照射する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに用いる液体によるレジスト膜の軟化を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。
【解決手段】レジスト材料は、アルカリ可溶性基の一部が酸により不安定となる酸不安定基で保護された第１のポリマー２０Ａと、アルカリ可溶性基のほぼ全てが酸により不安定となる酸不安定基で保護された第２のポリマー２０Ｂと、酸発生剤とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上、及びマスク忠実性、特にＬＥＲを低減したパターンを与えることのできるポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定のスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
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【課題】ＡｒＦエキシマレーザー光等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性の向上とラインエッジラフネスの低減を両立したポジ型レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、（Ａ）が式（ａ）、式（ｂ）、式（ｃ）の繰り返し単位を含む高分子化合物（１）、（Ｂ）が特定ののスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
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【課題】減圧乾燥処理にて、真空計が誤作動をしても、塗膜を良好に減圧乾燥できる減圧乾燥処理方法、排気ポンプの異常にて生産能力に支障をきたさない減圧乾燥処理方法を提供する。
【解決手段】１）メイン排気はメイン排気１とメイン排気２で構成され、２）メイン排気１の動作は、スロー排気の終了時、メイン排気バブルの作動により開始させ、塗膜が減圧乾燥をほぼ終了する時間（動作時間３−１）の経過後に終了させ、３）メイン排気２の動作は、ａ）真空計が予め設定された真空到達圧に到達したことを検知した時に終了させ、ｂ）或いは、余裕として設定された時間（動作時間３−２）の経過後に終了させる。警報は、動作時間３−２の経過後の直後に作動させる。 （もっと読む）