【課題】感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）塩基性化合物、及び（Ｄ）水酸基が置換した特定の脂環炭化水素基を少なくとも２つ有する特定の化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、下記一般式（１）により表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】現像後のＬＷＲが良好で、膜減りを生じ難い感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と酸解離性基を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、及び（Ｃ）フッ素原子を含有する重合体を含む感放射線性樹脂組成物（但し、一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子などを示し、Ｒ^２は単結合などを示す。Ｒ^３は３価の有機基を示す）。
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【課題】高耐刷で、しかも汚れ性に優れ、機上現像カスの少ない機上現像型の平版印刷版原版及び製版方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、（a）赤外線吸収剤、（ｂ）ラジカル重合開始剤、（ｃ）ポリマー微粒子及び（ｄ）ラジカル重合性ウレタンオリゴマーを含有し、印刷機のシリンダー上で湿し水及び印刷インキにより未露光部が除去可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記（ｄ）ラジカル重合性ウレタンオリゴマーが重合性基、並びにスルホ基、ポリオキシアルキレン鎖を有する基、ヒドロキシ基、アミド基、アンモニウム基及びベタイン構造を有する基から選ばれる少なくとも一つの親水性基を有し、質量平均モル質量（Ｍｗ）が１５００〜１００００であり、かつポリマー微粒子外に存在することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）（Ａ）２個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、
を含むパターン形成方法であり、
前記レジスト組成物が、
（Ａ）樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）架橋剤
（Ｄ）溶剤、及び、
（Ｇ）フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する化合物
を含有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される含フッ素単量体。
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【解決手段】フォトレジスト体積内における酸発生剤およびクエンチャの個数を判定するステップと、フォトレジスト体積により吸収された光子の個数を判定するステップと、酸に変換された酸発生剤の個数を判定するステップと、フォトレジスト体積内における酸とクエンチャとの反応の回数を判定するステップと、フォトレジスト体積の現像を計算するステップと、フォトレジスト体積の現像およびフォトレジストプロファイルの寸法特性の計測により形成された３次元的にシミュレーションされた走査型電子顕微鏡画像をプロセッサを用いて生成するステップとによる、フォトレジストプロファイルの寸法特性を計測するための、プロセッサに基づく方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順で有するレジストパターンの形成方法において、現像液が有機溶剤として、露光前のレジスト膜に対して良溶媒となる溶剤（Ｓ−１）及び露光前のレジスト膜に対して貧溶媒となる溶剤（Ｓ−２）を含有し、沸点について、溶剤（Ｓ−２）＞（Ｓ−１）の関係を満足することを特徴とするレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されるのを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板１を収容するチャンバ部１０と、前記チャンバ部１０に基板１を収容した状態で基板１の裏面に当接して基板１を支持する基板支持部２０と、前記基板支持部２０を駆動制御する制御装置と、を備える減圧乾燥装置であって、前記制御装置は、チャンバ部１０が減圧乾燥環境下で、前記基板支持部２０を駆動制御することにより、基板支持部２０が基板１裏面に当接する当接位置を変更させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】１ｍｍ未満の版厚の樹脂凸版印刷版でも印刷時の耐刷力、耐圧力が大きく、画像形成性およびその再現性に優れた軽量な樹脂凸版印刷版およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の樹脂凸版印刷版１７は、フィルムベース１５上に層厚４５０μｍ〜７８０μｍの感光性樹脂層を形成した感光性樹脂凸版の版材１０を備え、版材１０の表側に密着固定されたネガフィルム１８を通して入射される紫外線のレリーフ露光と、版材１０の裏側に密着されたポジフィルムを通して入射されるバック露光とにより、感光性樹脂層１３にレリーフ像２２とバック析出層２３とを凝固させ、感光性樹脂層の非凝固部を水洗浄で除去して乾燥・後露光を行ない、版厚１ｍｍ未満の可撓性の樹脂凸版印刷版１７が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】現像ムラが生じない塗膜を形成し得る着色硬化性樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）着色硬化性樹脂組成物を構成する成分を混合し、混合物を得る混合工程、（２）混合工程で得られた混合物を攪拌する攪拌工程を含み、さらに攪拌工程で得られた混合物を、（３）２０℃以上４０℃以下の温度で、１０時間以上７２０時間以下静置する保温処理工程及び（４）濾過して濾液を回収する濾過工程を任意の順に含む、着色硬化性樹脂組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、アルカリ現像液であるポジ型現像液に対する溶解度が増大し、有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト組成物を塗布することで、膜を形成し、前記膜を液浸媒体を介して露光し、ネガ型現像液を用いて現像を行うことを含み、前記組成物が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ、アルカリ可溶性基、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、及び特定の繰り返し単位、のいずれかを有する樹脂を含有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）極性変換基を少なくとも１つ有する繰り返し単位（ｃ）を有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、及び（Ｄ）ｐＫａが９以下である塩基性化合物を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
（Ａ）単環または多環の脂環炭化水素構造を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）炭素数５以上のアルキル基を有するアルカリ可溶性化合物、
（Ｄ）溶剤を含有し、
該アルカリ可溶性化合物（Ｃ）が少なくとも１つ以上のフッ素原子を有し酸価が１．６〜１０ミリ当量／ｇの樹脂であることを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
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【課題】焦点深度マージン（ＤＯＦ）、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−Ｃ(Ｘ₁)(Ｘ₂)(ＯＲ₁)で表される基（Ｘ₁及びＸ₂は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、Ｘ₁及びＸ₂のどちらか一方又は両方に少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。Ｒ₁は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも１つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）