【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物、および該液浸露光用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、下記一般式（ｃ）で表される基を有し、少なくとも１つのフッ素原子を含む含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。式中、Ｑは１価の親水基から水素原子１つを除いた基であり、Ｒ^１はフッ素原子を有していてもよい炭素数２以上の炭化水素基である。
［化１］
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【課題】環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料として、（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）テルペン系溶剤と、前記テルペン系溶剤以外の第二の溶剤との混合溶剤を含有するものを使用する。 （もっと読む）

【課題】 デバイスの製造方法、トップコート材料、及びトップコート付き基板を提供すること。
【解決手段】 浸漬リソグラフィにおいて、投影システムの最終要素、浸漬流体及びトップコート中で内部反射が起こらないようにするために、浸漬流体、トップコート及びレジストの厚さｄ_ｌ、ｄ_ｔｃ及びｄ_ｒ、及び屈折率ｎ_ｌ、ｎ_ｔｃ及びｎ_ｒは、次の条件を満たす。
ｎ_ｌ≦ｎ_ｔｃ≦ｎ_ｒ
ｄ_ｌ＞約５．λ
ｄ_ｔｃ≦約５．λ （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂（Ａ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化１】
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【課題】反りによる傷とこすれ傷の発生を確実に防止できる平版印刷版の製造装置を提供する。
【解決手段】加工ライン１００は、ウエブ１２を少なくとも一対の上刃４４と下刃５４で挟み込むことによってウエブ１２をその厚み方向に切断する。下刃５４は、ウエブ１２の中央部を支持する円筒部５４Ａと、円筒部５４Ａから外側に向けて上端位置が徐々に下がる縮径部５４Ｂと、縮径部５４Ｂから外側に向けて上端位置が徐々に上昇してその先端が刃先となる刃先部５４Ｃとから成り、縮径部５４Ｂと円筒部５４Ａとの境界位置５４Ｐにおける角度が１３５度以上であり、縮径部５４Ｂと刃先部５４Ｃとの境界位置５４Ｙが刃先５４Ｑに対して、切断後の製品下面のつぶれ幅ＤＷ以上の位置に形成される。 （もっと読む）

【課題】塗布膜の面状故障を低減し、欠陥の発生を抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物を濾過速度０．１ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以上１．０ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以下で第１のフィルターを通して濾過する第１の濾過工程と、前記第１の濾過工程で濾過された前記感光性樹脂組成物を、更に、濾過速度３０ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以上２００ｍｌ／ｍｉｎ・ｃｍ^２以下で第２のフィルターを通して濾過する第２の濾過工程と、前記第２の濾過工程で濾過された前記感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程と、を有するカラーフィルタの製造方法である。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｃ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
Ｒ¹−Ｏ−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ｃ）
（Ｒ¹はステロイド骨格を有する炭素数２０〜５０の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】 基板を正確に減圧乾燥処理可能な減圧乾燥方法および減圧乾燥装置を提供すること。
【解決手段】 ＲＡＭから、減圧乾燥処理が適切に実行されるときの、減圧乾燥処理中の複数の時点Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３におけるチャンバー内の圧力値を、減圧乾燥処理が適切に実行されるときの圧力値として取得する。そして減圧乾燥処理を開始した後、複数の時点Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３においてチャンバー内の圧力値を測定する。しかる後、測定した圧力値とＲＡＭ５１記憶した圧力値を比較し、測定した圧力値が適正圧力値の範囲内であるか否かを判断する。そして、測定した圧力値とＲＡＭ記憶した圧力値との差が設定範囲を超えた時には、報知手段を利用して処理異常を報知する。 （もっと読む）

【課題】染色工程を必要とせずに検版が可能である水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層の表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。またシリコーンゴム層表面をドライエッチング処理により粗面化することが好ましく、それにより染色工程を必要とせずに検版が可能である水なし平版印刷版原版を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】巻き取りロールから供給されたフィルム基材上に、顔料を分散した透明な着色感光性樹脂をドライフィルム化した着色感光性樹脂層を貼り合わせ、フィルム基材上でフォトリソ法によりパターニングしてカラーフィルターを製造する方法において、設備の増加を伴わず、かつ材料使用効率が高く、容易にフィルム基材上に形成したフレキシブルカラフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材１０１上に１０３着色感光性樹脂層を貼り合せる際、形成するカラーフィルターの有効エリア１１２のサイズに着色感光性樹脂層を切り抜いた後、貼り合わせることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、ラインエッジラフネスに優れ、且つ液浸液の水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の、アルコキシ基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、特定構造の、２つ以上の−ＣＨ₃部分を有する炭化水素基を有する繰り返し単位を有する樹脂及び（Ｄ）溶剤
を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィシステム用洗浄液及び液浸リソグラフィ工程を提供する。
【解決手段】エーテル系溶剤と、アルコール系溶剤と、準水系溶剤と、を含む液浸リソグラフィシステム用洗浄液である。液浸リソグラフィシステムで、フォトレジスト膜が形成された複数のウェーハを、液浸媒体を利用する液浸リソグラフィ工程によって露光した後、所定の周期が経過したとき、露光工程中に液浸媒体が接触した領域をエーテル系溶剤と、アルコール系溶剤と、準水系溶剤とを含む洗浄液を使用して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、パターン倒れ性能が良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）特定の、芳香環構造を有し、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】耐傷性に優れ、高感度でかつ画像再現の均一性に優れるポジ型平版印刷版材料を高い生産効率で製造する平版印刷版材料の製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、画像形成層用塗布液を塗布、乾燥して画像形成層を形成する工程および該画像形成層上に合紙を重ねる工程を有する平版印刷版材料の製造方法であって、該画像形成層がアルカリ可溶性樹脂、光熱変換化合物およびフッ素系化合物を含有し、該合紙を重ねる工程が湿度４０％ＲＨ（相対湿度）以上、８０％ＲＨ（相対湿度）以下で行われることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板表面の液侵部分に存在するフォトレジストの劣化が低減され、あるいは回避されるリソグラフィック投影装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】露光すべき基板と接触したｐＨ７未満の水溶液を通した投射によって露光が実行されるリソグラフィック装置が提供される。水溶液は、反射防止トップコート溶液であることが有利である。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、マスク層が除去された部位の感光性樹脂層が空気中の酸素の影響を受けず、現像後に微細で良好なパターンを有する凸版印刷版を得ることができる凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体上に、（Ｂ）感光性樹脂層と、（Ｃ）少なくとも１種の赤外線吸収性物質を含むマスク層とが、この順に積層されてなる凸版印刷版製造用多層積層体から凸版印刷版を製造する凸版印刷版の製造方法であって、前記感光性樹脂層上に残存膜を残しつつ、前記マスク層を赤外線レーザー光で選択的に除去してパターニングする工程と、パターニングされた前記マスク層を介して前記感光性樹脂層を紫外線で露光する工程と、前記マスク層を除去すると共に、露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程と、を含む、凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。
【解決手段】露光方法は、液体を介して基板上の感光膜を第１露光光で露光する液浸露光処理を含む。露光方法は、基板の周縁領域を第２露光光で露光することと、第２露光光で露光された周縁領域の少なくとも一部に液体に対して撥液性の第１膜を形成することと、第１膜を形成した後に、基板上に感光膜を形成することと、感光膜を形成した後に、液浸露光処理を実行することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物における溶解酸素を抑制する／取り除く様々な方法が提案されているが、当該技術分野において、特にＣＴＰ（ｃｏｍｐｕｔｅｒ−ｔｏ−ｐｌａｔｅ）プロセスで、溶解酸素を取り除く改良された方法の提供。
【解決手段】像様露光の前に感光層から酸素を取り除くために像様露光前に感光性印刷要素を選択的に前露光する方法である。本発明は、ＣＴＰプロセスで使用でき、フレキソレリーフ画像印刷要素を製造する。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ¹はＨ、又はＣ１〜２０の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基の場合、構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ²はＨ、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜８の１価炭化水素基を示す。又は、Ｒ³、Ｒ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ａは、Ｃ１〜６の２価炭化水素基を示す。）含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法、例えば、「ワン−ポット」製法に関する。本発明の好ましいワンポット製法は、選択されたフォトレジスト溶媒中でフォトレジスト樹脂バインダーを調製する工程、当該溶媒中から樹脂バインダーを分離することなく、感光性成分及び他の成分を当該樹脂バインダー混合物中に添加して、樹脂バインダーが調製された溶媒中でフォトレジスト組成物を調製する方法を包含している。また、本発明は、フォトレジスト樹脂バインダー、特に、酸不安定基又は不活性ブロッキング基などの基と共有結合することができるフェノール性−ＯＨ基を含有するフェノール性ポリマー、の新規な製造方法に関する。 （もっと読む）