【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少なく、液浸露光に好適に用いることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、（Ｃ）フッ素原子を有し、リビングアニオン重合により得られる樹脂と、（Ｄ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】光学リソグラフィの解像度を向上させるためのダブルパターニング法などのリソグラフィパターニング法において、アライメントマークのコントラストを改善すること。
【解決手段】第１または第２リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。第１リソグラフィパターンの位置を検出するとともに、それに第２リソグラフィパターンを直接位置合わせするために色素が使用される。この日は、特定の波長または所与の波長帯域において蛍光性、発光性、吸収性、または反射性とすることができる。この波長は、アライメントビームの波長と一致することができる。色素は、第１リソグラフィパターンを、それが放射感応層（例えばレジスト）で上塗りされている場合でも検出できるようにする。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに有用な新規フォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、レジストの樹脂成分と実質的に非混和性である１以上の物質を含む。本発明のさらに好ましいフォトレジスト組成物は、１）Ｓｉ置換、２）フッ素置換；３）超分岐ポリマー；および／または４）ポリマー粒子を含む。本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 （もっと読む）

【課題】印刷機として簡便に使用され、価格も安価であり、デジタル印刷機能を有する印刷システムであり、高速大量印刷のできる大型印刷機として構築でき、また多品種少量印刷にも対応できる補助的小型印刷機としても利用でき、また優れた印刷品質を保持し、且つ環境面、安全性、衛生性、健康面などの要望に対応できる印刷システム、それに使用される印刷版および印刷インクを提供すること。
【解決手段】水性平版印刷方法において、印刷インクが水性媒体中に微細化顔料および水性固着剤を含有する水性顔料インクであり、印刷版が親水性画像部分と撥水性非画像部分からなる平版印刷版であり、親水性画像部分が、前記水性顔料インクが付着するように親水化した光触媒型酸化物を表面に有する膜部分よりなり、撥水性非画像部分が撥水性を有する疎水性部分を表面に有する膜部分からなる平版印刷版であることを特徴とする水性平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く簡便に製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、（１）重合性化合物を重合させることにより、フォトレジスト用の樹脂を含有する樹脂溶液を調製する樹脂溶液調製工程と、（２）樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により回収する回収工程と、（３）回収した樹脂を濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る洗浄工程と、（４）湿粉をフォトレジスト用溶剤に溶解する溶解工程と、を備えており、前記溶解工程において、湿粉及びフォトレジスト用溶剤のうちの少なくとも一方を冷却し、その後、湿粉及びフォトレジスト用溶剤の混合物を昇温する。 （もっと読む）

【課題】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを用いて、フォトレジスト層や各種の基材に微細な凹凸形状を安定して精度よく形成することが可能な凹凸形状の形成方法を提供する。
【解決手段】露光されて水と反応することで可溶化される光反応成分を含有するフォトレジストを基材１１上で固化して、厚さ５μｍ以上のフォトレジスト層１３を形成し（Ｓ２０）、フォトレジスト層１３を露光及び現像することで凹凸形状２０、３０を形成する方法であり、フォトレジスト層１３を形成後、フォトレジスト層１３を所定温度及び所定湿度に保たれた調湿環境内に、所定時間保持した後、露光する。 （もっと読む）

【課題】１９３ｎｍ以上の露光光に対して透明で、さらに液浸露光時において、目的の形状の微細パターンを欠陥なくかつ再現良く形成可能なレジスト積層体を提供する。
【解決手段】基材上にフォトレジスト層（Ｌ１）と透明な保護層（Ｌ２）を有し、該保護層（Ｌ２）が積層体の最表面に形成するレジスト積層体であって、保護層（Ｌ２）が波長１９３ｎｍ以上の紫外光での吸光係数が１．０μｍ^-1以下、現像液溶解速度が５０ｎｍ／ｓｅｃ以上、かつ純水に対する溶解速度が１０ｎｍ／ｍｉｎ以下であるレジスト積層体。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。 （もっと読む）

【課題】異物や汚染物の混入を十分に低減することができ、且つ異物、汚染量の低減された樹脂組成物溶液を効率よく得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】内部に収容された液に非接触で液の液面を測定する非接触タイプの液面計４０を備えるタンク１０を用いて樹脂組成物溶液を製造する。液面計４０は、非接触で液面位置を検出する検出手段として、液の重量の測定、マイクロ波の使用、レーザーの使用、超音波の使用、及び放射線の使用のいずれかを用いたものである。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布し、レジスト膜を形成する工程、高エネルギー線のパターンを露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させ、現像してポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋形成し、ポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、スペースパターン形成工程、スペースパターンを縮小させる工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターンにダメージを与えることなく、間隙に反転用膜形成用組成物を埋め込み、簡易かつ高精度にポジネガ反転を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】微細粒子及びゴミ等を極力低減させ、パターンにおける欠陥数を大幅に低減することができる樹脂溶解液の精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂溶解液に、活性炭並びに（Ａ）金属塩化物、（Ｂ）金属酸化物及び（Ｃ）イオン交換樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の添加物質を接触させる工程を含む樹脂溶解液の精製方法、樹脂溶解液の取得方法、及び化学増幅型フォトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】ヒドロキシナフチル基及び／又はヒドロキシアセナフチレンを有する繰り返し単位と酸によりアルカリ溶解性が向上する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料で基板上に第１のレジスト膜を形成し、加熱処理後に上記レジスト膜を露光、現像し、その後高エネルギー線照射により第１のレジスト膜を架橋硬化させ、その上に第２のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第２のレジスト膜を形成し、加熱処理後に高エネルギー線で上記第２のレジスト膜を露光、現像する工程を有するパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１のポジ型レジスト材料を用い第１パターンを形成後、波長２００nmを超え３２０nm以下の高エネルギー線による架橋反応によりアルカリ現像液とレジスト溶液に不溶化する。その上に第２のレジスト材料で第２パターンを形成することでパターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に含有される添加物の蒸発や昇華を抑制しつつ、塗布膜に含有される溶媒を迅速に乾燥することができる。
【解決手段】高分子塗布液を支持体に塗布した塗布膜の乾燥装置において、塗布膜温度が第１添加物の融点未満になるように熱風乾燥装置２８の乾燥条件をフィードバック制御する第１制御手段４７と、乾燥点に到達した直後に、第１溶媒よりも分子体積の小さな第２溶媒の蒸気含有熱風を用いて塗布膜を乾燥する蒸気乾燥装置２９と、蒸気乾燥装置２９における塗布膜温度を測定する第２温度センサ５１と、第２温度センサ５１の測定結果に基づいて、塗布膜温度が前記第１添加物の融点未満になるように蒸気乾燥装置２９の乾燥条件をフィードバック制御する第２制御手段５３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィによる溶解コントラストを向上して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板２０１の上にレジスト膜２０２を形成する。続いて、レジスト膜２０２の上に、ハロゲン化アダマンタンを含むバリア膜２０３を形成する。続いて、バリア膜２０３の上に液体２０４を配した状態で、バリア膜２０３を介してレジスト膜２０２に対して露光光２０５を選択的に照射してパターン露光を行なう。パターン露光を行なった後に、バリア膜２０２を除去し、さらに、パターン露光が行なわれたレジスト膜２０２に対して現像を行なってレジストパターン２０２ａを形成する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアセタール化合物。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ²は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価の炭化水素基を示す。Ｒ²とＲ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｘ¹は単結合又は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状の二価の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明のレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、レジスト膜の撥水性を低下させ欠陥の発生を抑制できるレジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】レジスト膜の露光後加熱処理（ＰＥＢ）工程前の表面処理液として用いられるレジスト表面改質液であって、酸性化合物と、所定の一般式で表されるアルコール系溶剤及び／又は所定の一般式で表されるエーテル系溶剤と、を含むレジスト表面改質液。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、感光膜を含む基板の表面をプロセスガスより生成されたプラズマと接触させて、基板の表面の液体に対する撥液性を高めることと、プラズマと接触した基板の表面の少なくとも一部に液体を介して露光光を照射して、基板を露光することと、を含む。 （もっと読む）