【課題】耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れ、機上現像可能な平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、および、（Ｄ）バインダーポリマーを有する感光層と保護層とをこの順に有する平版印刷版原版において、前記支持体が、表面における円相当直径が０．２μｍ以上の金属間化合物の密度が３５０００個／ｍｍ²以上で、最大長さ1μm以上のアルミニウム炭化物の数が３００００個／ｇ以下であるアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収色素、および、（Ｂ）疎水性熱可塑性粒子を含む画像記録層を有する平版印刷版原版において、前記支持体が、表面における円相当直径が０．２μｍ以上の金属間化合物の密度が３５０００個／ｍｍ²以上のアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】機上現像性、インキ着肉性、感度及び耐刷性のすべての性能が良好である機上現像型平版印刷版原版及び製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、及び（Ｃ）ラジカル重合性化合物を含有し、露光後、印刷インキと湿し水とを供給することにより未露光部分を除去できる画像記録層、及びオーバーコート層を順次有する平版印刷版原版において、該オーバーコート層が、結晶構造が異なる少なくとも２種の無機層状化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】彫刻時に発生する版上のカスを容易に除去可能であり、レリーフ印刷版への影響が小さいレリーフ印刷版製版用リンス液、及び、レリーフ印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される化合物及び／又は式（２）で表される化合物を含むことを特徴とするレリーフ印刷版製版用リンス液、及び、レリーフ印刷版の製版方法。Ｒ¹〜Ｒ³及びＲ⁶〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ｒ⁴及びＲ⁹は、単結合、又は、二価の連結基を表し、Ａ及びＢはＰＯ（ＯＲ⁵）Ｏ^-、ＯＰＯ（ＯＲ⁵）Ｏ^-、Ｏ^-、ＣＯＯ^-、又は、ＳＯ₃^-を表し、Ｒ⁵は、水素原子、又は、一価の有機基を表し、Ｒ¹〜Ｒ³のうち２つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ⁶〜Ｒ⁸のうち２つ以上の基が互いに結合し環を形成してもよい。
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【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定構造のスルホニウム塩系である、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する樹脂、及び（Ｄ）２種以上の溶剤からなる混合溶剤であり、特定構造を有する溶剤群より選択される少なくとも１種の溶剤を含有し、該溶剤の合計の含有率が全溶剤中の1〜２０質量％である混合溶剤。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】重合体（Ａ１）及び重合体（Ａ１）が可溶な溶媒を含有する第一の感放射線性樹脂組成物を用いて、第一のレジストパターンを基板上に形成する工程（１）と、第一のレジストパターンが形成された基板上に、重合体（Ａ２）及び重合体（Ａ２）が可溶なアルコール系溶媒を含有する第二の感放射線性樹脂組成物を用いて第二のレジストパターンを形成する工程（２）とを含み、かつ重合体（Ａ１）及び第一のレジストパターンが、アルコール系溶媒に不溶である、レジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】赤外線領域において高感度、高解像性で紫外・可視光領域でのセーフライト性に優れ、平版印刷版原版同士の耐接着性と耐キズ性に優れたサーマルネガ版用平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版の感光層を保護する保護層を形成するための組成物であって、けん化度９１モル％以上でスルホン酸変性率１％以下のポリビニルアルコールと、水素添加レシチンと、平均粒径が１〜１０μｍのマット剤とを少なくとも含有する保護層形成用組成物である。 （もっと読む）

個々の原版の間に合紙を入れずに積層体で保管し、輸送し、かつ使用することができるように平版印刷版原版を設計した。これは、画像形成性層又はトップコート等の最も外側の原版層に平均直径3〜20μmのポリマー粒子を組み込むことによって達成される。このポリマー粒子は、架橋ポリマーのコアを含み、架橋ポリマー粒子の存在下で親水性モノマーを重合することにより粒子表面上にグラフトされた、グラフト親水性ポリマー表面基を有する。平版印刷版はネガ型要素であってもポジ型要素であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 化学増幅フォトレジスト組成物及びそれを使用するプロセスを提供する。
【解決手段】 フォトレジスト組成物は、フェノール系ポリマーと、エーテル含有部分及び／又はカルボン酸含有部分を含まない（メタ）アクリレート・ベースのコポリマーとのブレンド、及び、光酸発生剤とを含む。前記コポリマーは、アルキルアクリレート、置換アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、置換アルキルメタクリレート、及びこれらの混合物からなる群から選択される第１のモノマー、並びにアクリレート、メタアクリレート及びこれらの混合物からなる群から選択され、酸開裂性エステル置換基を有する第２のモノマーを含む。当該フォトレジスト組成物を用いて基板上にフォトレジスト像を形成するプロセスも開示される。 （もっと読む）

【課題】通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素及び／又はケイ素原子を含有し、下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を含有する樹脂、並びに（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基を表す。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。
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【課題】微細細線再現性に優れるフレキソ印刷版作成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、少なくとも感光性樹脂層、保護層、感熱マスク層が順次積層されてなる感光性印刷原版を用いて、少なくとも（Ａ）〜（Ｄ）の工程を経てフレキソ印刷版を作成する作成方法。（Ａ）赤外線レーザー光により、感熱マスク層を像様融除する工程（Ｂ）４０℃以上の温度雰囲気下で版を水平な状態で静置する工程（Ｃ）化学線で全面露光する工程（Ｄ）現像工程 （もっと読む）

【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する際のパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法。
【解決手段】フォトレジストパターン４の側壁にスペーサー７を形成して基板１上にパターンを形成するパターン形成方法において、フォトレジスト膜を成膜する工程は、塩基発生剤を含有するフォトレジスト膜材料を用いてフォトレジスト膜を形成し、フォトレジストパターンの側壁にスペーサーを形成する工程は、フォトレジストパターン上にシロキサン結合を有する珪素化合物を含む溶液を塗布した後、ベークによってフォトレジストパターン内に塩基発生剤よりアミン化合物を発生させ、該アミン化合物を触媒としてフォトレジストパターンの外側に珪素化合物の架橋部６を形成し、その後、未架橋の珪素化合物を除去することによりスペーサーを形成する。 （もっと読む）

【課題】作業性及び画像形成特性の両者に優れ、合紙の使用を省略することも可能な感光性平版印刷版を提供すること。
【解決手段】感光性平版印刷版の表面に付着させて使用される赤外線感受性の感光性平版印刷版用粒子状マット剤であって、赤外線吸収染料を含むことを特徴とするマット剤。 （もっと読む）

【課題】ケミカルフリー現像液による現像が可能であり、かつ網絡みが改善されたネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に光ラジカル発生剤、ビニル基が置換したフェニル基を有しｐＨ９．５以下の水溶液に溶解可能な水溶性重合体を含有する感光層を設けたネガ型感光性平版印刷版において、該感光層がヒンダードフェノール構造を有する化合物を含有することを特徴とするネガ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物による膜を形成する工程、
（イ）該膜を露光する工程、及び
（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程
を含むことを特徴とするパターン形成方法であって、前記レジスト組成物が、
（Ａ）酸の作用により、有機溶剤を含む現像液現像液に対する溶解度が減少する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により塩基性が低下する、塩基性化合物又はアンモニウム塩化合物
を含有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤を含む化学増幅型レジスト材料。


（Ｒは芳香環あるいは炭素数５以上の脂環式炭化水素構造を有する一価の炭化水素基。Ｒ’はＨ又はトリフルオロメチル基。Ａ¹はエステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミド結合、カーボネート結合のいずれかを示す。ｎは１〜３の整数。）
【効果】本発明の光酸発生剤より生ずる酸は、スルホネートに嵩高い環式構造で酸拡散を抑制しつつ、直鎖状炭化水素基の存在によって適度な機動性も有していることから、適度な酸拡散挙動を示す。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程に問題なく使用でき、解像性能、ＬＷＲ、露光余裕度といった問題も解決できる。 （もっと読む）

画像とバックグラウンドとの間のコントラストが向上した平版印刷版を、画像化すなわち露光領域を水不溶性着色剤(染料又は顔料)と着色剤が画像化された領域内に埋め込まれるか又は拡散するように画像化領域を十分に膨潤させる有機溶媒とを含有する着色性流体を用いて着色することによって調製する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、印刷時に良好なインキクリーンアップとリスタートトーンニング特性を示す平版印刷版前駆体を提供する。
【解決手段】基板上に、順に、Ｋ単位およびＬ単位からなるコポリマーを含む中間層、ならびに画像形成層を有して成る平版印刷版前駆体であって、
前記Ｋ単位が次式Ｉ：


（上式中、Ｒ₁、Ｙ_１は、明細書中に規定するものである）
のモノマー、または
ＣＨ_２＝ＣＨＰＯ（ＯＨ）_２
から誘導され
前記Ｌ単位が次式ＩＩ：
ＣＨ_２＝ＣＲＣＯＮＨ_２ （ＩＩ）
（上式中、Ｒは、Ｈ、またはＣＨ₃である）
のモノマーから誘導され、
前記コポリマー中、前記Ｋ単位が３％超且つ４０％未満、前記Ｌ単位が６０％超且つ９７％未満であることを特徴とする平版印刷版前駆体。 （もっと読む）