【課題】高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、ポリシロキサンと、感放射線性酸発生剤と、下記一般式（ＣＩ）で表される繰り返し単位を有する重合体と、溶剤と、を含有する。


〔一般式（ＣＩ）において、Ｒ^１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ^２は単結合、メチレン基、炭素数２〜５のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を示す。Ｘはラクトン構造又は環状カーボネート構造を有する１価の基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】より優れた形状及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基；Ｘ^１は炭素数２〜３６の複素環であり、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基で置換されていてもよく、該複素環に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、基板の段差埋め込み性に優れ、耐溶媒性を有し、基板のエッチング中によれの発生がないだけでなく、エッチング後のパターンラフネスが良好なレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜形成方法、パターン形成方法。
【解決手段】少なくとも、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物の酸触媒縮合樹脂（Ａ）、フルオレン骨格を有するビスナフトール化合物（Ｂ）、フラーレン化合物（Ｃ）及び有機溶剤を含有することを特徴とするレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】着肉性に優れ、耐傷性、機上現像性および細線再現性も良好な機上現像型の平版印刷版原版および平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層および分子中にカルボキシル基および／またはスルホン酸基を有するポリビニルアルコールを含有する保護層を有する平版印刷版原版、および機上現像を含む平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに対する膨潤作用が小さく、かつ、含まれる成分の析出が抑制されたフォトリソグラフィ用現像液を提供すること。
【解決手段】本発明は、（Ａ）水酸化テトラブチルアンモニウムと、（Ｂ）下記一般式（１）で表される塩基性化合物と、を含むフォトリソグラフィ用現像液である。
（下記一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、分枝を有してもよいアルキル基であり、Ｒ^１〜Ｒ^４にそれぞれ含まれる炭素原子の数の和は、４〜１５である。）
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【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】膜の破断強度及び水性インキ転移性に優れるレリーフ印刷版を得ることができ、印刷版のレーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性及びレーザー彫刻における彫刻感度に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を有する化合物と、（成分Ｂ）バインダーポリマーとして、ポリウレタンと、を含有することを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。
【解決手段】（Ａ）重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）溶剤を含有するネガ型感放射線性組成物であって、前記重合体（Ａ）が、（ａ１）下記一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物および（ａ２）下記一般式（２）で表される加水分解性シラン化合物から選ばれる少なくとも一種の加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られる重合体であって、重合体（Ａ）に含まれる全ての構成単位の合計を１００モル％とするとき、前記化合物（１）由来の構成単位の含有割合が、８０〜１００モル％であるネガ型感放射線性組成物。


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【課題】浸漬リソグラフィ処理に適した、フォトレジスト組成物の上に適用されるバリアー層組成物を提供する。別の面において、浸漬リソグラフィ処理のための新規な方法を提供する。
【解決手段】浸漬リソグラフィ用のバリアー層として、少なくとも樹脂主鎖内にフッ素置換基を含有していない１種以上の樹脂をはじめとする、１種以上の非溶媒担体材料（成分）を含有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＤのピッチ依存性、被覆率依存性が良好な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シアノ基と、酸の作用により分解しアルカリ可溶性となる基とを有する繰り返し単位（ａ）を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、
（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基とを有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、更にパーティクル抑制、パターン形状、バブル欠陥抑制の諸性能も良好なレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）、及び、少なくとも２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位（ｃ）を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（Ｃ）を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リン酸モノエステル及びリン酸ジエステルの混合物から容易にリン酸モノエステルを精製することができるリン酸エステルの精製方法を提供すること、並びに、ポリマー合成時のゲル化を防止し安定に製造することができるポリマーの製造方法、及び、前記ポリマーの製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤を提供すること。
【解決手段】リン酸モノエステルとリン酸ジエステルとを主成分とするリン酸エステル混合物を、中性の水及び非ハロゲン系有機溶剤と混合し、リン酸モノエステルを水相に抽出する抽出工程、並びに、前記水相と有機相とを分離する分離工程、を含むことを特徴とするリン酸エステルの精製方法、前記精製方法により得られたリン酸エステルを用いるポリマーの製造方法、並びに、前記製造方法により得られたポリマーを含有する平版印刷版用版面処理剤。 （もっと読む）

【課題】高感度で高湿条件下における保存性に優れ、かつ優れた耐刷性を有する感光性ネガ型平版印刷版を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に、親水性層、感光性ポリマーを有する感光層、及びオーバー層を少なくともこの順に有し、該感光層が感光層とオーバー層の厚みの和に対して８０％以下の平均粒径を有する有機微粒子を含有することを特徴とする感光性ネガ型平版印刷版。 （もっと読む）

ガロタンニン化合物、ガロタンニン化合物の製造方法、リソグラフィック印刷プレート用コーティング組成物、リソグラフィック印刷プレート、リソグラフィック印刷プレートの製造方法、および印刷方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンのトップロスを抑制させ、ＬＷＲを向上させるとともに、レジストパターンを不溶化することによりレジストパターンの硬化性を向上させることができるレジストパターンコーティング剤を提供する。
【解決手段】水酸基を有する樹脂と、一般式（１）Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２で表される化合物（一般式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２はフッ素で置換されてもよい炭素数３〜１０のアルキル基など）及び一般式（２）Ｒ^３−ＯＨで表される化合物（一般式（２）中、Ｒ^３は、フッ素で置換されてもよい炭素数１〜５のアルキル基など）の少なくともいずれかを含む溶剤と、を含有し、一般式（１）Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２で表される化合物及び前記一般式（２）Ｒ^３−ＯＨで表される化合物の合計の含有割合が、溶剤１００質量％中、１０質量％以上であるレジストパターンコーティング剤。 （もっと読む）

【課題】特に剥離印刷法に使用すべく、レーザ照射により、高い解像度でもってエッジの形状をシャープに再現しながら、画線部に対応する撥水性の領域をパターン形成できる上、前記レーザ照射の際に基材がダメージを受けにくいため、被印刷体の表面に形成されるインキパターンのエッジ形状が乱れたりしにくい印刷用版を提供する。
【解決手段】印刷用版１は、基材２の表面３上に、親水性でかつレーザのエネルギを遮蔽する中間層４と、レーザ照射によって選択的に分解除去されて前記中間層４を露出させる撥水性の表面層５とをこの順に積層した。 （もっと読む）

【課題】反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有膜形成用組成物は、下式（１）で表される化合物由来の構造単位（ａ１）を含有するポリシロキサンと、有機溶媒と、を含有する。


〔式中、Ｒ^１は、ｂ価の置換されてもよい芳香族炭化水素基又は置換されてもよい複素環基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して１価の有機基を表す。ａは０〜１の数であり、ｂは２又は３である。Ｘ^１は、単結合、置換されてもよいメチレン基、炭素数２〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基又はフェニレン基を表す。〕 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像可能なポジ型底面光像形成性反射防止コーティング組成物であって、発祥団基を有する少なくとも一つの繰り返し単位とヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一つの繰り返し単位とを含むポリマー、末端にビニルエーテルを有する構造（７）の架橋剤、任意に及び光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含み、ここで構造（７）は、
【化１】


［式中、Ｗは、（Ｃ_１−Ｃ_３０）線状、分枝状もしくは環状アルキル部分、置換されているかもしくは置換されていない（Ｃ_３−Ｃ_４０）脂肪環式炭化水素部分及び置換されているかもしくは置換されていない（Ｃ_３−Ｃ_４０）シクロアルキルアルキレン部分から選択され； Ｒは、Ｃ_１−Ｃ_１０線状もしくは分枝状アルキレンから選択され； そしてｎは≧２である」
である、前記ポジ型底面光像形成性反射防止コーティング組成物に関する。本発明は、更にこのような組成物を使用する方法にも関する。
（もっと読む）

【課題】耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れた平版印刷版原版の提供。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収色素、および、（Ｂ）疎水性熱可塑性粒子を含む画像記録層を有する平版印刷版原版において、前記支持体が、表面における円相当直径が０．２μｍ以上の金属間化合物の密度が３５０００個／ｍｍ²以上のアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】機上現像性、インキ着肉性、感度及び耐刷性のすべての性能が良好である機上現像型平版印刷版原版及び製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）ラジカル重合開始剤、及び（Ｃ）ラジカル重合性化合物を含有し、露光後、印刷インキと湿し水とを供給することにより未露光部分を除去できる画像記録層、及びオーバーコート層を順次有する平版印刷版原版において、該オーバーコート層が、結晶構造が異なる少なくとも２種の無機層状化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）