【課題】半導体基板のダブルパターニング技術に適用される反転材料として特に適した組成物を提供する。
【解決手段】表面上に形成された感光性樹脂からなるパターン形状の間隙に埋め込む組成物であって、少なくともアリールオキシシラン原料の加水分解縮合物と、溶媒として芳香族化合物を有することを特徴とする間隙埋め込み用組成物。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒の混合物を含むフォトレジスト現像剤組成物の提供。
【解決手段】特定の組み合わせの有機現像剤のネガティブトーン現像を用いたフォトリソグラフィパターンを形成する方法により、個々の現像剤の良くない特性を回避するかもしくは最小限にしつつ、優れたリソグラフィ性能を提供できる。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】十分な耐汚れ性を有し、耐刷性が改善されたネガ型感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層をこの順に有するネガ型感光性平版印刷版であって、該親水性層がアクリルポリオール樹脂を含有する。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる画像露光が可能な機上現像性平版印刷版原版を、リスフィルムを介してＵＶ露光を行い、機上現像する平版印刷版の製版において、耐刷性及び機上現像性が良好で、機上現像時にカス析出が起こり難く、リスフィルムとの真空密着性が良好な製版方法を提供する。
【解決手段】（１）支持体と、シアニン染料、フェニル基上に置換基を有していてもよいジフェニルヨードニウム塩またはトリフェニルスルホニウム塩、ラジカル重合性化合物及びポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有するポリマー微粒子を含有する画像記録層とをこの順に有する波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザーによる画像形成が可能な平版印刷版原版を準備し、（２）平版印刷版原版の上にリスフィルムを置き、減圧することによりリスフィルムと平版印刷版原版を密着させ、（３）ＵＶ露光後、（４）機上現像することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シリコーンゴム層を有する印刷版原版を現像するにあたり、非画線部のシリコーン剥がれを抑制する現像装置を提供すること
【解決手段】シリコーンゴム層を有する印刷版原版を、搬送ロール対により搬送しながら、シリコーンゴム層をブラシロールにより擦り現像する印刷版原版の現像装置であって、前記ブラシロールの上流に位置し、かつ、シリコーンゴム層に接する搬送ロールのうち、少なくとも１本の表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が６０μｍ以上であることを特徴とする印刷版原版の現像装置。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のダブルパターニング技術に適用される反転材料として特に適した組成物の提供をする。
【解決手段】表面上に形成された感光性樹脂からなるパターン形状の間隙に埋め込む組成物であって、少なくともアルキルトリアルコキシシランを含むアルコキシシランを原料とする平均分子量が３０００〜５００００である加水分解縮合物と、溶媒として総炭素数７〜９のエーテル化合物及び／又は総炭素数６〜９のアルキルアルコール化合物とを含有する間隙埋め込み用組成物。 （もっと読む）

【課題】凸版印刷版構成体から凸版印刷版を製版する凸版印刷版の製造方法であって、簡便な手法で、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供すること。
【解決手段】（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層３にネガ型マスク５を形成する工程、（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層６を形成する工程、（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の高分子化合物であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となる高分子化合物、
（Ｂ）酸発生剤、
（Ｃ）パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物からなる非イオン性含フッ素界面活性剤及びパーフルオロポリエーテル基を含有し且つポリオキシアルキレン型ポリエーテル結合を有する非イオン性含フッ素オルガノシロキサン系化合物の中から選ばれる少なくとも１種の非イオン性含フッ素化合物
を含有する波長１５０ｎｍ以上の紫外線を露光光源とする化学増幅ポジ型レジスト材料。
【効果】本発明によれば、スカムを形成しないレジスト材料であって、塗布均一性に優れ、基板周辺部で膜厚が極端に厚くなる現象であるＥｄｇｅ Ｃｒｏｗｎを抑えることのできる化学増幅型レジスト材料を提供することができる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、
（Ｂ）酸発生剤、
（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物
を含有するポジ型である化学増幅型レジスト組成物のレジスト膜を得る工程と、パターン露光する工程と、現像する工程と、更に現像により得られたパターンの線幅を１０％以上変化させない範囲で加熱によるパターン形状補正を行う工程を含むパターン形成方法において、上記組成物は、酸不安定基で保護された酸性官能基を有する分子量８００以下の軟化促進剤を２．５〜２０質量％で含有する組成物であるレジストパターン形成方法。
【効果】本発明のレジストパターン形成方法では、現像により得られたパターンを熱変形させて、パターンの線幅を１０％以上変化させない範囲でレジストパターン形状の微細な荒れの修正を安定して行える。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】現像後における平版印刷版の耐刷性を維持させたまま、良好な現像性が得られる平版印刷版原版及び平版印刷方法を提供する。
【解決手段】表面親水性の支持体上に、重合性化合物、重合開始剤、ポリエチレンオキシ基を側鎖に有する高分子微粒子、及び高分子化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版であって、高分子化合物が、主鎖が３つ以上に分岐した星型形状を有し、分岐した主鎖の側鎖にポリエチレンオキシ基及びポリプロピレンオキシ基の少なくともいずれかを有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯＮ、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ケイ酸ハフニウム、ケイ酸ジルコニウムおよび他の無機表面のような下地無機表面に対して良好な接着性を示しうるイオン注入リソグラフィ適用に特に有用な新規フォトレジストの提供。
【解決手段】１）樹脂、２）光活性成分、および３）多ケト成分を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物のレリーフ像を半導体基体上にコーティングした半導体基体を提供し、並びにイオンを前記基体に適用する。 （もっと読む）

【課題】ヒートモードレジスト層を有する被加工物に対して、深さ方向の加工性が良好であり、アスペクト比が高く、高精細な微細穴乃至溝を効率よく形成可能な被加工物の加工方法の提供。
【解決手段】基材上にヒートモードレジスト層を形成するヒートモードレジスト層形成工程と、前記ヒートモードレジ スト層に対してレーザ光を複数回照射して微細穴乃至溝の形状を形成する微細穴乃至溝形成工程とを含む被加工物の加工方法である。該レーザ光の照射回数が、２回以上１，０００回以下である態様、レーザの線速が、１００ｍ／ｓ以下である態様などが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】特には３層レジストプロセス用下層膜として反射率を低減でき（反射防止膜としての最適なｎ、ｋ値を有し）、埋め込み特性に優れ、パターン曲がり耐性が高く、特には６０ｎｍよりも細い高アスペクトラインにおけるエッチング後のラインの倒れやよれの発生がない下層膜を形成できるレジスト下層膜材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１−１）及び／又は（１−２）で示される１種類以上の化合物、並びに下記一般式（２）で示される１種以上の化合物及び／又はその等価体を縮合することにより得られるポリマーを含有することを特徴とするレジスト下層膜材料。


ＯＨＣ−Ｘ−ＣＨＯ（２） （もっと読む）

【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。 （もっと読む）

【課題】 高感度で火膨れが生じにくい、すなわちラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】 基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層に非感光性粒子を含み、該非感光性粒子の平均粒径が、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層平均膜厚の１／２倍以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で、特に、印刷機上において現像可能であり、現像性に優れ、高感度であり、しかも高耐刷かつ耐汚れ性が良好な平版印刷版原版、及びそれを用いる製版方法を提供する。
【解決手段】支持体と、下塗り層と、画像記録層とをこの順に有し、画像記録層上に画像様露光後、印刷インキ等を供給することにより未露光部の除去が可能な平版印刷版原版であって、該画像記録層が、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）バインダーポリマーを含有し、下塗り層が、（ａ１）双性イオン構造を有する繰返し単位、及び（ａ２）前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体（Ｄ１）、並びに、（ａ３）エチレン性不飽和結合を有する繰返し単位、及び（ａ２）前記支持体表面と相互作用する構造を有する繰返し単位を有する共重合体（Ｄ２）を含有し、共重合体（Ｄ１）及び（Ｄ２）の総質量に対する、共重合体（Ｄ１）の質量が、５〜９５％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン形成後の他のレジスト組成物からの影響を低減できるポジ型レジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、及び求核性を有する官能基を２つ以上有する化合物（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、アミド結合を有するアクリル酸エステル構成単位(a0-1)、及びα位の炭素原子に水素原子以外の原子又は置換基が結合していてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、並びに、耐刷性を維持させたまま、良好な現像性が得られる平版印刷版原版提供する。
【解決手段】重合性化合物、重合開始剤、及び高分子化合物を含有する重合性組成物であって、高分子化合物が、イソシアヌル酸骨格を岐点とし、ポリマー鎖が分岐している高分子化合物であることを特徴とする重合性組成物、並びに、該重合性組成物を含む画像記録層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）