凸版印刷版の製造方法
【課題】凸版印刷版構成体から凸版印刷版を製版する凸版印刷版の製造方法であって、簡便な手法で、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供すること。
【解決手段】（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層３にネガ型マスク５を形成する工程、（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層６を形成する工程、（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
【解決手段】（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層３にネガ型マスク５を形成する工程、（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層６を形成する工程、（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版印刷版の製造方法に関する。また、本発明は、積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
凸版印刷方式における印刷版としては、ゴムや熱可塑性エラストマーなど常温領域にゴム弾性を有する樹脂製版が一般に用いられ、多くは、その柔軟性を特徴とするフレキソ印刷向けに使用されている。フレキソ印刷方式は、段ボールのような表面粗度が高く剛性の低い材料や、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなど張力で伸長しやすい薄いフィルム材料へのパターン形成に好適に用いられる印刷方式である。
【０００３】
フレキソ印刷に用いられる樹脂製版には、シート状で感光性の熱可塑性エラストマーからなるものが多く用いられており、また、該樹脂製版は、紫外線などを照射して光硬化させた感光性樹脂を現像処理することにより製版されている。
【０００４】
特許文献１及び２などには、赤外線レーザー光による切除が可能で、かつ感光性樹脂を硬化させる活性光線を遮蔽する性質を有する赤外線感受性層を感光性樹脂表面に直接付与したフレキソＣＴＰ印刷版構成体を用いる製版技術が開示され、該技術により凸型レリーフの高精細な再現が得られ、フレキソ印刷は、より高品質な用途に使用されるようになっている。
【０００５】
しかしながら、斯かるフレキソＣＴＰ印刷版構成体を用いる技術においては、赤外線感受性層のアブレージョンされた部位の感光性樹脂表層が空気中の酸素の影響により、紫外線露光した際に感光性樹脂が十分に重合しないことが知られている。また、斯かる技術においては、ネガフィルムを通して紫外線露光される感光性樹脂版に比べて網点再現性などが改善される一方、マイクロ文字や極細線の印刷レリーフのエッジ部分が重合不足のため丸みを帯びた形状となる。それにより、これらの部分に印刷インクが多く溜まることで、印刷イメージのハードエッジ再現が強くなり、マイクロ文字などの可読性を損なう欠点があった。
【０００６】
このため近年、これらの欠点を解消するために、新たな技術が提案されている。
【０００７】
例えば、特許文献３には、感光性樹脂層とマスク層を有するＣＴＰ構成体より凸型印刷レリーフを形成する工程において、感光性樹脂層とマスク層の界面に酸素遮断性の樹脂層を設ける技術が開示されている。
【０００８】
また、特許文献４には、低酸素濃度に調整されたチャンバ内に感光性樹脂層とマスク層とを有するＣＴＰ版構成体を密閉することなど、露光時に感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減し、より紫外線重合度の高い印刷レリーフを得ることができるフレキソＣＴＰ印刷版構成体や、その製版方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平８−３０５０３０号公報
【特許文献２】特開平９−１６６８７５号公報
【特許文献３】特開２００９−０５８９０２号公報
【特許文献４】特開２０１０−１７５９６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献３において開示されている技術の実施に当たっては、感光性樹脂層とマスク層の界面に酸素遮断性の樹脂層が存在するため、紫外線露光時に感光性樹脂層に対するマスク精度が低下するといった問題点がある。
【００１１】
また、特許文献４において開示されている製版方法の実施に当たっても、露光雰囲気を密閉系に変更する必要があり、装置が煩雑にあるといった問題があった。
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、既存の凸版印刷版構成体および製版設備を変更する必要なく利用可能な製版方法であって、簡便な手法で、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは凸版印刷版の製造方法において、紫外線露光して樹脂層に印刷レリーフを形成させる工程において、事前に酸素遮断性層を設けることで、スリーブ形状で紫外線露光するスリーブ版を含め、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を十分低減し、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを得ることができることを見出し、本発明を完成した。
【００１４】
本発明は以下の通りである。
１．
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
２．
前記ネガ型マスクを形成する工程が、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、である、１．記載の凸版印刷版の製造方法。
３．
前記酸素遮断性層が高分子膜である、１．又は２．に記載の凸版印刷版の製造方法。
４．
前記酸素遮断性層の酸素透過度が２０ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下である、１．〜３．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
５．
工程（４）の前に、
（５）前記酸素遮断性層を除去する工程をさらに含む、１．〜４．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
６．
工程（５）において、前記酸素遮断性層を剥離することにより除去する、５．に記載の凸版印刷版の製造方法。
７．
工程（４）において、前記樹脂層の現像と同時に前記酸素遮断性層を除去する、１．〜４．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
８．
（６）凸版印刷版構成体をコアスリーブに巻き付ける工程をさらに含む、１．〜７．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
９．
ネガ型マスクを有する構成体と、
前記構成体に積層される酸素遮断性層と、を備え、
前記ネガ型マスクが、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して形成されるか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成されたものである積層体。
１０．
前記樹脂層に前記酸素遮断性層が積層される、９．に記載の積層体。
１１．
前記ネガ型マスクに前記酸素遮断性層が積層される、９．又は１０．に記載の積層体。
１２．
前記酸素遮断性層が高分子膜である、９．〜１１．のいずれかに記載の積層体。
１３．
前記酸素遮断性層が水溶性高分子により形成される、９．〜１２．のいずれかに記載の積層体。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】凸版印刷版構成体１の断面図の模式図を示す。
【図２】凸版印刷版構成体１に赤外線露光する態様の模式図を示す。
【図３】ネガ型マスク５を有する構成体の模式図を示す。
【図４】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図５】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図６】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図７】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図８】樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する態様の模式図を示す。版面側から紫外線露光し、支持体側からバック露光する。
【図９】紫外線露光による露光部７と未露光部８の模式図を示す。
【図１０】酸素遮断性層６、ネガ型マスク５、及び未露光部８を現像する態様の模式図を示す。
【図１１】酸素遮断性層６を剥離する態様の模式図を示す。
【図１２】従来技術における紫外線露光する態様の模式図を示す。版面側から紫外線露光し、支持体側からバック露光する。
【図１３】従来技術における紫外線露光による露光部７と未露光部８の模式図を示す。
【図１４】従来技術におけるネガ型マスク５、及び未露光部８を現像する態様の模式図を示す。
【図１５】実施例及び比較例の凸版印刷版の模式図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明について、好ましい実施態様を中心に、詳細に説明する。
【００１８】
本実施形態の凸版印刷版の製造方法は、
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法である。
【００１９】
本実施形態に用いられる凸版印刷版構成体について説明する。
【００２０】
凸版印刷版構成体は、少なくとも紫外線露光製版が可能な樹脂層表面に紫外線遮断性物質からなるネガ型マスクを積層した構成体である。
【００２１】
より好ましくは、凸版印刷版構成体は、紫外線露光製版が可能な樹脂層と、該樹脂層に積層される赤外線感受性層と、を少なくとも備える積層体である。
＜紫外線露光製版が可能な樹脂層＞
紫外線露光製版が可能な樹脂層は、バインダーポリマー、エチレン性不飽和モノマー、及び光開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成される。感光性樹脂組成物は、必要に応じて可塑剤、熱重合安定剤、増感剤、及び着色剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【００２２】
本実施形態で用いられるバインダーポリマーは、単一の重合体、共重合体、又はそれらの混合物であって、かつ水性現像液又は有機溶剤の現像液に可溶であるか、膨潤又は分散することにより、洗浄除去可能なポリマーである。バインダーポリマーとしては、好ましくはエラストマー性を有するポリマーである。
【００２３】
バインダーポリマーとしては、例えば、ポリジオレフィン、例えば、ポリブタジエンや、ポリイソプレン、ビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体、例えば、スチレン／ブタジエン共重合体や、スチレン／イソプレン共重合体、ジオレフィン／アクリロニトリル共重合体、エチレン／プロピレン共重合体、エチレン／プロピレン／ジオレフィン共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、ジオレフィン／（メタ）アクリル酸共重合体、ジオレフィン／（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリレート共重合体、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール／ポリエチレングリコール共重合体、両性インターポリマー、セルロース類、例えば、アルキルセルロースや、ヒドロキシアルキルセルロースや、セルロースアセテートブチレートや、ニトロセルロース、エチレン／ビニルアセテート共重合体、ポリブチラール、環状ゴム、スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン／ビニルアセテート共重合体などが挙げられる。共重合体は、ブロック共重合体であってもよく、グラフト共重合体であってもよい。
【００２４】
本実施形態において、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタアクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタアクリレートを意味する。
【００２５】
バインダーポリマーとしては、好ましくはビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体である。
【００２６】
モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、例えば、スチレン、α―メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどが挙げられる。
【００２７】
共役ジエンモノマーとしては、例えば、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
【００２８】
当該熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレン／ブタジエンブロック共重合体や、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体などが挙げられる。
【００２９】
本実施形態において用いられるエチレン性不飽和モノマーは、分子内に不飽和エチレン構造を有するモノマーであって、かつバインダーポリマーと相溶性のあるモノマーである。
【００３０】
エチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、ｔ−ブチルアルコール又はラウリルアルコール等のモノアルコールやヘキサンジオール等の多価アルコールとの（メタ）アクリル酸エステル；ラウリルマレイミド及びシクロヘキシルマレイミド等のマレイミド誘導体；ジオクチルフマレート等のアルコールとフマル酸のエステルなどが挙げられる。
【００３１】
エチレン性不飽和モノマーは、感光性樹脂組成物に、１種類以上含むことが好適である。
【００３２】
エチレン性不飽和モノマーの含有量は、紫外線露光された樹脂層の耐摩耗性や耐薬品性の観点から、感光性樹脂組成物中のバインダーポリマー１００質量部に対して、好ましくは５〜３０質量部の範囲であり、より好ましくは１０〜２０質量部の範囲である。
【００３３】
本実施形態において用いられる光開始剤は、紫外線に感応する光開始剤として公知の化合物である。
【００３４】
光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であることが好ましく、例えば、ベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、及び２，２−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などが挙げられる。
【００３５】
光開始剤の含有量は、凸版印刷版の感度及び解像度の観点から、感光性樹脂組成物の全質量に対して、好ましくは０．００１〜１０質量％の範囲である。
【００３６】
本実施形態において用いられる可塑剤は、バインダーポリマーに可塑性を与え、感光性樹脂組成物中の他の成分の分散性を改善するとともに成型時の流動性や皮膜形成特性を調節するために用いられる任意の成分である。
【００３７】
可塑剤としては、例えば、ナフテン酸及びパラフィン油等の脂肪族炭化水素油、液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレン、ポリテルペン樹脂などが挙げられる。
【００３８】
感光性樹脂組成物に含まれる成分である、バインダーポリマー、エチレン性不飽和モノマー、光開始剤、必要に応じて加えられる添加剤は、それぞれ、単独で用いてもよく、それぞれ複数種を用いてもよい。
【００３９】
紫外線露光製版が可能な樹脂層（以下、単に「樹脂層」と記載する場合がある。）は、感光性樹脂組成物を、例えば、クロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエンなどの適当な溶媒に溶解又は分散させ、得られた溶液を型枠の中に流し込んだ後、溶媒を蒸発させて得ることができ、また、支持体上にシート状の樹脂層として形成することができる。
【００４０】
樹脂層としては、溶剤を用いずに、ニーダー又はロールミルで感光性樹脂組成物を混練し、押し出し機、射出成型機、プレスなどにより所望の厚さのシートに成型して得てもよい。
【００４１】
樹脂層の支持体としては、用いる印刷条件に必要とされる機械的強度などの物理性能を満たす、通常の凸版印刷版に用いられる公知の金属、プラスチック、紙及びこれらの複合化されたシート状又はフィルム状あるいはスリーブ状のすべての支持体を用いることができる。
【００４２】
支持体としては、例えば、付加重合ポリマー及び線状縮合ポリマーにより形成されるポリマー性フィルム、透明なフォーム、ガラス繊維織物等の織物、不織布、スチール、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、銅、真鍮、及びステンレス等の金属などが挙げられる。
【００４３】
支持体はバック露光が容易なように紫外線に対して透明であることが好ましく、スリーブ状の支持体は、印刷シリンダへの装着の面から、圧縮空気圧でスリーブ内径が膨張拡大でき、当該圧縮空気が開放されると元の内径に戻るような特性を有していることが望ましい。
【００４４】
フィルム状又はシート状の支持体としては、具体的には、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、又はポリエステルなどをフィルム状又はシート状に成形したものが挙げられ、好ましくはポリエチレンテレフタラートフィルムである。
【００４５】
支持体の厚さは、好ましくは５０〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは７５〜２００μｍの範囲である。
【００４６】
スリーブ状の支持体としては、ニッケルなどからなる薄い金属基材や、少なくとも１つの繊維強化プラスチック基材を使用することができる。これらの厚みは薄いものでは０．１ｍｍから、厚いものでは５ｍｍ以上のものが用いられるが、特に５ｍｍ以上のものに対しては、軽量化の面から、その内部にポリエチレンやポリウレタンなどの発泡体層を設け、その表面層を硬質のポリウレタンやポリエチレン基材でコーティングした多層構造を有するものを用いることができる。
【００４７】
支持体と樹脂層との間に、必要に応じて、例えば、ポリカーボネートと、フェノキシ樹脂と、多価イソシアネートの混合物からなる粘着促進層を有していてもよい。
【００４８】
前記ネガ型マスクを形成する工程としては、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、がある。
【００４９】
まず、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成する方法について説明する。
【００５０】
赤外線感受性層は、赤外線によりアブレージョン可能であり、かつ紫外線に対して実質的に不透明な樹脂層である。
【００５１】
赤外線感受性層は、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質を含む赤外線感受性組成物を用いて形成される。
【００５２】
赤外線感受性組成物に用いられるバインダーポリマーとしては、例えば、ポリアミド、ポリビニルアルコール、両性インターポリマー、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、及びニトロセルロース等のセルロース類、エチレン／ビニルアセテート共重合体、ポリブチラール、環状ゴム、スチレン／ブタジエン共重合体、スチレン／イソプレン共重合体等のビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体などが挙げられる。
【００５３】
バインダーポリマーの含有量は、赤外線感受性組成物の全質量に対して、好ましくは２０〜９０質量％の範囲である。
【００５４】
赤外線感受性組成物に用いられる赤外線吸収性物質は、７５０〜２０００ｎｍの範囲で強い吸収を持つ物質である。
【００５５】
赤外線吸収物質としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、及び酸化クロム等の無機顔料、ポリフタロシアニン化合物、シアニン色素、クロコニウム色素、及び金属チオレート色素等の色素類などが挙げられる。
【００５６】
赤外線吸収性物質は、使用する赤外線レーザー光線で切除可能な感度を付与する範囲で添加される。赤外線吸収性物質の含有量は、赤外線感受性組成物の全質量に対して、好ましくは１０〜８０質量％の範囲である。
【００５７】
赤外線感受性組成物に用いられる紫外線遮蔽性物質は、紫外線を反射又は吸収する物質である。
【００５８】
紫外線遮蔽性物質としては、例えば、紫外線吸収剤、カーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。
紫外線遮蔽性物質の含有量は、所望の紫外線透過率が達成できるように添加量を設定する。一般的には、赤外線感受性層となった場合の紫外線透過率が１％以下、好ましくは０．１％以上となるように添加される。赤外線吸収性物質と紫外線遮蔽性物質との双方に該当する物質として、カーボンブラックやグラファイトを用いてもよい。
紫外線透過率の測定方法については後述する。
【００５９】
赤外線感受性組成物に含まれる成分である、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、紫外線遮蔽性物質は、それぞれ、単独で用いてもよく、それぞれ複数種を用いてもよい。また、赤外線吸収性物質と、紫外線遮蔽性物質が同一である場合には、赤外線吸収性物質を所定量含むことで、紫外線遮蔽性物質として求められる性質も、赤外線感受性層において発揮される。
【００６０】
赤外線感受性層は、赤外線感受性組成物を、適切な溶剤や水に均一に溶解又は分散させて赤外線感受性塗工液とし、これを層状に塗工して得ることができる。
【００６１】
赤外線感受性塗工液は、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質に溶剤を加え、撹拌羽根による強制撹拌、ボールミルを用いた撹拌、超音波を利用した撹拌、又はそれらを併用して赤外線感受性塗工液を調製することができる。バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質を、溶剤を用いずに押し出し機やニーダーを用いて予備混練してから、溶剤に溶解して赤外線感受性塗工液を調製することができる。
【００６２】
赤外線感受性塗工液には、添加剤として界面活性剤、消泡剤などを添加してもよい。
【００６３】
続いて、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程（以下、「インクジェット法」）について説明する。
【００６４】
インクジェット法に用いる紫外線遮断性のインクとしては、紫外線を吸収又は反射する紫外線遮蔽性物質を溶媒に溶解または分散した油性または水性インクを用いることができる。
【００６５】
紫外線遮蔽性物質としては、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロームおよびアルミン酸クロム−コバルトのような無機顔料、シアニン色素、スクアリーリウム色素、カルコゲノピリロアリーリデン色素、ビス（カルコゲノピリロ）−ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ビス（アミノアリール）−ポリメチン色素、メロシアニン色素、クロコニウム色素、金属チオレート色素およびキノイド色素などを挙げることができる。
【００６６】
油性インクの溶媒としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、または芳香族炭化水素、およびこれらの炭化水素のハロゲン置換体がある。例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、シリコンオイル等を単独あるいは混合して用いられる。
【００６７】
水性インクの溶媒としては、水および水と水溶性有機溶剤の混合溶媒が用いられる。水としては、イオン交換水、蒸留水などを使用するのが好ましい。また、溶解または分散させる材料により中性、アルカリ性、酸性で使用される。また、水性混合溶媒に使用される水溶性有機溶剤としては、従来公知の水溶性有機溶剤、例えばアルコール類、グリコール類、グリセリン、エーテル、多価アルコールなどが挙げられる。
【００６８】
紫外線遮蔽性物質の含有量は、所要の光学的濃度に達するように設定される。一般的には、得られるネガ型マスクの紫外線透過率が１％以下、好ましくは０．１％以下となるように添加される。
【００６９】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、
図１は、樹脂層３に積層された赤外線感受性層２を形成することにより得られる凸版印刷版構成体１の断面図の模式図（部分）を示す（以下、図１〜図１４において同様である。）。図１に示す、凸版印刷版構成体１は、支持体４に積層されている。
【００７０】
樹脂層に積層された赤外線感受性層を形成するための方法としては、例えば、赤外線感受性塗工液をリングコーター、スプレーコーターなどによって樹脂層の表面に直接塗工する方法、ポリエステルやポリプロピレンなどのフィルムに塗工した後、樹脂層の表面にラミネートして転写する方法などが挙げられる。
【００７１】
樹脂層が予めスリーブ状に加工されたものである場合には、樹脂層に直接塗工する方法が好適である。
【００７２】
赤外線感受性層の厚みは、赤外線レーザーによる切除の感度と紫外線の遮蔽効果を考慮して決定されるが、好ましくは０．１〜２０ｇ／ｍ2の範囲であり、より好ましくは１〜５ｇ／ｍ2の範囲である。
【００７３】
凸版印刷版構成体は、スリーブ状又はシート状であってもよく、スリーブ状の凸版印刷版構成体である場合には、スリーブ状の樹脂層に、赤外線感受性層を積層してもよく、シート状の凸版印刷版構成体としてから、スリーブ状にしてもよい。
【００７４】
本実施形態に用いられるコアスリーブは、中空円筒状の基材であって、好ましくは、圧縮空気圧でスリーブ内径が膨張拡大でき、圧縮空気圧が開放されると元の内径に戻るような特性を有している。コアスリーブとしては、具体的には、６バール程度の圧縮空気圧を印刷機のエアシリンダなどからコアスリーブ内面に供給することでスリーブ内径を膨張拡大し、シリンダ上をスライドさせ、圧縮空気圧を開放するとコアスリーブが元の内径に戻ってシリンダ上に固定される。
【００７５】
コアスリーブの厚みは、薄いものでは０．１ｍｍ以上であり、厚いものでは５ｍｍ以上である。
【００７６】
コアスリーブと樹脂層との間に、クッション層を有することが、マイクロ文字や極細線などの印刷再現性及び版面再現性の観点から好ましい。また、クッション層と樹脂層の間に接着層を有してもよい。
【００７７】
コアスリーブの表面に形成されるクッション層は、例えば、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、エチレン、プロピレンゴムなどの連続または単独の微細な気泡を有する弾性発泡体からなり、好ましくは、接着層を介してコアスリーブ表面に均一な厚みで形成される。
【００７８】
クッション層の厚みや硬度は印刷レリーフを形成する樹脂層の材質特性、印刷品質、印刷時の胴径調整などの目的によって必要に応じて選択される。一般的には、厚みは０．３ｍｍから１ｍｍ程度であることが好ましく、密度は０．１〜０．６ｇ／ｃｍ3の範囲であることが好ましく、ショアＡ硬度は１０〜６０度の範囲であることが好ましい。印刷シリンダに凸版印刷版を貼り込む際に使われるクッション材の両面に粘着剤が設けられたクッションテープなどが好適に使用できる。
【００７９】
クッション層の密度やショアＡ硬度は、公知の方法により測定することができる。
【００８０】
本実施形態においては、紫外線遮蔽性に優れた赤外線感受性層を有するフレキソ印刷版構成体を、アブレージョンマスクを形成する工程の前に、コアスリーブに巻きつけてもよい。具体的な方法としては、コアスリーブに両面粘着テープなどで貼り付けル方法や、シート状の樹脂層をコアスリーブに巻きつけ、樹脂層の端部を軟化点以上に加熱して融着させ、研削装置でつなぎ目なく研削成形して、スリーブ状の樹脂層とした後、その外周面に赤外線感受性塗工液を円周方向につなぎ目なく塗工する方法などが挙げられる。マイクロ文字や極細線再現の安定性の観点から後者の方法が好ましい。
【００８１】
赤外線感受性層を赤外線露光してアブレージョンマスクを形成する工程は、赤外線感受性層に、公知のレーザー描画装置、これにより微小なスポットレーザ光を用いて凸版印刷版用のネガ型マスクを作ることができる、を用いて、レイアウトされた印刷画像様にレーザー描画することによって行われる。レーザー照射された赤外線感受性層は焼き飛ばされて当該部の樹脂層が露出するため、残存する赤外線感受性層をネガ型マスクとして形成させることができる。
【００８２】
レーザー描画装置としては、特開平０８−３００６００号公報に開示されているような長手方向軸線を有する回転可能な円筒面に凸版印刷版構成体をバキューム等によって取り付け、円筒面を回転させながら赤外線感受性層に対してレーザースポットを相対移動させながらレーザー描画するものを挙げることができる。赤外線レーザーの発生ユニットは、駆動系ユニットと共にコンピューターで制御されており、赤外線感受性層を選択的に切除していくことにより、デジタル化された画像情報をアブレージョンマスクとして付与することができる。
【００８３】
このレーザー描画工程で使用される赤外線レーザーとしては、波長が７５０〜２０００ｎｍのものを用いることができる。このタイプの赤外線レーザーとしては７５０〜８８０ｎｍの半導体レーザーや１０６４ｎｍのＮｄ―ＹＡＧレーザーなどが一般的である。
【００８４】
該工程により、樹脂層に積層される赤外線感受性層に、画像情報が付与されたアブレージョンマスクが形成され、アブレージョンマスクを有する構成体が製造される。
【００８５】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、図２は、樹脂層３に赤外線感受性層２が積層された凸版印刷版構成体１に赤外線露光する態様の模式図を示す。図３は、樹脂層３に積層された赤外線感受性層に、アブレージョンマスクが形成された構成体を示す。
【００８６】
図３はまた、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層してネガ型マスクが形成された構成体を示す。
【００８７】
＜アブレージョンマスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程＞
酸素遮断性層に要求される酸素遮断性とは、図８に示すネガ型マスクを積層した凸版印刷版構成体に紫外線露光する工程において、露光雰囲気面に露出している樹脂層部位と露光雰囲気中に存在する酸素との物理的な接触を遮断する特性を指し、酸素遮断性層には紫外線露光の間、露出する樹脂の表面を一定時間物理的に覆う特性、即ち樹脂層より低い表面張力、形成した層内が紫外線を通過させやすい特性、即ち高い紫外線透過率、層内が酸素を通過させにくい特性、即ち低い酸素透過度または低い溶存酸素量である必要がある。
【００８８】
酸素遮断性層の形成方法としては、ＰＶＡやナイロン、ポリエチレンテレフタレートなど表面張力が低く、酸素透過度の低い結晶構造を有する透明なフィルム状材料を樹脂部にラミネートして形成する方法、これらの高分子結晶構造を形成する高分子材料を溶解させたコーティング液を樹脂層に塗布し、乾燥させることによって高分子膜を樹脂層表面に形成させる方法、溶存酸素を除いた脱酸素水等に紫外線透過性の高分子材料や界面活性剤、湿潤剤等を溶解させて低表面張力としたコーティング剤をコーティングする方法などを挙げることができる。露出する樹脂層に密着して、樹脂層の表面を一定時間物理的に覆うことは、本発明の好ましい実施形態であるため、樹脂層との密着性の観点から、コーティングによって形成させる方法が好ましい。
【００８９】
酸素遮断性層の表面張力は、凸版印刷版構成体の樹脂層の表面より低いことが好ましく、その表面張力は５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、より好ましくは４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。フィルム等の固体の表面張力は濡れ張力試験法（ＪＩＳ Ｋ６７６８）に規定されているように、濡れ張力試験用指示薬が撥水することなく表面に濡れる試験用混合液の濡れ性指数として容易に求めることができる。また液体の表面張力は、懸滴法（ペンダント・ドロップ法）など鉛直方向に向けた細管の先端から液体を押し出し、細管の先端にぶら下がった液滴の形状の解析によって求めることができる。
【００９０】
酸素遮断性層の紫外線透過性は、紫外線露光の際の感度の観点から、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。紫外線透過率は透過濃度計などを用いてＵＶフィルタの透過率として測定することができる。
【００９１】
酸素遮断性層の酸素透過度は、乾燥膜として形成させた状態で、好ましくは２０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下であり、より好ましくは１０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、５ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下である。また液状として形成させた場合には、その液の２０℃、１気圧における溶存酸素量が１０ｍｇ／Ｌ以下、好ましく５ｍｇ／Ｌ以下である。酸素透過度は、ＪＩＳＫ７１２６Ｂ（同圧法）などにより測定することができる。また、液体の溶存酸素量は隔膜電極法などを用いて測定することができる。
【００９２】
写真やポスターのＵＶカットフィルムのラミネートなどに用いられているロール式ラミネート加工のように、フィルムと被ラミネート対象物を金属ロール等で加圧しながらラミネートする方法を挙げることができる。
【００９３】
低溶存酸素量のコーティング剤のコーティング、コーティング液のコーティングと乾燥によって酸素遮断性層を形成する場合の高分子材料は、有機溶剤溶解性の材料であって良いが、溶媒の難酸素溶解性および接触する溶媒の樹脂層や赤外線遮断層へ影響の観点から、水溶液として利用できる水溶解性にも優れた材料がより好ましい。
【００９４】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、図４〜図７は、ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【００９５】
酸素遮断性層の態様としては、特に限定されるものではないが、例えば、図４〜図７に酸素遮断性層６として例示するような態様が挙げられる。
【００９６】
本実施形態において、特に限定されるものではないが、アブレージョンマスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程により、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、紫外線重合度の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を得ることができる。
【００９７】
水溶解性の高い高分子としては、例えば、アラビアゴム、デンプン、及びゼラチン等の天然由来の高分子、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）及びメチルセルロース（ＭＣ）等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル及びポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等のビニル樹脂、（メタ）アクリル酸重合体、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ））、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）等の合成由来の高分子などが挙げられる。
【００９８】
水溶解性の高い高分子としては、現像の観点から、好ましくはポリビニルアルコールである。
【００９９】
水溶解性の高い高分子を溶解させる溶媒としては、水が挙げられるが、より好ましくは脱酸素化した水であり、溶液の保存性安定性やコーティング性などの観点から、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類などの水溶性有機溶媒との混合溶媒であってもよい。
【０１００】
また、コーティング液には、水酸化ナトリウム及び炭酸カルシウム等のアルカリ、シリコンオイル及びグリセリン等の改質剤などを添加してもよい。
【０１０１】
ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する方法としては、スプレー方式、バーコーター方式、ロールコーター方式、リングコーター方式、ガムコーター方式、インクジェット方式などが挙げられる。
【０１０２】
スプレー方式としては、エアゾールに代表されるような、缶などの容器に液化ガスとともに封入した液状や微粉末の薬品などを、ガスの圧力で霧状に吹き出させて、被塗工媒体に塗りつける方式、主にペンキ・ラッカーなどの塗装用途に用いられるピストルのような形状の吹き付け塗装用器具を用いて、圧縮空気を使って加圧した薬品などを噴霧して被塗工媒体に塗りつける方式などが挙げられる。
【０１０３】
軟質で、かつ傷つきやすい表面を有するに直接又は間接的にも触れないで塗工する方法として、スプレーコーター方式を用いてもよい。
【０１０４】
バーコーター方式としては、被塗工媒体上に薬品を帯状に広げ、その上からワイヤー状やブレード状の金属製のコーティングロッドを手前に均等な速さで引くことで塗りつけるような一般的な方式のほか、コーティング液にディッピングし、液面に対して、同様に均等な速さで引き上げることで塗りつける方式なども挙げられる。
【０１０５】
ロールコーター方式は、ＬＳコーター（商品名：シンクラボラトリー社）などを用いて高分子水溶液を塗工する方式である。
【０１０６】
ＬＳコーターにおいては、塗工面に対し直交する位置に小径の発泡ポリウレタンローラーが自転可能に配置され、スリーブ状のアブレージョンマスクを有する構成体を回転させながら、塗工面に接触又は非接触下、コーティング液を小径のコーティングローラーを回転させながら構成体表面を移動し、螺旋状に塗工する方法である。
【０１０７】
ロールコーター方式としては、具体的には、特開２００２−２８５４８号公報に開示される方法などが挙げられる。
【０１０８】
リングコーター方式は、垂直に置かれたスリーブ状のネガ型マスクを有する構成体に、リング状にくり抜いた軟質のスケージゴムをセットしたリング状の塗工容器を取り付け、構成体表面に嵌め合わされたスケージゴムとの間に作られた空間にコーティング液を満たした後、塗工容器をスケージゴムと一緒に引き下ろすことで構成体表面にコーティング液を膜状に塗工する方法である。塗工した後、乾燥することによっても酸素遮断性層を形成することができる。
【０１０９】
ガムコーター方式は、シート状のアブレージョンマスクを有する構成体に、ノズル部よりコーティング液を噴霧した後、上下の軟質製のゴムロールの間隙部を通すことで、塗工量を一定量とする方法である。
【０１１０】
ガムコーター方式に用いられる市販の塗工装置には、熱風ヒーターによる乾燥機を備える装置があり、本実施形態において乾燥機を備える装置は好適に用いられる。
【０１１１】
インクジェット方式としては、被塗工媒体に対してインクやジェル状の薬液を微滴化して直接に吹き付けるインキングヘッドが、平面上にバキューム等で固定された被塗工媒体上を入力された位置データをもとに移動しながら、または固定されたインクングヘッドの下を被塗工媒体が移動しながら塗りつける方式が挙げられる。この方式では、アブレージョンマスクデータをもとにアブレージョンされたマスク部分のみを選択的に塗工することができる（図７態様）。
【０１１２】
高分子及び溶媒を含むコーティング組成物をコーティング後に乾燥させる工程においては、例えば、熱風ヒーターやブローヒーターなどから１００℃〜１４０℃の熱風をコーティングした表面に直接的に吹き付けたり、炉内が連続的に換気されている５０℃〜６０℃の乾燥炉中にコーティングされた構成体全体を５〜１５分間投入することで乾燥させることができる。
【０１１３】
酸素遮断性層の厚みは、紫外線露光後に樹脂表面から剥離除去する観点から、好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは３〜６μｍの範囲である。
【０１１４】
酸素遮断性層の厚みは、コーティング液の塗工量を調整することにより制御することができる。
【０１１５】
酸素遮断性層の酸素透過度は、乾燥膜となった状態で、好ましくは２０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下であり、より好ましくは１０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、５ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下である。
【０１１６】
また、更なる印刷再現性の観点から、０．１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以上であることが好ましい。
【０１１７】
酸素遮断性層の酸素透過度の測定方法については後述する。
【０１１８】
酸素遮断性層の紫外線透過率は、紫外線露光の際の感度の観点から、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。
【０１１９】
酸素遮断性層の紫外線透過率は、ＰＥＴフィルム上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものをサンプルとして、透過濃度計（ＧＲＥＴＡＧ Ｄ２００−II（商品名）／グレタグマクベス社）を用いてＵＶ３７３フィルタの透過率として測定し、同様に測定された無垢ＰＥＴの紫外線透過率との差異として算出することができる。
【０１２０】
ネガ型マスクを有する構成体に、酸素遮断性層を形成することにより、該構成体と、酸素遮断性層を備える積層体が得られる。
【０１２１】
積層体としては、特に限定されるものではないが、図面を例示して説明すると、樹脂層上に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図７に示すような態様が挙げられ、樹脂層上とネガ型マスク上の双方に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図４に示すような態様が挙げられ、ネガ型マスク上に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図５又は図６に示すような態様が挙げられる。
【０１２２】
図５及び図６に示される態様においては、酸素遮断性層は、ネガ型マスク上に形成されるものの、樹脂層上には形成されず、ネガ型マスク５、樹脂層３、酸素遮断性層６によって画定される空間には空気が残存することになる。本実施形態の製造方法によれば、図５及び図６に示される態様においても、樹脂層上方に酸素遮断性層が形成されているため、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を十分低減し、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを得ることができる。
＜樹脂層に酸素遮断性層側から紫外線露光する工程＞
続いて、樹脂層を紫外線露光により光硬化させるために、酸素遮断性層側から、樹脂層への紫外線露光（以下、「露光工程」という）を行う。紫外線露光する際に用いられる紫外線は、赤外線や、アルゴンレーザー光及びＹＡＧ第２次高調波レーザー光付近の可視領域の光より波長が短い電磁波である。
【０１２３】
紫外線としては、好ましくはアルゴンレーザー光の波長４８８ｎｍよりも短波長域の可視光線と紫外線領域の電磁波であり、より好ましくは３００〜４５０ｎｍの範囲に波長ピークを持つ電磁波であり、さらに好ましくは３５０〜４００ｎｍの範囲に波長ピークを持つ電磁波である。
【０１２４】
紫外線の光源としては、例えば、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、及びキセノンランプなどが挙げられる。
【０１２５】
次の現像工程における現像時の未硬化部の洗い出しに対して、露光された印刷レリーフの安定性をより向上させるために、支持体の側からも上記と同様の条件で全面露光（以下、「バック露光」ともいう）を行ってもよい。このバック露光は、ネガ型マスクを形成する工程の前の工程から、現像工程までの間のいずれの工程において行ってもよい。
＜樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程＞
樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程は、樹脂層の未露光部を現像して除去することにより印刷レリーフを形成する工程である。
【０１２６】
現像して除去する際には、樹脂層を現像液に浸漬、現像液のノズルからの噴射、現像液を用いてブラシによるブラッシングなどの方法を用いることができる。
【０１２７】
現像処理で用いられる現像液としては、樹脂層を可溶であるか、膨潤又は分散する性質を有するものであれば特に限定されないが、例えば、水性現像液又は有機溶剤の現像液が挙げられる。
【０１２８】
水性現像液としては、水、水性溶液、半水性溶液のいずれであってもよく、現像液の選択は、除去されるべき樹脂の化学的性質に依存する。
【０１２９】
半水性現像液としては、水に混和し得る有機溶媒又はアルカリを含有する水溶液である。
【０１３０】
該有機溶媒としては、例えば、ヘプチルアセテート及び３−メトキシブチルアセテート等のエステル類、石油留分、トルエン及びデカリン等の炭化水素類、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等のアミン類などが挙げられ、アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、及びアンモニアなどが挙げられる。
【０１３１】
半水性溶液には、プロパノール、ブタノール、ペンタノール等のアルコール類を混合したものを用いてもよい。
【０１３２】
有機溶媒の現像液としては、例えば、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、又はそれらのハロゲン化された炭化水素などが挙げられ、該炭化水素と適当なアルコールとの混合物を用いることもできる。
【０１３３】
樹脂層を現像して、未露光部を除去する際には、ネガ型マスクを同時に除去してもよく、現像処理を行う前に、酸素遮断性層を除去してから現像を行ってもよく、及び酸素遮断性層、アブレージョンマスク、樹脂層の未露光部を同時に除去してもよい。また、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部に対して溶解性を有する別々の現像液を用いて現像して順次除去することもできる。酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部は、一度に現像することが工程上好ましい。
【０１３４】
現像して印刷レリーフを形成した後、リンス洗浄を行い、乾燥後に後処理露光を行って、凸版印刷版とすることができる。
【０１３５】
酸素遮断性層は、現像を行う際に除去してもよく、現像を行う前に、例えば、剥離することにより除去してもよい。
【０１３６】
特に限定されるものではないが、図面を例示して説明すると、図１０に示すように、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を同時に除去してもよく、図１１に示すように、酸素遮断性層を除去してから、現像して、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を除去してもよい。
【０１３７】
なお、図１０及び図１１は、一態様として、図４に示される酸素遮断性層を有する構成体についての例示であり、その他の例示である図５〜図７に示される酸素遮断性層を有する構成体においても同様に、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を同時に除去したり、酸素遮断性層を除去してから、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を除去してもよい。
【０１３８】
また、現像後に、印刷レリーフに対して後処理露光を実施してもよい。後処理露光の方法としては、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、太陽光などの活性光線源により処理する方法が挙げられる。後露光方法としては、例えば印刷レリーフの凹凸形状を持つ表面側を大気中で露光したり、水などの液体中で露光する方法等が挙げられ、版面汚れ持続性の点から、大気中で露光する方法が好ましい。露光の際の強度は特に制限はないが、例えば１〜５０ｍＷ／ｃｍ2が挙げられる。このときの露光強度はオーク製作所製のＵＶ照度計ＭＯ−２型機でＵＶ−２５フィルターを用いた数値である。後露光においては、少なくとも波長３００ｎｍ以下の活性光線を、現像後の感光性樹脂版の版面に露光処理することが好ましい。必要に応じて、３００ｎｍ以上の活性光線を併用しても構わない。これらの波長の異なる活性光線を併用する場合は、同時に露光処理しても、別々に露光処理しても構わない。
【実施例】
【０１３９】
以下に本発明の実施形態を実施例に基づいて具体的に説明する。また、図面を参照して説明する。
＜紫外線透過率の測定＞
ＰＥＴフィルム（コスモシャインＡ４１００（商品名）／東洋紡社 １００μｍ厚 片面易接着処理）上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものをサンプルとして、透過濃度計（ＧＲＥＴＡＧ Ｄ２００−II（商品名）／グレタグマクベス社）を用いてＵＶ３７３フィルタの透過率として測定した。
【０１４０】
同様にＰＥＴフィルムの透過率を測定し、差異として算出することができる。
＜酸素透過度の測定＞
ＰＥＴフィルム（Ａ４１００（商品名）／東洋紡社 １００μｍ厚 片面易接着処理）上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものから、ＰＥＴフィルムを剥離したものをサンプルとして、酸素透過度測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮ（商品名）／日立ハイテク社）を用いてＪＩＳＫ７１２６Ｂ（同圧法）により２０℃・ドライ雰囲気で測定した。
＜実施例１＞
乾燥粉末状のアラビアガム（アラビックコールＳＳ（商品名）／三栄薬品貿易社）を、精製水に対して１０質量％となるように溶解した。コーティング性を高めるため、シリコンオイル（変性オイルＫＦ３５１（商品名）／信越シリコーン社）をアラビアガムが溶解した精製水に対して０．１質量％添加し、酸素遮断性層形成用のコーティング液とした。
【０１４１】
図１に示すような、厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＷＰ ＤＥＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の支持体４側より、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した（バック露光）。図２に示すように、赤外線感受性層２を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体１に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ Ｓｐａｒｋ４２６０／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画した。図３に示すように、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスク５を形成した。
【０１４２】
アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティング液を塗工した。塗工面に１２０℃の熱風を吹きかけながら３０秒間乾燥させた。図４に示すように、アブレージョンマスク５及び樹脂層３の表面に酸素遮断性層６を形成した。
【０１４３】
酸素遮断性層の紫外線透過率は９２％、酸素透過度は５ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍであった。
【０１４４】
図８に示すように、酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１４５】
次いで、図１０に示すように、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層６、アブレージョンマスク５、及び未露光部８をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５分間乾燥した。
【０１４６】
構成体の表面の粘着性を除去するために２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例２＞
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセノールＧＬ−０５（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度８８ｍｏｌ％）を、精製水に対して１０質量％になるように溶解した。コーティング性を高めるため、湿潤剤（ＳＮウエット１２６（商品名）／サンノプコ社）をポリビニルアルコール樹脂が溶解した精製水に対して０．１質量％添加し、酸素遮断性層の形成用のコーティング液とした。
【０１４７】
実施例１と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１４８】
アブレージョンマスクを有する構成体を、コーティング液にディッピングし、液面に対して垂直に１００ｍｍ／分の速度で引き上げた。構成体の支持体（ＰＥＴ）側についた液をウエスで拭き取った後、構成体の表面に１２０度の熱風を吹きかけながら３０秒間乾燥させ、アブレージョンマスク表面に酸素遮断性層を形成した。
【０１４９】
酸素遮断性層の紫外線透過率は９２％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１５０】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１５１】
次いで、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層、アブレージョンマスク、未露光部をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５時間乾燥した。
【０１５２】
構成体の表面の粘着性を除去するために、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例３＞
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセランＬ−０３０１（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度３６ｍｏｌ％）を、精製水に対して３０質量％になるように溶解し、酸素遮断性層の形成用のコーティングジェルとした。
【０１５３】
実施例１と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１５４】
アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティングジェルを塗工し、図４又は図６に示すように、アブレージョンマスク５及び樹脂層３の表面に酸素遮断性層６を形成した。
酸素遮断性層の紫外線透過率は７７％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１５５】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１５６】
次いで、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５時間乾燥した。
【０１５７】
表面の粘着性を除去するために、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例４＞
厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＦＰ ＤＳＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の支持体４側より、実施例１と同様に支持体側より紫外線露光したのちネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１５８】
アブレージョンマスクを有する構成体の四辺を０．３ｍｍ厚のアルミニウム板上に両面テープで固定し、ＰＳ版のガムコーター部及び乾燥部を備える自動現像機（ＫＰＷ−８５０ＧＴ（商品名）／光陽化学社）を用いて、実施例１と同様のコーティング液を塗工し、乾燥することにより酸素遮断性層を形成した。
【０１５９】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）で照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１６０】
次いで、酸素遮断性層の表面に５０度の温水を流しかけ、柔らかなスポンジで表面を擦りながら、酸素遮断性層を溶解除去させた。
【０１６１】
構成体の表面についた水滴を拭き取り、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１６２】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例５＞
実施例２と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１６３】
アブレージョンマスクを有する構成体の四辺を０．３ｍｍ厚のアルミニウム板上に四辺を両面テープで固定し、ガムコーター部及び乾燥部を備える自動現像機（ＫＰＷ−８５０ＧＴ（商品名）／光陽化学社）を用いて、実施例２と同様のコーティング液を塗工し、乾燥することにより酸素遮断性層を形成した。
【０１６４】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）で照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪの紫外線を照射した。
【０１６５】
次いで、図１２に示すように、酸素遮断性層６の端部をナイフの先端部で一部剥離させ、剥離部を指で摘み上げ、ゆっくりと表面から剥離させた。
【０１６６】
その後、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１６７】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例６＞
実施例３と同様にして、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、ネガ型マスクを有する構成体を作成した。
【０１６８】
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセランＬ−０３０１（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度３６ｍｏｌ％）を、精製水に対して３０質量％になるように溶解し、酸素遮断性層の形成用のコーティングジェルとした。
【０１６９】
実施例３と同様にして、アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティングジェルを塗工し、酸素遮断性層を形成した。
酸素遮断性層の紫外線透過率は７７％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１７０】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１７１】
次いで、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１７２】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例７＞
コアスリーブとしての内径２１３．３８４ｍｍ、厚み０．９０ｍｍ、面長３００ｍｍのプラスチックスリーブ（ベーシックスリーブ（商品名）／ＰＯＬＹＷＥＳＴ社）を、ラッピング装置（ＡＲＣ−１１０Ｌ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）に装着した。スリーブ表面にクッション両面粘着テープ（３Ｍ−１０２０（商品名）／住友スリーエム社）で、実施例３と同様に支持体面からバック露光された赤外線感受性層を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＦＰ ＤＳＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を巻きつけた。スリーブ状のフレキソＣＴＰ印刷版構成体に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ ｃｌａｓｓｉｃ／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画し、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスクを形成させた。
【０１７３】
軟質クロロプレン（厚さ１ｍｍ、硬度４５度）をスケージゴムとする垂直式リングコーター（高木彫刻社製）に、アブレージョンマスクを有するスリーブ状の構成体及び実施例２と同様のコーティング液をセットした。１００ｍｍ／分の速度でコーティング液の入ったコーター部を下降させることで、構成体の表面にコーティング液を均一に塗工した。構成体を５０度のオーブンで１５分間乾燥させ、酸素遮断性層を形成した。
【０１７４】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの円筒露光装置（ＭＡＩＮ ＥＸＰＯＳＵＲＥ／ＡＶｆｌｅｘｏｌｏｇｉｃ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１７５】
次いで、酸素遮断性層の端部をナイフの先端部で一部剥離させ、剥離部を指で摘み上げ、ゆっくりと表面から剥離させた。
【０１７６】
その後、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＳ−１３１６ＩＰ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、６０℃１時間乾燥した。
【０１７７】
構成体の表面の粘着性を除去するため、２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間、後処理露光を行い、スリーブ状フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例８＞
実施例１と同様にして、支持体側よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１７８】
アブレージョンマスクを有する構成体のアブレージョン面側に、酸素遮断性層として、厚さ０．１ｍｍのＰＥＴフィルム(コスモシャインＡ４１００（商品名）／東洋紡績社、１００μｍ厚 片面易接着処理、紫外線透過率８２％、酸素透過度７２ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ)をアブレージョンマスクが形成された構成体表面全体にラミネートした。
【０１７９】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１８０】
次いで、ラミネートしたＰＥＴフィルムを表面から剥がし取り、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１８１】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜比較例１＞
酸素遮断性層を形成せずにアブレージョンマスク側からの紫外線照射を行った以外は、実施例１と同様の操作を行って、印刷版を得た。
【０１８２】
比較例１における印刷版の製造方法について、図面を例示しつつ説明する。
【０１８３】
図２に示すように、赤外線感受性層２を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体１（ＡＷＰ ＤＥＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ Ｓｐａｒｋ４２６０／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画した。図３に示すように、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスク５を形成した。
【０１８４】
図１２に示すように、アブレージョンマスクを有する構成体１に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。図１３に示すように、樹脂層を紫外線露光することにより、露光部７及び未露光部８を有する構成体を形成した。
【０１８５】
次いで、図１４に示すように、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク５、及び未露光部８をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５分間乾燥した。
【０１８６】
構成体の表面の粘着性を除去するために２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間、後処理露光を行い、印刷版を得た。
＜比較例２＞
酸素遮断性層を形成せずに紫外線照射を行った以外は、実施例３と同様の操作を行って、印刷版を得た。
【０１８７】
実施例１〜８のフレキＣＴＰ印刷版と比較例１及び２の印刷版を用いて、印刷再現性及び版面再現性を評価した。
＜印刷再現性＞
ドクターチャンバー付きの８００線／インチのアニロックスロールを装備したフレキソ印刷機で、溶剤インクを用いてポリエチレンフィルムへの印刷を行った。
【０１８８】
印刷品質：ネガ型マスクの線幅と極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が同等であれば、「良好」、ネガ型マスクの線幅より極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が大きければ、「太り」、ネガ型マスクの線幅より極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が小さければ「不均一」とした。
【０１８９】
線幅：潰れていない最小ライン幅を示す。１ｕｍ以下の場合は「測定不能」とした。
＜版面再現性＞
顕微鏡等を用いて得られた版面の再現性を評価した。
【０１９０】
印刷レリーフの形状：線幅１０μｍの部位をスライスし、その断面形状を１００倍の光学顕微鏡で拡大観察し、その形状角（両ショルダー接線の交点角）が９０度未満の場合を鋭角、９０度以上の場合を鈍角とした。
【０１９１】
表面：電子顕微鏡にて観察し、線幅１０μｍの部位と格子交点部位が同一水平面上に観察される場合を「平坦」、それ以外を「凸凹」とした。
【０１９２】
実施例１〜８並びに比較例１及び２について、表１、表２及び図１５にまとめた。また、
実施例１〜７の凸版印刷版において、格子線の印刷再現は良好であり、その版面は表面頂部まで十分に硬化しており、平らな形状であることが分かった。また、酸素遮断性層を乾燥させた高分子膜としたものについては、酸素遮断性層での紫外線の散乱が少なく、そのレリーフ形状はよりシャープであった。
【０１９３】
実施例８の凸版印刷版において、格子線の幅が全体的に太く印刷された。また、その版面は、実施例１に比較してＰＥＴ層での紫外線の散乱により、そのレリーフ形状が鈍角形状になっていたものの、表面頂部までが十分に硬化しており、平坦な表面であった。
【０１９４】
一方、比較例１及び２の印刷版において、格子線の交点だけが太く印刷され、印刷物は全体的に不均一に見えた。また、その版面は表面頂部までが十分に硬化しておらず、凸凹形状であることが分かった。
【０１９５】
【表１】
【０１９６】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【０１９７】
本発明の製造方法により得られるフレキソ印刷版は、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有するため、印刷品質に優れる。したがって、本発明は、例えば、電子基板プリントのマスク形成、金券や証券等の偽造防止のためのマイクロパターン印刷など、微細な用途で好適に利用できる。
【符号の説明】
【０１９８】
１ 凸版印刷版構成体
２ 赤外線感受性層
３ 樹脂層
４ 支持体
５ ネガ型マスク
６ 酸素遮断性層
７ 露光部
８ 未露光部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版印刷版の製造方法に関する。また、本発明は、積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
凸版印刷方式における印刷版としては、ゴムや熱可塑性エラストマーなど常温領域にゴム弾性を有する樹脂製版が一般に用いられ、多くは、その柔軟性を特徴とするフレキソ印刷向けに使用されている。フレキソ印刷方式は、段ボールのような表面粗度が高く剛性の低い材料や、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなど張力で伸長しやすい薄いフィルム材料へのパターン形成に好適に用いられる印刷方式である。
【０００３】
フレキソ印刷に用いられる樹脂製版には、シート状で感光性の熱可塑性エラストマーからなるものが多く用いられており、また、該樹脂製版は、紫外線などを照射して光硬化させた感光性樹脂を現像処理することにより製版されている。
【０００４】
特許文献１及び２などには、赤外線レーザー光による切除が可能で、かつ感光性樹脂を硬化させる活性光線を遮蔽する性質を有する赤外線感受性層を感光性樹脂表面に直接付与したフレキソＣＴＰ印刷版構成体を用いる製版技術が開示され、該技術により凸型レリーフの高精細な再現が得られ、フレキソ印刷は、より高品質な用途に使用されるようになっている。
【０００５】
しかしながら、斯かるフレキソＣＴＰ印刷版構成体を用いる技術においては、赤外線感受性層のアブレージョンされた部位の感光性樹脂表層が空気中の酸素の影響により、紫外線露光した際に感光性樹脂が十分に重合しないことが知られている。また、斯かる技術においては、ネガフィルムを通して紫外線露光される感光性樹脂版に比べて網点再現性などが改善される一方、マイクロ文字や極細線の印刷レリーフのエッジ部分が重合不足のため丸みを帯びた形状となる。それにより、これらの部分に印刷インクが多く溜まることで、印刷イメージのハードエッジ再現が強くなり、マイクロ文字などの可読性を損なう欠点があった。
【０００６】
このため近年、これらの欠点を解消するために、新たな技術が提案されている。
【０００７】
例えば、特許文献３には、感光性樹脂層とマスク層を有するＣＴＰ構成体より凸型印刷レリーフを形成する工程において、感光性樹脂層とマスク層の界面に酸素遮断性の樹脂層を設ける技術が開示されている。
【０００８】
また、特許文献４には、低酸素濃度に調整されたチャンバ内に感光性樹脂層とマスク層とを有するＣＴＰ版構成体を密閉することなど、露光時に感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減し、より紫外線重合度の高い印刷レリーフを得ることができるフレキソＣＴＰ印刷版構成体や、その製版方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平８−３０５０３０号公報
【特許文献２】特開平９−１６６８７５号公報
【特許文献３】特開２００９−０５８９０２号公報
【特許文献４】特開２０１０−１７５９６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献３において開示されている技術の実施に当たっては、感光性樹脂層とマスク層の界面に酸素遮断性の樹脂層が存在するため、紫外線露光時に感光性樹脂層に対するマスク精度が低下するといった問題点がある。
【００１１】
また、特許文献４において開示されている製版方法の実施に当たっても、露光雰囲気を密閉系に変更する必要があり、装置が煩雑にあるといった問題があった。
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、既存の凸版印刷版構成体および製版設備を変更する必要なく利用可能な製版方法であって、簡便な手法で、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは凸版印刷版の製造方法において、紫外線露光して樹脂層に印刷レリーフを形成させる工程において、事前に酸素遮断性層を設けることで、スリーブ形状で紫外線露光するスリーブ版を含め、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を十分低減し、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを得ることができることを見出し、本発明を完成した。
【００１４】
本発明は以下の通りである。
１．
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
２．
前記ネガ型マスクを形成する工程が、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、である、１．記載の凸版印刷版の製造方法。
３．
前記酸素遮断性層が高分子膜である、１．又は２．に記載の凸版印刷版の製造方法。
４．
前記酸素遮断性層の酸素透過度が２０ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下である、１．〜３．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
５．
工程（４）の前に、
（５）前記酸素遮断性層を除去する工程をさらに含む、１．〜４．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
６．
工程（５）において、前記酸素遮断性層を剥離することにより除去する、５．に記載の凸版印刷版の製造方法。
７．
工程（４）において、前記樹脂層の現像と同時に前記酸素遮断性層を除去する、１．〜４．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
８．
（６）凸版印刷版構成体をコアスリーブに巻き付ける工程をさらに含む、１．〜７．のいずれかに記載の凸版印刷版の製造方法。
９．
ネガ型マスクを有する構成体と、
前記構成体に積層される酸素遮断性層と、を備え、
前記ネガ型マスクが、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して形成されるか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成されたものである積層体。
１０．
前記樹脂層に前記酸素遮断性層が積層される、９．に記載の積層体。
１１．
前記ネガ型マスクに前記酸素遮断性層が積層される、９．又は１０．に記載の積層体。
１２．
前記酸素遮断性層が高分子膜である、９．〜１１．のいずれかに記載の積層体。
１３．
前記酸素遮断性層が水溶性高分子により形成される、９．〜１２．のいずれかに記載の積層体。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】凸版印刷版構成体１の断面図の模式図を示す。
【図２】凸版印刷版構成体１に赤外線露光する態様の模式図を示す。
【図３】ネガ型マスク５を有する構成体の模式図を示す。
【図４】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図５】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図６】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図７】ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【図８】樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する態様の模式図を示す。版面側から紫外線露光し、支持体側からバック露光する。
【図９】紫外線露光による露光部７と未露光部８の模式図を示す。
【図１０】酸素遮断性層６、ネガ型マスク５、及び未露光部８を現像する態様の模式図を示す。
【図１１】酸素遮断性層６を剥離する態様の模式図を示す。
【図１２】従来技術における紫外線露光する態様の模式図を示す。版面側から紫外線露光し、支持体側からバック露光する。
【図１３】従来技術における紫外線露光による露光部７と未露光部８の模式図を示す。
【図１４】従来技術におけるネガ型マスク５、及び未露光部８を現像する態様の模式図を示す。
【図１５】実施例及び比較例の凸版印刷版の模式図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明について、好ましい実施態様を中心に、詳細に説明する。
【００１８】
本実施形態の凸版印刷版の製造方法は、
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法である。
【００１９】
本実施形態に用いられる凸版印刷版構成体について説明する。
【００２０】
凸版印刷版構成体は、少なくとも紫外線露光製版が可能な樹脂層表面に紫外線遮断性物質からなるネガ型マスクを積層した構成体である。
【００２１】
より好ましくは、凸版印刷版構成体は、紫外線露光製版が可能な樹脂層と、該樹脂層に積層される赤外線感受性層と、を少なくとも備える積層体である。
＜紫外線露光製版が可能な樹脂層＞
紫外線露光製版が可能な樹脂層は、バインダーポリマー、エチレン性不飽和モノマー、及び光開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成される。感光性樹脂組成物は、必要に応じて可塑剤、熱重合安定剤、増感剤、及び着色剤などの添加剤を含んでいてもよい。
【００２２】
本実施形態で用いられるバインダーポリマーは、単一の重合体、共重合体、又はそれらの混合物であって、かつ水性現像液又は有機溶剤の現像液に可溶であるか、膨潤又は分散することにより、洗浄除去可能なポリマーである。バインダーポリマーとしては、好ましくはエラストマー性を有するポリマーである。
【００２３】
バインダーポリマーとしては、例えば、ポリジオレフィン、例えば、ポリブタジエンや、ポリイソプレン、ビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体、例えば、スチレン／ブタジエン共重合体や、スチレン／イソプレン共重合体、ジオレフィン／アクリロニトリル共重合体、エチレン／プロピレン共重合体、エチレン／プロピレン／ジオレフィン共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、ジオレフィン／（メタ）アクリル酸共重合体、ジオレフィン／（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリレート共重合体、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール／ポリエチレングリコール共重合体、両性インターポリマー、セルロース類、例えば、アルキルセルロースや、ヒドロキシアルキルセルロースや、セルロースアセテートブチレートや、ニトロセルロース、エチレン／ビニルアセテート共重合体、ポリブチラール、環状ゴム、スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン／ビニルアセテート共重合体などが挙げられる。共重合体は、ブロック共重合体であってもよく、グラフト共重合体であってもよい。
【００２４】
本実施形態において、（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタアクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートは、アクリレートとメタアクリレートを意味する。
【００２５】
バインダーポリマーとしては、好ましくはビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体である。
【００２６】
モノビニル置換芳香族炭化水素モノマーとしては、例えば、スチレン、α―メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどが挙げられる。
【００２７】
共役ジエンモノマーとしては、例えば、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
【００２８】
当該熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレン／ブタジエンブロック共重合体や、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体などが挙げられる。
【００２９】
本実施形態において用いられるエチレン性不飽和モノマーは、分子内に不飽和エチレン構造を有するモノマーであって、かつバインダーポリマーと相溶性のあるモノマーである。
【００３０】
エチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、ｔ−ブチルアルコール又はラウリルアルコール等のモノアルコールやヘキサンジオール等の多価アルコールとの（メタ）アクリル酸エステル；ラウリルマレイミド及びシクロヘキシルマレイミド等のマレイミド誘導体；ジオクチルフマレート等のアルコールとフマル酸のエステルなどが挙げられる。
【００３１】
エチレン性不飽和モノマーは、感光性樹脂組成物に、１種類以上含むことが好適である。
【００３２】
エチレン性不飽和モノマーの含有量は、紫外線露光された樹脂層の耐摩耗性や耐薬品性の観点から、感光性樹脂組成物中のバインダーポリマー１００質量部に対して、好ましくは５〜３０質量部の範囲であり、より好ましくは１０〜２０質量部の範囲である。
【００３３】
本実施形態において用いられる光開始剤は、紫外線に感応する光開始剤として公知の化合物である。
【００３４】
光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であることが好ましく、例えば、ベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチロールベンゾインメチルエーテル、α−メトキシベンゾインメチルエーテル、及び２，２−ジエトキシフェニルアセトフェノン等のベンゾインエーテル類などが挙げられる。
【００３５】
光開始剤の含有量は、凸版印刷版の感度及び解像度の観点から、感光性樹脂組成物の全質量に対して、好ましくは０．００１〜１０質量％の範囲である。
【００３６】
本実施形態において用いられる可塑剤は、バインダーポリマーに可塑性を与え、感光性樹脂組成物中の他の成分の分散性を改善するとともに成型時の流動性や皮膜形成特性を調節するために用いられる任意の成分である。
【００３７】
可塑剤としては、例えば、ナフテン酸及びパラフィン油等の脂肪族炭化水素油、液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレン、ポリテルペン樹脂などが挙げられる。
【００３８】
感光性樹脂組成物に含まれる成分である、バインダーポリマー、エチレン性不飽和モノマー、光開始剤、必要に応じて加えられる添加剤は、それぞれ、単独で用いてもよく、それぞれ複数種を用いてもよい。
【００３９】
紫外線露光製版が可能な樹脂層（以下、単に「樹脂層」と記載する場合がある。）は、感光性樹脂組成物を、例えば、クロロホルム、テトラクロルエチレン、メチルエチルケトン、トルエンなどの適当な溶媒に溶解又は分散させ、得られた溶液を型枠の中に流し込んだ後、溶媒を蒸発させて得ることができ、また、支持体上にシート状の樹脂層として形成することができる。
【００４０】
樹脂層としては、溶剤を用いずに、ニーダー又はロールミルで感光性樹脂組成物を混練し、押し出し機、射出成型機、プレスなどにより所望の厚さのシートに成型して得てもよい。
【００４１】
樹脂層の支持体としては、用いる印刷条件に必要とされる機械的強度などの物理性能を満たす、通常の凸版印刷版に用いられる公知の金属、プラスチック、紙及びこれらの複合化されたシート状又はフィルム状あるいはスリーブ状のすべての支持体を用いることができる。
【００４２】
支持体としては、例えば、付加重合ポリマー及び線状縮合ポリマーにより形成されるポリマー性フィルム、透明なフォーム、ガラス繊維織物等の織物、不織布、スチール、鉄、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、銅、真鍮、及びステンレス等の金属などが挙げられる。
【００４３】
支持体はバック露光が容易なように紫外線に対して透明であることが好ましく、スリーブ状の支持体は、印刷シリンダへの装着の面から、圧縮空気圧でスリーブ内径が膨張拡大でき、当該圧縮空気が開放されると元の内径に戻るような特性を有していることが望ましい。
【００４４】
フィルム状又はシート状の支持体としては、具体的には、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、又はポリエステルなどをフィルム状又はシート状に成形したものが挙げられ、好ましくはポリエチレンテレフタラートフィルムである。
【００４５】
支持体の厚さは、好ましくは５０〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは７５〜２００μｍの範囲である。
【００４６】
スリーブ状の支持体としては、ニッケルなどからなる薄い金属基材や、少なくとも１つの繊維強化プラスチック基材を使用することができる。これらの厚みは薄いものでは０．１ｍｍから、厚いものでは５ｍｍ以上のものが用いられるが、特に５ｍｍ以上のものに対しては、軽量化の面から、その内部にポリエチレンやポリウレタンなどの発泡体層を設け、その表面層を硬質のポリウレタンやポリエチレン基材でコーティングした多層構造を有するものを用いることができる。
【００４７】
支持体と樹脂層との間に、必要に応じて、例えば、ポリカーボネートと、フェノキシ樹脂と、多価イソシアネートの混合物からなる粘着促進層を有していてもよい。
【００４８】
前記ネガ型マスクを形成する工程としては、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、がある。
【００４９】
まず、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成する方法について説明する。
【００５０】
赤外線感受性層は、赤外線によりアブレージョン可能であり、かつ紫外線に対して実質的に不透明な樹脂層である。
【００５１】
赤外線感受性層は、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質を含む赤外線感受性組成物を用いて形成される。
【００５２】
赤外線感受性組成物に用いられるバインダーポリマーとしては、例えば、ポリアミド、ポリビニルアルコール、両性インターポリマー、アルキルセルロース、ヒドロキシアルキルセルロース、及びニトロセルロース等のセルロース類、エチレン／ビニルアセテート共重合体、ポリブチラール、環状ゴム、スチレン／ブタジエン共重合体、スチレン／イソプレン共重合体等のビニル芳香族化合物／ジオレフィン共重合体などが挙げられる。
【００５３】
バインダーポリマーの含有量は、赤外線感受性組成物の全質量に対して、好ましくは２０〜９０質量％の範囲である。
【００５４】
赤外線感受性組成物に用いられる赤外線吸収性物質は、７５０〜２０００ｎｍの範囲で強い吸収を持つ物質である。
【００５５】
赤外線吸収物質としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、及び酸化クロム等の無機顔料、ポリフタロシアニン化合物、シアニン色素、クロコニウム色素、及び金属チオレート色素等の色素類などが挙げられる。
【００５６】
赤外線吸収性物質は、使用する赤外線レーザー光線で切除可能な感度を付与する範囲で添加される。赤外線吸収性物質の含有量は、赤外線感受性組成物の全質量に対して、好ましくは１０〜８０質量％の範囲である。
【００５７】
赤外線感受性組成物に用いられる紫外線遮蔽性物質は、紫外線を反射又は吸収する物質である。
【００５８】
紫外線遮蔽性物質としては、例えば、紫外線吸収剤、カーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。
紫外線遮蔽性物質の含有量は、所望の紫外線透過率が達成できるように添加量を設定する。一般的には、赤外線感受性層となった場合の紫外線透過率が１％以下、好ましくは０．１％以上となるように添加される。赤外線吸収性物質と紫外線遮蔽性物質との双方に該当する物質として、カーボンブラックやグラファイトを用いてもよい。
紫外線透過率の測定方法については後述する。
【００５９】
赤外線感受性組成物に含まれる成分である、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、紫外線遮蔽性物質は、それぞれ、単独で用いてもよく、それぞれ複数種を用いてもよい。また、赤外線吸収性物質と、紫外線遮蔽性物質が同一である場合には、赤外線吸収性物質を所定量含むことで、紫外線遮蔽性物質として求められる性質も、赤外線感受性層において発揮される。
【００６０】
赤外線感受性層は、赤外線感受性組成物を、適切な溶剤や水に均一に溶解又は分散させて赤外線感受性塗工液とし、これを層状に塗工して得ることができる。
【００６１】
赤外線感受性塗工液は、バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質に溶剤を加え、撹拌羽根による強制撹拌、ボールミルを用いた撹拌、超音波を利用した撹拌、又はそれらを併用して赤外線感受性塗工液を調製することができる。バインダーポリマー、赤外線吸収性物質、及び紫外線遮蔽性物質を、溶剤を用いずに押し出し機やニーダーを用いて予備混練してから、溶剤に溶解して赤外線感受性塗工液を調製することができる。
【００６２】
赤外線感受性塗工液には、添加剤として界面活性剤、消泡剤などを添加してもよい。
【００６３】
続いて、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程（以下、「インクジェット法」）について説明する。
【００６４】
インクジェット法に用いる紫外線遮断性のインクとしては、紫外線を吸収又は反射する紫外線遮蔽性物質を溶媒に溶解または分散した油性または水性インクを用いることができる。
【００６５】
紫外線遮蔽性物質としては、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロームおよびアルミン酸クロム−コバルトのような無機顔料、シアニン色素、スクアリーリウム色素、カルコゲノピリロアリーリデン色素、ビス（カルコゲノピリロ）−ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ビス（アミノアリール）−ポリメチン色素、メロシアニン色素、クロコニウム色素、金属チオレート色素およびキノイド色素などを挙げることができる。
【００６６】
油性インクの溶媒としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、または芳香族炭化水素、およびこれらの炭化水素のハロゲン置換体がある。例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、シリコンオイル等を単独あるいは混合して用いられる。
【００６７】
水性インクの溶媒としては、水および水と水溶性有機溶剤の混合溶媒が用いられる。水としては、イオン交換水、蒸留水などを使用するのが好ましい。また、溶解または分散させる材料により中性、アルカリ性、酸性で使用される。また、水性混合溶媒に使用される水溶性有機溶剤としては、従来公知の水溶性有機溶剤、例えばアルコール類、グリコール類、グリセリン、エーテル、多価アルコールなどが挙げられる。
【００６８】
紫外線遮蔽性物質の含有量は、所要の光学的濃度に達するように設定される。一般的には、得られるネガ型マスクの紫外線透過率が１％以下、好ましくは０．１％以下となるように添加される。
【００６９】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、
図１は、樹脂層３に積層された赤外線感受性層２を形成することにより得られる凸版印刷版構成体１の断面図の模式図（部分）を示す（以下、図１〜図１４において同様である。）。図１に示す、凸版印刷版構成体１は、支持体４に積層されている。
【００７０】
樹脂層に積層された赤外線感受性層を形成するための方法としては、例えば、赤外線感受性塗工液をリングコーター、スプレーコーターなどによって樹脂層の表面に直接塗工する方法、ポリエステルやポリプロピレンなどのフィルムに塗工した後、樹脂層の表面にラミネートして転写する方法などが挙げられる。
【００７１】
樹脂層が予めスリーブ状に加工されたものである場合には、樹脂層に直接塗工する方法が好適である。
【００７２】
赤外線感受性層の厚みは、赤外線レーザーによる切除の感度と紫外線の遮蔽効果を考慮して決定されるが、好ましくは０．１〜２０ｇ／ｍ2の範囲であり、より好ましくは１〜５ｇ／ｍ2の範囲である。
【００７３】
凸版印刷版構成体は、スリーブ状又はシート状であってもよく、スリーブ状の凸版印刷版構成体である場合には、スリーブ状の樹脂層に、赤外線感受性層を積層してもよく、シート状の凸版印刷版構成体としてから、スリーブ状にしてもよい。
【００７４】
本実施形態に用いられるコアスリーブは、中空円筒状の基材であって、好ましくは、圧縮空気圧でスリーブ内径が膨張拡大でき、圧縮空気圧が開放されると元の内径に戻るような特性を有している。コアスリーブとしては、具体的には、６バール程度の圧縮空気圧を印刷機のエアシリンダなどからコアスリーブ内面に供給することでスリーブ内径を膨張拡大し、シリンダ上をスライドさせ、圧縮空気圧を開放するとコアスリーブが元の内径に戻ってシリンダ上に固定される。
【００７５】
コアスリーブの厚みは、薄いものでは０．１ｍｍ以上であり、厚いものでは５ｍｍ以上である。
【００７６】
コアスリーブと樹脂層との間に、クッション層を有することが、マイクロ文字や極細線などの印刷再現性及び版面再現性の観点から好ましい。また、クッション層と樹脂層の間に接着層を有してもよい。
【００７７】
コアスリーブの表面に形成されるクッション層は、例えば、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、エチレン、プロピレンゴムなどの連続または単独の微細な気泡を有する弾性発泡体からなり、好ましくは、接着層を介してコアスリーブ表面に均一な厚みで形成される。
【００７８】
クッション層の厚みや硬度は印刷レリーフを形成する樹脂層の材質特性、印刷品質、印刷時の胴径調整などの目的によって必要に応じて選択される。一般的には、厚みは０．３ｍｍから１ｍｍ程度であることが好ましく、密度は０．１〜０．６ｇ／ｃｍ3の範囲であることが好ましく、ショアＡ硬度は１０〜６０度の範囲であることが好ましい。印刷シリンダに凸版印刷版を貼り込む際に使われるクッション材の両面に粘着剤が設けられたクッションテープなどが好適に使用できる。
【００７９】
クッション層の密度やショアＡ硬度は、公知の方法により測定することができる。
【００８０】
本実施形態においては、紫外線遮蔽性に優れた赤外線感受性層を有するフレキソ印刷版構成体を、アブレージョンマスクを形成する工程の前に、コアスリーブに巻きつけてもよい。具体的な方法としては、コアスリーブに両面粘着テープなどで貼り付けル方法や、シート状の樹脂層をコアスリーブに巻きつけ、樹脂層の端部を軟化点以上に加熱して融着させ、研削装置でつなぎ目なく研削成形して、スリーブ状の樹脂層とした後、その外周面に赤外線感受性塗工液を円周方向につなぎ目なく塗工する方法などが挙げられる。マイクロ文字や極細線再現の安定性の観点から後者の方法が好ましい。
【００８１】
赤外線感受性層を赤外線露光してアブレージョンマスクを形成する工程は、赤外線感受性層に、公知のレーザー描画装置、これにより微小なスポットレーザ光を用いて凸版印刷版用のネガ型マスクを作ることができる、を用いて、レイアウトされた印刷画像様にレーザー描画することによって行われる。レーザー照射された赤外線感受性層は焼き飛ばされて当該部の樹脂層が露出するため、残存する赤外線感受性層をネガ型マスクとして形成させることができる。
【００８２】
レーザー描画装置としては、特開平０８−３００６００号公報に開示されているような長手方向軸線を有する回転可能な円筒面に凸版印刷版構成体をバキューム等によって取り付け、円筒面を回転させながら赤外線感受性層に対してレーザースポットを相対移動させながらレーザー描画するものを挙げることができる。赤外線レーザーの発生ユニットは、駆動系ユニットと共にコンピューターで制御されており、赤外線感受性層を選択的に切除していくことにより、デジタル化された画像情報をアブレージョンマスクとして付与することができる。
【００８３】
このレーザー描画工程で使用される赤外線レーザーとしては、波長が７５０〜２０００ｎｍのものを用いることができる。このタイプの赤外線レーザーとしては７５０〜８８０ｎｍの半導体レーザーや１０６４ｎｍのＮｄ―ＹＡＧレーザーなどが一般的である。
【００８４】
該工程により、樹脂層に積層される赤外線感受性層に、画像情報が付与されたアブレージョンマスクが形成され、アブレージョンマスクを有する構成体が製造される。
【００８５】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、図２は、樹脂層３に赤外線感受性層２が積層された凸版印刷版構成体１に赤外線露光する態様の模式図を示す。図３は、樹脂層３に積層された赤外線感受性層に、アブレージョンマスクが形成された構成体を示す。
【００８６】
図３はまた、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層してネガ型マスクが形成された構成体を示す。
【００８７】
＜アブレージョンマスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程＞
酸素遮断性層に要求される酸素遮断性とは、図８に示すネガ型マスクを積層した凸版印刷版構成体に紫外線露光する工程において、露光雰囲気面に露出している樹脂層部位と露光雰囲気中に存在する酸素との物理的な接触を遮断する特性を指し、酸素遮断性層には紫外線露光の間、露出する樹脂の表面を一定時間物理的に覆う特性、即ち樹脂層より低い表面張力、形成した層内が紫外線を通過させやすい特性、即ち高い紫外線透過率、層内が酸素を通過させにくい特性、即ち低い酸素透過度または低い溶存酸素量である必要がある。
【００８８】
酸素遮断性層の形成方法としては、ＰＶＡやナイロン、ポリエチレンテレフタレートなど表面張力が低く、酸素透過度の低い結晶構造を有する透明なフィルム状材料を樹脂部にラミネートして形成する方法、これらの高分子結晶構造を形成する高分子材料を溶解させたコーティング液を樹脂層に塗布し、乾燥させることによって高分子膜を樹脂層表面に形成させる方法、溶存酸素を除いた脱酸素水等に紫外線透過性の高分子材料や界面活性剤、湿潤剤等を溶解させて低表面張力としたコーティング剤をコーティングする方法などを挙げることができる。露出する樹脂層に密着して、樹脂層の表面を一定時間物理的に覆うことは、本発明の好ましい実施形態であるため、樹脂層との密着性の観点から、コーティングによって形成させる方法が好ましい。
【００８９】
酸素遮断性層の表面張力は、凸版印刷版構成体の樹脂層の表面より低いことが好ましく、その表面張力は５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、より好ましくは４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。フィルム等の固体の表面張力は濡れ張力試験法（ＪＩＳ Ｋ６７６８）に規定されているように、濡れ張力試験用指示薬が撥水することなく表面に濡れる試験用混合液の濡れ性指数として容易に求めることができる。また液体の表面張力は、懸滴法（ペンダント・ドロップ法）など鉛直方向に向けた細管の先端から液体を押し出し、細管の先端にぶら下がった液滴の形状の解析によって求めることができる。
【００９０】
酸素遮断性層の紫外線透過性は、紫外線露光の際の感度の観点から、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。紫外線透過率は透過濃度計などを用いてＵＶフィルタの透過率として測定することができる。
【００９１】
酸素遮断性層の酸素透過度は、乾燥膜として形成させた状態で、好ましくは２０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下であり、より好ましくは１０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、５ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下である。また液状として形成させた場合には、その液の２０℃、１気圧における溶存酸素量が１０ｍｇ／Ｌ以下、好ましく５ｍｇ／Ｌ以下である。酸素透過度は、ＪＩＳＫ７１２６Ｂ（同圧法）などにより測定することができる。また、液体の溶存酸素量は隔膜電極法などを用いて測定することができる。
【００９２】
写真やポスターのＵＶカットフィルムのラミネートなどに用いられているロール式ラミネート加工のように、フィルムと被ラミネート対象物を金属ロール等で加圧しながらラミネートする方法を挙げることができる。
【００９３】
低溶存酸素量のコーティング剤のコーティング、コーティング液のコーティングと乾燥によって酸素遮断性層を形成する場合の高分子材料は、有機溶剤溶解性の材料であって良いが、溶媒の難酸素溶解性および接触する溶媒の樹脂層や赤外線遮断層へ影響の観点から、水溶液として利用できる水溶解性にも優れた材料がより好ましい。
【００９４】
特に限定して解釈されるものではないが、図面を例示して説明すると、図４〜図７は、ネガ型マスク５を有する構成体に酸素遮断性層６が積層された積層体の模式図を示す。
【００９５】
酸素遮断性層の態様としては、特に限定されるものではないが、例えば、図４〜図７に酸素遮断性層６として例示するような態様が挙げられる。
【００９６】
本実施形態において、特に限定されるものではないが、アブレージョンマスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程により、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、紫外線重合度の高い印刷レリーフを有する凸版印刷版を得ることができる。
【００９７】
水溶解性の高い高分子としては、例えば、アラビアゴム、デンプン、及びゼラチン等の天然由来の高分子、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）及びメチルセルロース（ＭＣ）等のセルロース誘導体、ポリ酢酸ビニル及びポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等のビニル樹脂、（メタ）アクリル酸重合体、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ））、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）等の合成由来の高分子などが挙げられる。
【００９８】
水溶解性の高い高分子としては、現像の観点から、好ましくはポリビニルアルコールである。
【００９９】
水溶解性の高い高分子を溶解させる溶媒としては、水が挙げられるが、より好ましくは脱酸素化した水であり、溶液の保存性安定性やコーティング性などの観点から、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類などの水溶性有機溶媒との混合溶媒であってもよい。
【０１００】
また、コーティング液には、水酸化ナトリウム及び炭酸カルシウム等のアルカリ、シリコンオイル及びグリセリン等の改質剤などを添加してもよい。
【０１０１】
ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する方法としては、スプレー方式、バーコーター方式、ロールコーター方式、リングコーター方式、ガムコーター方式、インクジェット方式などが挙げられる。
【０１０２】
スプレー方式としては、エアゾールに代表されるような、缶などの容器に液化ガスとともに封入した液状や微粉末の薬品などを、ガスの圧力で霧状に吹き出させて、被塗工媒体に塗りつける方式、主にペンキ・ラッカーなどの塗装用途に用いられるピストルのような形状の吹き付け塗装用器具を用いて、圧縮空気を使って加圧した薬品などを噴霧して被塗工媒体に塗りつける方式などが挙げられる。
【０１０３】
軟質で、かつ傷つきやすい表面を有するに直接又は間接的にも触れないで塗工する方法として、スプレーコーター方式を用いてもよい。
【０１０４】
バーコーター方式としては、被塗工媒体上に薬品を帯状に広げ、その上からワイヤー状やブレード状の金属製のコーティングロッドを手前に均等な速さで引くことで塗りつけるような一般的な方式のほか、コーティング液にディッピングし、液面に対して、同様に均等な速さで引き上げることで塗りつける方式なども挙げられる。
【０１０５】
ロールコーター方式は、ＬＳコーター（商品名：シンクラボラトリー社）などを用いて高分子水溶液を塗工する方式である。
【０１０６】
ＬＳコーターにおいては、塗工面に対し直交する位置に小径の発泡ポリウレタンローラーが自転可能に配置され、スリーブ状のアブレージョンマスクを有する構成体を回転させながら、塗工面に接触又は非接触下、コーティング液を小径のコーティングローラーを回転させながら構成体表面を移動し、螺旋状に塗工する方法である。
【０１０７】
ロールコーター方式としては、具体的には、特開２００２−２８５４８号公報に開示される方法などが挙げられる。
【０１０８】
リングコーター方式は、垂直に置かれたスリーブ状のネガ型マスクを有する構成体に、リング状にくり抜いた軟質のスケージゴムをセットしたリング状の塗工容器を取り付け、構成体表面に嵌め合わされたスケージゴムとの間に作られた空間にコーティング液を満たした後、塗工容器をスケージゴムと一緒に引き下ろすことで構成体表面にコーティング液を膜状に塗工する方法である。塗工した後、乾燥することによっても酸素遮断性層を形成することができる。
【０１０９】
ガムコーター方式は、シート状のアブレージョンマスクを有する構成体に、ノズル部よりコーティング液を噴霧した後、上下の軟質製のゴムロールの間隙部を通すことで、塗工量を一定量とする方法である。
【０１１０】
ガムコーター方式に用いられる市販の塗工装置には、熱風ヒーターによる乾燥機を備える装置があり、本実施形態において乾燥機を備える装置は好適に用いられる。
【０１１１】
インクジェット方式としては、被塗工媒体に対してインクやジェル状の薬液を微滴化して直接に吹き付けるインキングヘッドが、平面上にバキューム等で固定された被塗工媒体上を入力された位置データをもとに移動しながら、または固定されたインクングヘッドの下を被塗工媒体が移動しながら塗りつける方式が挙げられる。この方式では、アブレージョンマスクデータをもとにアブレージョンされたマスク部分のみを選択的に塗工することができる（図７態様）。
【０１１２】
高分子及び溶媒を含むコーティング組成物をコーティング後に乾燥させる工程においては、例えば、熱風ヒーターやブローヒーターなどから１００℃〜１４０℃の熱風をコーティングした表面に直接的に吹き付けたり、炉内が連続的に換気されている５０℃〜６０℃の乾燥炉中にコーティングされた構成体全体を５〜１５分間投入することで乾燥させることができる。
【０１１３】
酸素遮断性層の厚みは、紫外線露光後に樹脂表面から剥離除去する観点から、好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは３〜６μｍの範囲である。
【０１１４】
酸素遮断性層の厚みは、コーティング液の塗工量を調整することにより制御することができる。
【０１１５】
酸素遮断性層の酸素透過度は、乾燥膜となった状態で、好ましくは２０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下であり、より好ましくは１０ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、５ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下、１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以下である。
【０１１６】
また、更なる印刷再現性の観点から、０．１ｃｃ／ｍ2，２４ｈｒ・ａｔｍ以上であることが好ましい。
【０１１７】
酸素遮断性層の酸素透過度の測定方法については後述する。
【０１１８】
酸素遮断性層の紫外線透過率は、紫外線露光の際の感度の観点から、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。
【０１１９】
酸素遮断性層の紫外線透過率は、ＰＥＴフィルム上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものをサンプルとして、透過濃度計（ＧＲＥＴＡＧ Ｄ２００−II（商品名）／グレタグマクベス社）を用いてＵＶ３７３フィルタの透過率として測定し、同様に測定された無垢ＰＥＴの紫外線透過率との差異として算出することができる。
【０１２０】
ネガ型マスクを有する構成体に、酸素遮断性層を形成することにより、該構成体と、酸素遮断性層を備える積層体が得られる。
【０１２１】
積層体としては、特に限定されるものではないが、図面を例示して説明すると、樹脂層上に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図７に示すような態様が挙げられ、樹脂層上とネガ型マスク上の双方に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図４に示すような態様が挙げられ、ネガ型マスク上に酸素遮断性層が積層される積層体としては、図５又は図６に示すような態様が挙げられる。
【０１２２】
図５及び図６に示される態様においては、酸素遮断性層は、ネガ型マスク上に形成されるものの、樹脂層上には形成されず、ネガ型マスク５、樹脂層３、酸素遮断性層６によって画定される空間には空気が残存することになる。本実施形態の製造方法によれば、図５及び図６に示される態様においても、樹脂層上方に酸素遮断性層が形成されているため、樹脂層に対する空気中の酸素の影響を十分低減し、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを得ることができる。
＜樹脂層に酸素遮断性層側から紫外線露光する工程＞
続いて、樹脂層を紫外線露光により光硬化させるために、酸素遮断性層側から、樹脂層への紫外線露光（以下、「露光工程」という）を行う。紫外線露光する際に用いられる紫外線は、赤外線や、アルゴンレーザー光及びＹＡＧ第２次高調波レーザー光付近の可視領域の光より波長が短い電磁波である。
【０１２３】
紫外線としては、好ましくはアルゴンレーザー光の波長４８８ｎｍよりも短波長域の可視光線と紫外線領域の電磁波であり、より好ましくは３００〜４５０ｎｍの範囲に波長ピークを持つ電磁波であり、さらに好ましくは３５０〜４００ｎｍの範囲に波長ピークを持つ電磁波である。
【０１２４】
紫外線の光源としては、例えば、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、及びキセノンランプなどが挙げられる。
【０１２５】
次の現像工程における現像時の未硬化部の洗い出しに対して、露光された印刷レリーフの安定性をより向上させるために、支持体の側からも上記と同様の条件で全面露光（以下、「バック露光」ともいう）を行ってもよい。このバック露光は、ネガ型マスクを形成する工程の前の工程から、現像工程までの間のいずれの工程において行ってもよい。
＜樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程＞
樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程は、樹脂層の未露光部を現像して除去することにより印刷レリーフを形成する工程である。
【０１２６】
現像して除去する際には、樹脂層を現像液に浸漬、現像液のノズルからの噴射、現像液を用いてブラシによるブラッシングなどの方法を用いることができる。
【０１２７】
現像処理で用いられる現像液としては、樹脂層を可溶であるか、膨潤又は分散する性質を有するものであれば特に限定されないが、例えば、水性現像液又は有機溶剤の現像液が挙げられる。
【０１２８】
水性現像液としては、水、水性溶液、半水性溶液のいずれであってもよく、現像液の選択は、除去されるべき樹脂の化学的性質に依存する。
【０１２９】
半水性現像液としては、水に混和し得る有機溶媒又はアルカリを含有する水溶液である。
【０１３０】
該有機溶媒としては、例えば、ヘプチルアセテート及び３−メトキシブチルアセテート等のエステル類、石油留分、トルエン及びデカリン等の炭化水素類、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等のアミン類などが挙げられ、アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、及びアンモニアなどが挙げられる。
【０１３１】
半水性溶液には、プロパノール、ブタノール、ペンタノール等のアルコール類を混合したものを用いてもよい。
【０１３２】
有機溶媒の現像液としては、例えば、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、又はそれらのハロゲン化された炭化水素などが挙げられ、該炭化水素と適当なアルコールとの混合物を用いることもできる。
【０１３３】
樹脂層を現像して、未露光部を除去する際には、ネガ型マスクを同時に除去してもよく、現像処理を行う前に、酸素遮断性層を除去してから現像を行ってもよく、及び酸素遮断性層、アブレージョンマスク、樹脂層の未露光部を同時に除去してもよい。また、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部に対して溶解性を有する別々の現像液を用いて現像して順次除去することもできる。酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部は、一度に現像することが工程上好ましい。
【０１３４】
現像して印刷レリーフを形成した後、リンス洗浄を行い、乾燥後に後処理露光を行って、凸版印刷版とすることができる。
【０１３５】
酸素遮断性層は、現像を行う際に除去してもよく、現像を行う前に、例えば、剥離することにより除去してもよい。
【０１３６】
特に限定されるものではないが、図面を例示して説明すると、図１０に示すように、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を同時に除去してもよく、図１１に示すように、酸素遮断性層を除去してから、現像して、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を除去してもよい。
【０１３７】
なお、図１０及び図１１は、一態様として、図４に示される酸素遮断性層を有する構成体についての例示であり、その他の例示である図５〜図７に示される酸素遮断性層を有する構成体においても同様に、酸素遮断性層、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を同時に除去したり、酸素遮断性層を除去してから、ネガ型マスク、樹脂層の未露光部を除去してもよい。
【０１３８】
また、現像後に、印刷レリーフに対して後処理露光を実施してもよい。後処理露光の方法としては、高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、太陽光などの活性光線源により処理する方法が挙げられる。後露光方法としては、例えば印刷レリーフの凹凸形状を持つ表面側を大気中で露光したり、水などの液体中で露光する方法等が挙げられ、版面汚れ持続性の点から、大気中で露光する方法が好ましい。露光の際の強度は特に制限はないが、例えば１〜５０ｍＷ／ｃｍ2が挙げられる。このときの露光強度はオーク製作所製のＵＶ照度計ＭＯ−２型機でＵＶ−２５フィルターを用いた数値である。後露光においては、少なくとも波長３００ｎｍ以下の活性光線を、現像後の感光性樹脂版の版面に露光処理することが好ましい。必要に応じて、３００ｎｍ以上の活性光線を併用しても構わない。これらの波長の異なる活性光線を併用する場合は、同時に露光処理しても、別々に露光処理しても構わない。
【実施例】
【０１３９】
以下に本発明の実施形態を実施例に基づいて具体的に説明する。また、図面を参照して説明する。
＜紫外線透過率の測定＞
ＰＥＴフィルム（コスモシャインＡ４１００（商品名）／東洋紡社 １００μｍ厚 片面易接着処理）上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものをサンプルとして、透過濃度計（ＧＲＥＴＡＧ Ｄ２００−II（商品名）／グレタグマクベス社）を用いてＵＶ３７３フィルタの透過率として測定した。
【０１４０】
同様にＰＥＴフィルムの透過率を測定し、差異として算出することができる。
＜酸素透過度の測定＞
ＰＥＴフィルム（Ａ４１００（商品名）／東洋紡社 １００μｍ厚 片面易接着処理）上に３０ｇ／ｍ2でコーティング液を塗工・乾燥させたものから、ＰＥＴフィルムを剥離したものをサンプルとして、酸素透過度測定装置（ＯＸ−ＴＲＡＮ（商品名）／日立ハイテク社）を用いてＪＩＳＫ７１２６Ｂ（同圧法）により２０℃・ドライ雰囲気で測定した。
＜実施例１＞
乾燥粉末状のアラビアガム（アラビックコールＳＳ（商品名）／三栄薬品貿易社）を、精製水に対して１０質量％となるように溶解した。コーティング性を高めるため、シリコンオイル（変性オイルＫＦ３５１（商品名）／信越シリコーン社）をアラビアガムが溶解した精製水に対して０．１質量％添加し、酸素遮断性層形成用のコーティング液とした。
【０１４１】
図１に示すような、厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＷＰ ＤＥＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の支持体４側より、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した（バック露光）。図２に示すように、赤外線感受性層２を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体１に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ Ｓｐａｒｋ４２６０／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画した。図３に示すように、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスク５を形成した。
【０１４２】
アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティング液を塗工した。塗工面に１２０℃の熱風を吹きかけながら３０秒間乾燥させた。図４に示すように、アブレージョンマスク５及び樹脂層３の表面に酸素遮断性層６を形成した。
【０１４３】
酸素遮断性層の紫外線透過率は９２％、酸素透過度は５ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍであった。
【０１４４】
図８に示すように、酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１４５】
次いで、図１０に示すように、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層６、アブレージョンマスク５、及び未露光部８をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５分間乾燥した。
【０１４６】
構成体の表面の粘着性を除去するために２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例２＞
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセノールＧＬ−０５（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度８８ｍｏｌ％）を、精製水に対して１０質量％になるように溶解した。コーティング性を高めるため、湿潤剤（ＳＮウエット１２６（商品名）／サンノプコ社）をポリビニルアルコール樹脂が溶解した精製水に対して０．１質量％添加し、酸素遮断性層の形成用のコーティング液とした。
【０１４７】
実施例１と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１４８】
アブレージョンマスクを有する構成体を、コーティング液にディッピングし、液面に対して垂直に１００ｍｍ／分の速度で引き上げた。構成体の支持体（ＰＥＴ）側についた液をウエスで拭き取った後、構成体の表面に１２０度の熱風を吹きかけながら３０秒間乾燥させ、アブレージョンマスク表面に酸素遮断性層を形成した。
【０１４９】
酸素遮断性層の紫外線透過率は９２％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１５０】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１５１】
次いで、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層、アブレージョンマスク、未露光部をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５時間乾燥した。
【０１５２】
構成体の表面の粘着性を除去するために、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例３＞
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセランＬ−０３０１（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度３６ｍｏｌ％）を、精製水に対して３０質量％になるように溶解し、酸素遮断性層の形成用のコーティングジェルとした。
【０１５３】
実施例１と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１５４】
アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティングジェルを塗工し、図４又は図６に示すように、アブレージョンマスク５及び樹脂層３の表面に酸素遮断性層６を形成した。
酸素遮断性層の紫外線透過率は７７％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１５５】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１５６】
次いで、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５時間乾燥した。
【０１５７】
表面の粘着性を除去するために、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例４＞
厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＦＰ ＤＳＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の支持体４側より、実施例１と同様に支持体側より紫外線露光したのちネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１５８】
アブレージョンマスクを有する構成体の四辺を０．３ｍｍ厚のアルミニウム板上に両面テープで固定し、ＰＳ版のガムコーター部及び乾燥部を備える自動現像機（ＫＰＷ−８５０ＧＴ（商品名）／光陽化学社）を用いて、実施例１と同様のコーティング液を塗工し、乾燥することにより酸素遮断性層を形成した。
【０１５９】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）で照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１６０】
次いで、酸素遮断性層の表面に５０度の温水を流しかけ、柔らかなスポンジで表面を擦りながら、酸素遮断性層を溶解除去させた。
【０１６１】
構成体の表面についた水滴を拭き取り、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１６２】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例５＞
実施例２と同様にして、支持体面よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１６３】
アブレージョンマスクを有する構成体の四辺を０．３ｍｍ厚のアルミニウム板上に四辺を両面テープで固定し、ガムコーター部及び乾燥部を備える自動現像機（ＫＰＷ−８５０ＧＴ（商品名）／光陽化学社）を用いて、実施例２と同様のコーティング液を塗工し、乾燥することにより酸素遮断性層を形成した。
【０１６４】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）で照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪの紫外線を照射した。
【０１６５】
次いで、図１２に示すように、酸素遮断性層６の端部をナイフの先端部で一部剥離させ、剥離部を指で摘み上げ、ゆっくりと表面から剥離させた。
【０１６６】
その後、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１６７】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例６＞
実施例３と同様にして、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、ネガ型マスクを有する構成体を作成した。
【０１６８】
ポリビニルアルコール樹脂（ゴーセランＬ−０３０１（商品名）／日本合成化学工業社、ケン化度３６ｍｏｌ％）を、精製水に対して３０質量％になるように溶解し、酸素遮断性層の形成用のコーティングジェルとした。
【０１６９】
実施例３と同様にして、アブレージョンマスクを有する構成体の表面に、バーコーターを用いて３０ｇ／ｍ2の割合でコーティングジェルを塗工し、酸素遮断性層を形成した。
酸素遮断性層の紫外線透過率は７７％、酸素透過度は１ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ未満であった。
【０１７０】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１７１】
次いで、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、酸素遮断性層、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１７２】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例７＞
コアスリーブとしての内径２１３．３８４ｍｍ、厚み０．９０ｍｍ、面長３００ｍｍのプラスチックスリーブ（ベーシックスリーブ（商品名）／ＰＯＬＹＷＥＳＴ社）を、ラッピング装置（ＡＲＣ−１１０Ｌ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）に装着した。スリーブ表面にクッション両面粘着テープ（３Ｍ−１０２０（商品名）／住友スリーエム社）で、実施例３と同様に支持体面からバック露光された赤外線感受性層を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体（ＡＦＰ ＤＳＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を巻きつけた。スリーブ状のフレキソＣＴＰ印刷版構成体に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ ｃｌａｓｓｉｃ／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画し、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスクを形成させた。
【０１７３】
軟質クロロプレン（厚さ１ｍｍ、硬度４５度）をスケージゴムとする垂直式リングコーター（高木彫刻社製）に、アブレージョンマスクを有するスリーブ状の構成体及び実施例２と同様のコーティング液をセットした。１００ｍｍ／分の速度でコーティング液の入ったコーター部を下降させることで、構成体の表面にコーティング液を均一に塗工した。構成体を５０度のオーブンで１５分間乾燥させ、酸素遮断性層を形成した。
【０１７４】
酸素遮断性層を備える積層体に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの円筒露光装置（ＭＡＩＮ ＥＸＰＯＳＵＲＥ／ＡＶｆｌｅｘｏｌｏｇｉｃ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１７５】
次いで、酸素遮断性層の端部をナイフの先端部で一部剥離させ、剥離部を指で摘み上げ、ゆっくりと表面から剥離させた。
【０１７６】
その後、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＳ−１３１６ＩＰ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、６０℃１時間乾燥した。
【０１７７】
構成体の表面の粘着性を除去するため、２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間、後処理露光を行い、スリーブ状フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜実施例８＞
実施例１と同様にして、支持体側よりバック露光したのち、ネガ型のアブレージョンマスクを形成して、アブレージョンマスクを有する構成体を作成した。
【０１７８】
アブレージョンマスクを有する構成体のアブレージョン面側に、酸素遮断性層として、厚さ０．１ｍｍのＰＥＴフィルム(コスモシャインＡ４１００（商品名）／東洋紡績社、１００μｍ厚 片面易接着処理、紫外線透過率８２％、酸素透過度７２ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ)をアブレージョンマスクが形成された構成体表面全体にラミネートした。
【０１７９】
酸素遮断性層が積層された構成体に対してアブレージョンマスクを通して、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【０１８０】
次いで、ラミネートしたＰＥＴフィルムを表面から剥がし取り、芳香族炭化水素系溶剤（ＳＯＬＶＩＴ（商品名）／エクソン化学社）で、洗浄装置（ＡＦＰ−１３２１（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク及び未露光部をブラシにより現像し、構成体を乾燥機（ＡＦＰ−１２１６Ｄ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、６０℃１時間乾燥した。
【０１８１】
構成体の表面の粘着性を除去するため、実施例１と同様にして後処理露光を行い、フレキソＣＴＰ印刷版を得た。
＜比較例１＞
酸素遮断性層を形成せずにアブレージョンマスク側からの紫外線照射を行った以外は、実施例１と同様の操作を行って、印刷版を得た。
【０１８２】
比較例１における印刷版の製造方法について、図面を例示しつつ説明する。
【０１８３】
図２に示すように、赤外線感受性層２を備える厚み１．１４ｍｍのフレキソＣＴＰ印刷版構成体１（ＡＷＰ ＤＥＦ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）に、ＹＡＧレーザーを光源とするレーザー照射装置（ＣＤＩ Ｓｐａｒｋ４２６０／ＥＳＫＯ ｇｒａｐｈｉｃｓ社）を用いて、線幅１０μｍ、ピッチ２５０μｍの極小格子線データを描画した。図３に示すように、赤外線感受性層にネガ型のアブレージョンマスク５を形成した。
【０１８４】
図１２に示すように、アブレージョンマスクを有する構成体１に、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプの露光装置（ＡＦＰ−１２１６Ｅ（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、照射面の紫外線強度を１０ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として、８０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。図１３に示すように、樹脂層を紫外線露光することにより、露光部７及び未露光部８を有する構成体を形成した。
【０１８５】
次いで、図１４に示すように、アルカリ洗浄剤（ＡＰＲ洗浄剤 Ｗ−３００（商品名）／旭化成イーマテリアルズ社）の６質量％水溶液で、洗浄装置（ＡＷＰ−２２０Ｗ／旭化成イーマテリアルズ社）を用いて、アブレージョンマスク５、及び未露光部８をブラシにより現像し、構成体を５０℃１５分間乾燥した。
【０１８６】
構成体の表面の粘着性を除去するために２５４ｎｍの波長を有する殺菌線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、品番ＴＵＶ７５Ｗ）を用いて、照射面の紫外線強度２ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ２５）として２０分間、３７０ｎｍに主波長を有する紫外線ランプ（ＰＨＩＬＩＰＳ社製、８０Ｗ１０Ｒ）を用いて、照射面の紫外線強度４ｍＷ／ｃｍ2（ＵＶ３５）として５分間、後処理露光を行い、印刷版を得た。
＜比較例２＞
酸素遮断性層を形成せずに紫外線照射を行った以外は、実施例３と同様の操作を行って、印刷版を得た。
【０１８７】
実施例１〜８のフレキＣＴＰ印刷版と比較例１及び２の印刷版を用いて、印刷再現性及び版面再現性を評価した。
＜印刷再現性＞
ドクターチャンバー付きの８００線／インチのアニロックスロールを装備したフレキソ印刷機で、溶剤インクを用いてポリエチレンフィルムへの印刷を行った。
【０１８８】
印刷品質：ネガ型マスクの線幅と極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が同等であれば、「良好」、ネガ型マスクの線幅より極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が大きければ、「太り」、ネガ型マスクの線幅より極小格子線の交点部分、独立部分の線幅が小さければ「不均一」とした。
【０１８９】
線幅：潰れていない最小ライン幅を示す。１ｕｍ以下の場合は「測定不能」とした。
＜版面再現性＞
顕微鏡等を用いて得られた版面の再現性を評価した。
【０１９０】
印刷レリーフの形状：線幅１０μｍの部位をスライスし、その断面形状を１００倍の光学顕微鏡で拡大観察し、その形状角（両ショルダー接線の交点角）が９０度未満の場合を鋭角、９０度以上の場合を鈍角とした。
【０１９１】
表面：電子顕微鏡にて観察し、線幅１０μｍの部位と格子交点部位が同一水平面上に観察される場合を「平坦」、それ以外を「凸凹」とした。
【０１９２】
実施例１〜８並びに比較例１及び２について、表１、表２及び図１５にまとめた。また、
実施例１〜７の凸版印刷版において、格子線の印刷再現は良好であり、その版面は表面頂部まで十分に硬化しており、平らな形状であることが分かった。また、酸素遮断性層を乾燥させた高分子膜としたものについては、酸素遮断性層での紫外線の散乱が少なく、そのレリーフ形状はよりシャープであった。
【０１９３】
実施例８の凸版印刷版において、格子線の幅が全体的に太く印刷された。また、その版面は、実施例１に比較してＰＥＴ層での紫外線の散乱により、そのレリーフ形状が鈍角形状になっていたものの、表面頂部までが十分に硬化しており、平坦な表面であった。
【０１９４】
一方、比較例１及び２の印刷版において、格子線の交点だけが太く印刷され、印刷物は全体的に不均一に見えた。また、その版面は表面頂部までが十分に硬化しておらず、凸凹形状であることが分かった。
【０１９５】
【表１】
【０１９６】
【表２】
【産業上の利用可能性】
【０１９７】
本発明の製造方法により得られるフレキソ印刷版は、印刷再現性及び版面再現性の高い印刷レリーフを有するため、印刷品質に優れる。したがって、本発明は、例えば、電子基板プリントのマスク形成、金券や証券等の偽造防止のためのマイクロパターン印刷など、微細な用途で好適に利用できる。
【符号の説明】
【０１９８】
１ 凸版印刷版構成体
２ 赤外線感受性層
３ 樹脂層
４ 支持体
５ ネガ型マスク
６ 酸素遮断性層
７ 露光部
８ 未露光部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
【請求項２】
前記ネガ型マスクを形成する工程が、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、である、請求項１記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項３】
前記酸素遮断性層が高分子膜である、請求項１又は２に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項４】
前記酸素遮断性層の酸素透過度が２０ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項５】
工程（４）の前に、
（５）前記酸素遮断性層を除去する工程をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項６】
工程（５）において、前記酸素遮断性層を剥離することにより除去する、請求項５に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項７】
工程（４）において、前記樹脂層の現像と同時に前記酸素遮断性層を除去する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項８】
（６）凸版印刷版構成体をコアスリーブに巻き付ける工程をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項９】
ネガ型マスクを有する構成体と、
前記構成体に積層される酸素遮断性層と、を備え、
前記ネガ型マスクが、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して形成されるか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成されたものである積層体。
【請求項１０】
前記樹脂層に前記酸素遮断性層が積層される、請求項９に記載の積層体。
【請求項１１】
前記ネガ型マスクに前記酸素遮断性層が積層される、請求項９又は１０に記載の積層体。
【請求項１２】
前記酸素遮断性層が高分子膜である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１３】
前記酸素遮断性層が水溶性高分子により形成される、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１】
（１）紫外線露光製版が可能な樹脂層にネガ型マスクを形成する工程、
（２）前記ネガ型マスクを有する構成体に酸素遮断性層を形成する工程、
（３）前記樹脂層に前記酸素遮断性層側から紫外線露光する工程、及び、
（４）前記樹脂層を現像して印刷レリーフを形成する工程を含む、凸版印刷版の製造方法。
【請求項２】
前記ネガ型マスクを形成する工程が、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して、ネガ型マスクとなるアブレージョンマスクを形成するか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成して、ネガ型マスクを形成する工程、である、請求項１記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項３】
前記酸素遮断性層が高分子膜である、請求項１又は２に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項４】
前記酸素遮断性層の酸素透過度が２０ｃｃ／ｍ2・２４ｈｒ・ａｔｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項５】
工程（４）の前に、
（５）前記酸素遮断性層を除去する工程をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項６】
工程（５）において、前記酸素遮断性層を剥離することにより除去する、請求項５に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項７】
工程（４）において、前記樹脂層の現像と同時に前記酸素遮断性層を除去する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項８】
（６）凸版印刷版構成体をコアスリーブに巻き付ける工程をさらに含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の凸版印刷版の製造方法。
【請求項９】
ネガ型マスクを有する構成体と、
前記構成体に積層される酸素遮断性層と、を備え、
前記ネガ型マスクが、紫外線露光製版が可能な樹脂層に赤外線感受性層が積層された凸版印刷版構成体の赤外線感受性層に赤外線露光して形成されるか、又は、紫外線露光製版が可能な樹脂層に紫外線遮断性のインクを該樹脂層表面に積層して形成されたものである積層体。
【請求項１０】
前記樹脂層に前記酸素遮断性層が積層される、請求項９に記載の積層体。
【請求項１１】
前記ネガ型マスクに前記酸素遮断性層が積層される、請求項９又は１０に記載の積層体。
【請求項１２】
前記酸素遮断性層が高分子膜である、請求項９〜１１のいずれか一項に記載の積層体。
【請求項１３】
前記酸素遮断性層が水溶性高分子により形成される、請求項９〜１２のいずれか一項に記載の積層体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−１６３６８５（Ｐ２０１２−１６３６８５Ａ）
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２２８１４（Ｐ２０１１−２２８１４）
【出願日】平成２３年２月４日（２０１１．２．４）
【出願人】（３０９００２３２９）旭化成イーマテリアルズ株式会社 (771)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年２月４日（２０１１．２．４）
【出願人】（３０９００２３２９）旭化成イーマテリアルズ株式会社 (771)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]