【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なネガティブパターン形成用レジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】スルホンアミド基が酸不安定基で置換された式（１）の繰り返し単位ａ１及び／又はａ２を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、露光し、有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
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【課題】有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高いパターン形成方法を提供する。
【解決手段】単糖類のヒドロキシ基の１つがメタクリルエステルとして結合し、残りのヒドロキシ基が酸不安定基で置換された（メタ）アクリレートの繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤を含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位とオキシラン環又はオキセタン環を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によるレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する特徴を有する。このフォトレジスト膜を用いて格子状パターンのマスクを使って露光し、有機溶剤現像を行うことによって、微細なホールパターンを寸法制御よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板に複数のホールパターンを、極微細（例えば８０ｎｍ以下）ピッチで、良好かつ容易に形成できるパターン形成方法、並びに、これを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスの提供。
【解決手段】基板に複数のホールパターンを形成するパターン形成方法であって、下記工程（１）〜（６）をこの順に有するパターン形成工程を、複数回含む。（１）基板上に化学増幅型レジスト組成物のレジスト膜を形成する工程；（２）レジスト膜を露光して、第１のラインアンドスペースの潜像を形成する工程；（３）レジスト膜を露光して、第２のラインアンドスペースの潜像を、第１の露光潜像におけるライン方向と、交差するよう形成する工程；（４）第１及び第２の潜像が形成されたレジスト膜を、有機溶剤現像を行い、ホールパターン群を形成する工程；（５）基板にエッチング処理を行い、ホールパターン群を形成する工程；（６）レジスト膜を除去する工程。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のレジストパターンを高精度に形成することができるレジストパターンの形成方法、立体構造の製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】レジストパターンの形成方法は、支持部１０上に、多層レジスト２０を形成する工程と、多層レジスト２０に第１の波長の第１の光による露光を施す工程と、多層レジスト２０に第１の波長と異なる第２の波長の第２の光による露光を施す工程と、露光が施された多層レジスト２０に現像処理を施すことによって、レジストパターンを形成する工程とを有し、複数のレジスト層は、第１の光による露光によって第１の現像可溶領域２３が形成される第１のレジスト層２１と、第２の光による露光によって第２の現像可溶領域２４が形成される第２のレジスト層２２とを含み、レジストパターンを形成する工程は、多層レジスト２０から第１及び第２の現像可溶領域２１，２２を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】有機溶剤（Ｘ）で現像を行うレジストパターン形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物であって、重合体（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）とを含有し、上記重合体（Ａ）は、側鎖にラクトン構造もしくはカーボネート構造を有する特定のアクリル系繰り返し単位を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、１回のソルダーレジスト塗工のみで段差部を形成することが可能で、段差部が低い（浅い）場合であっても、段差部を形成できるソルダーレジストの形成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】回路基板の表面にソルダーレジストの膜を形成する工程、少なくとも段差部に相当する領域を露光する工程、アルカリ水溶液処理によって非露光部のソルダーレジストを薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とするソルダーレジストの形成方法、または、回路基板の表面にソルダーレジストの膜を形成する工程、段差部に相当する領域および最終的にソルダーレジストが除去される領域以外の部分を露光する工程、アルカリ水溶液処理によって非露光部のソルダーレジストを薄膜化する工程をこの順に含むことを特徴とするソルダーレジストの形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬに必要とされる高精細な印刷パターンを形成し、印刷用凸版自体に適度な応力を持たせ、印刷特性に優れた印刷用凸版およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上５に光硬化性の感光性樹脂を形成する。次いで、感光性樹脂を全面光硬化させることにより樹脂層２（第１の樹脂層）を形成する。次いで、樹脂層２（第１の樹脂層）の上に感光性樹脂を積層させることにより樹脂層１（第２の樹脂層）を形成する。次いで、樹脂層１（第２の樹脂層）を露光して現像することで凸パターン１’を形成することによって印刷用凸版を得る。 （もっと読む）

【課題】製造効率の向上、ひいてはコスト低減を図ることのできるフォトレジストのパターン形成方法及び同方法を用いたプローブの製造方法、並びに電子デバイス検査用プローブを提供する。
【解決手段】基板上に第１のレジスト材料を積層する下部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を第１のパターンで露光する第１の露光工程と、第１の露光工程に引き続き、前記下部レジスト層上に、第２のレジスト材料を積層する上部レジスト層積層工程と、前記下部レジスト層を露光するために用いた前記第１のパターンと少なくとも一部が重合する第２のパターンで前記上部レジスト層を露光する第２の露光工程と、不要なレジストを除去して開口部が形成されたレジスト層を形成する現像工程と、を有するフォトレジストのパターン形成方法とした。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】パターンレシオに依存することなく寸法均一性に優れたレジストパターンを形成できる方法を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体基板上に所望のレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において：前記半導体基板上にレジスト層を形成し；前記所望のレジストパターンの周辺に余剰部分を形成するように、前記レジスト層が形成された半導体基板に対して第１の露光を行い；前記第１の露光工程の後、第１の現像処理を行い；前記第１の現像処理の後、第１の洗浄処理を行い、前記余剰部分を有する第１のレジストパターンを形成し；その後、前記第１のレジストパターンが形成された前記半導体基板に対して、前記所望のレジストパターンに対応する第２の露光を行い；前記第２の露光工程の後、第２の現像処理を行い；前記第２の現像処理の後、第２の洗浄処理を行い、前記余剰部分の除去された前記所望のレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する方法、該方法に用いられる樹脂組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液を提供する。
【解決手段】（ア）基板上に、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、ポジ型レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程、及び（エ）ネガ型現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法、該方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該方法に用いられる現像液及び該方法に用いられるネガ現像用リンス液。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた屈折率変調能を有し、体積収縮が極めて小さく、回折効率の高い体積型ホログラム記録用感光性組成物を提供する。
【解決手段】本発明の体積型ホログラム記録用感光性組成物の製造方法は、光カチオン重合性化合物（Ａ）、バインダーポリマー（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び増感色素（Ｄ）を配合して体積型ホログラム記録用感光性組成物を調製する方法であって、前記光カチオン重合性化合物（Ａ）として、予め沸点以下の温度で加熱処理を施したものを用いることを特徴とする。前記光カチオン重合性化合物（Ａ）としては、分子内にエポキシ基、ビニルエーテル基及びオキセタニル基からなる群より選択された少なくとも１種のカチオン重合性基を１又は２以上有する化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いた二重露光により微細なコンタクトホールパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体１１上に、ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜１２を形成し、前記レジスト膜に対し、フォトマスクを介した第一の露光を行い、第一のラインアンドスペースパターンの潜像１２’を形成した後、フォトマスクを介した第二の露光を行い、前記第一のラインアンドスペースパターンの潜像と交差するように、第二のラインアンドスペースパターンの潜像１２’’を形成し、前記レジスト膜を現像して前記レジスト膜にホールパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、（Ａ）基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、（Ｂ）無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、（Ｃ）エッチング処理により前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物に対応する繰り返し単位を含有し、活性光線又は放射線の照射により酸基を生成する樹脂（Ａ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化１】
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