【課題】集積回路のような電子素子の製造に用いることのできる調節可能なレジストの光学特性を変化させる方法及びシステムに関する。
【解決手段】光計測を用いた測定の精度を改善する方法及びシステムを供する。さらに本発明は調節可能なレジスト層を用いる方法及びシステムを供する。その調節可能なレジスト層は、露光前に第１組の光学特性、及び露光後に第２組の光学特性を供する。 （もっと読む）

【課題】レジスト間あるいはレジストとリフトオフ材料間が混ざり合って寸法精度やパターン精度が劣化することを防止すると共に、リフトオフ時に容易に有機溶剤に溶解し、安定した製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１０上に非水溶性フォトレジスト材料１１を塗布形成する工程と、上記非水溶性フォトレジスト材料１１の上面に中間層として水溶性フッ化物含有溶液２０を塗布形成する工程と、上記中間層２０上に非水溶性フォトレジスト材料１２を塗布形成する工程とを有する製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配も無い方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理する工程において、現像液供給ノズル２８から疎水化剤が混合された現像液を基板表面のレジスト膜上へ供給し、現像処理後にリンス処理しスピン乾燥する。 （もっと読む）

【課題】パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ現像液処理を行うことなく、超臨界現像プロセスにより、現像処理を実施する超臨界現像プロセス用のレジスト組成物であって、酸の存在下においては前記超臨界現像剤により除去されることのない基材樹脂（Ａ）と、光及び／又は電磁波に感応して酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】配線パターンの印刷において、均一な線幅のパターンを形成することができ、配線パターン再現性が良好な水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層あるいは感光層と、シリコーンゴム層とを有する配線パターン印刷用水なし平版印刷版原版であって、該シリコーンゴム層の初期弾性率が０．２ＭＰａ以上０．８ＭＰａ以下であることを特徴とする配線パターン印刷用水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ＩＲ吸収性金属層と金属製支持体に挟まれた高品位の感光性樹脂積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも支持体、感光性樹脂層、非ＩＲ感受性高分子樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であり、かつ非ＩＲ感受性高分子樹脂層の厚みが０．１〜２．０μｍ未満であることを特徴とする水現像可能な感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性が高いミクロ相分離構造のパターンを形成するための感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 （Ａ）アルコキシシリル基を含有する単量体を繰り返し単位としてなるセグメントを含むブロックコポリマーと、（Ｂ）感光性分解剤とを含有し、前記ブロックポリマーの分子量分布指数（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８以下である感光性組成物を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】 無機物と有機物に対する接着力に優れた感光性組成物を提供し、前記感光性組成物を含む隔壁形成用感光性ペースト組成物を提供する。また、前記感光性組成物を利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関し、より詳しくは２つ以上のエチレン性二重結合を有する架橋性単量体と、光重合開始剤と、有機溶媒を含む感光性組成物、これを含む隔壁形成用感光性ペースト組成物、及びこれを利用したプラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】イオン結合により感光基をポリイミド前駆体に導入するものは、その製造が容易で膜特性にも優れるといった特性を有するが、解像度（溶解度差）が十分でないためにＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバイスの製造においては十分に実用化されておらず、その解像度の向上が求められている。
【解決手段】（Ａ）下記一般式［１］で示されるポリイミド前駆体
【化１】


（但し、Ｒ^１は四価の芳香族基、または複数の芳香族基が単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−で結合された四価の有機基であり、Ｒ^２は二価の芳香族基または複数の芳香族基が単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＨ_２−で結合された二価の有機基であり、ｎは１以上の整数である。）、
（Ｂ）前記（Ａ）成分の一般式［１］で示されるポリイミド前駆体にイオン結合により導入される光架橋する感光化合物、
（Ｃ）光反応開始剤
（Ｄ）解像度の向上を目的とする反応希釈剤、および、
（Ｅ）溶剤
を含有してなることを特徴とする感光性重合体組成物。 （もっと読む）

平版印刷版前駆体として有用な、多層、熱現像性要素を開示する。当該画像形成性要素は、基体と、該基体上の下引き層と、該下引き層上の上層とを含んで成る。上層は、アルキレングリコール側鎖、ポリアルキレングリコール側鎖、3つのアルコキシ及び／又はフェニキシ基で置換されたシリル基を有する側鎖、及び／又はトリアルキルアンモニウム側鎖を有する側鎖を含むコポリマーを有する。当該画像形成性要素は印刷室薬剤に対する、優れた耐性を有する。 （もっと読む）

新聞のフレキソ印刷版を製造するために、デジタル画像化によるフレキソ印刷版のインライン製造のための装置が使用される。
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【課題】作製が容易で、現像処理が不要であり、湿し水を使わなくても地汚れの少ない印刷用版材、刷版、および刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】少なくとも疎水性基を有するポリイミド前駆体を含有するポリイミド前駆体樹脂組成物を基板上に塗布して印刷用版材を形成する。版材のポリイミド前駆体層を加熱してポリイミド化する工程と、該ポリイミド化した版材表面に画像情報に応じてエネルギーを付与する工程とを有する刷版の作製方法によって表面の濡れ性を画像情報に応じて選択的に制御した刷版を作製する。 （もっと読む）

【課題】高アスペクトなパターンの形成が可能となる近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法を提供する。
【解決手段】近接場露光用マスクを基板上に形成したレジスト層に近接させ、該マスクの面側に光を照射した際に該マスクの微小開口から滲み出る近接場光を用いて露光し、前記レジスト層にマスクパターンを転写する近接場露光によるレジストパターンの形成方法において、前記基板上に、近接場光のしみ出し深さ以上の厚さのネガ型レジスト層を形成する工程と、前記ネガ型レジスト層を、前記近接場光を用いて露光する露光工程と、前記露光されたネガ型レジスト層を現像液で現像し、該ネガ型レジスト層の厚さよりも浅い領域にパターンを形成する現像工程と、を少なくとも有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】各種印刷液に対する耐性を持ち、優れた印刷適性を有する印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた感光性印刷原版積層体および印刷版を提供する。
【解決手段】少なくとも、バインダー樹脂、光重合性モノマー、および、光重合開始剤を含有する印刷版製造用感光性組成物において、バインダー樹脂として、エラストマー樹脂とテルペン樹脂とを併用することによって、各種印刷液、特に、ＵＶ硬化性インキ、油性インキ等のインキ成分や、配向膜液等の印刷液に対して、優れた耐性を有する感光性組成物を得る。 （もっと読む）

【課題】本来のＣＴＰ版の特徴である鮮明な画像を有し、破れ（破損）、キズおよび現像液の汚染等の問題点もなく、かつ、印刷ムラをも解消した感光性樹脂積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層、非ＩＲ感受性高分子樹脂層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体であって、前記非ＩＲ感受性高分子樹脂層の２５％引っ張り弾性率が１０〜６０kgf/mm²であることを特徴とする感光性樹脂積層体。 （もっと読む）