少なくとも、（ａ）親水性樹脂、（ｂ）疎水性樹脂、（ｃ）光重合性不飽和化合物及び（ｄ）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物の固体版を用いて、少なくとも、活性光線による露光工程、現像工程、及び後露光工程により、凸版印刷用水現像性印刷版を製造する方法であって、該後露光工程を低酸素濃度雰囲気下の条件で行う、上記方法。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、低吸水性、電気絶縁性、透明性、耐溶剤性、さらに段差埋め込み性に優れた平坦化膜及びそれを用いた半導体装置、表示装置を提供する。
【解決手段】 酸性基を側鎖に有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）、１，２−ナフトキノンジアジド構造を有する感光材（Ｂ）、軟化点が１２０℃以下であり、かつ１３０℃以上で（Ａ）中の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物（Ｃ）を含有する樹脂組成物を段差を有する基板上に塗布して樹脂組成物層を形成し、該樹脂組成物層に活性エネルギー線を照射して現像液と接触させてパターンを形成した後、該組成物を２８０℃以下で熱硬化することにより得られることを特徴とする平坦化樹脂層。 （もっと読む）

【課題】 短時間でプリント配線板を製造できるプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ソルダーレジスト層２５０の露光し（図１２（Ａ）、現像して、露光されていない開口形成部に開口２５１を形成する（図１２（Ｂ））。その後、ソルダーレジスト層２５０に電子線を照射して完全に硬化させる（図１２（Ｃ））。電子線によりソルダーレジスト層２５０を硬化させるため、露光による硬化時間を短縮することができ、また、ソルダーレジスト層２５０のヤング率、Ｔｇ点を改善することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造業用に適したフレキソグラフ印刷プレート用等に改良されたスリップフィルム組成物等を提供する。
【解決手段】本発明の改良されたスリップフィルム組成物は、１つ又はそれ以上の溶剤、１つ又はそれ以上の重合体バインダー、層状シリケート化合物、そして選択的に界面活性剤から構成される。そして、スリップフィルム組成物中の充填剤として層状シリケート化合物を使用することによって、改良された剥離性と、改良された画像形成性を有しているスリップフィルム化合物である。したがって、本発明のスリップフィルムは、溶剤現像又は熱的現像されてなるフレキソグラフ印刷プレートに使うことができる。 （もっと読む）

【課題】 短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。単色光は±１５％以内の照度分布で照射するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 耐エッチング性および耐熱性に優れた段状のレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】（Ａ）基体１０上にホトレジスト被膜を形成する工程、および（Ｂ）選択的露光を含むホトリソグラフィ工程を経て、前記ホトレジスト被膜を、肉厚部ｒ１と肉薄部ｒ２を有する段状レジストパターンＲの形状にパターニングする工程を有するレジストパターンの形成方法であって、（ａ）ゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）が８０００を超えるアルカリ可溶性ノボラック樹脂、（ｂ）ナフトキノンジアジド基含有化合物、および（ｄ）有機溶剤を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物を用いて前記ホトレジスト被膜を形成することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】パターン加工工程においては支持体と充分密着した感光性セラミックスシートを、剥離工程においては基板との密着性を低くして容易に剥離することができる感光性セラミックスシートの加工方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも支持体と、感光性有機成分と無機粉末とを含有する感光性セラミックスシートを積層した支持体付シートに、パターンを形成するパターン加工工程と、該支持体から該感光性セラミックスシートを剥離する剥離工程とを有する感光性セラミックスシートの加工方法であって、該剥離工程で、活性光線照射もしくは加熱処理することを特徴とする感光性セラミックスシートの加工方法。 （もっと読む）

【課題】フレキソ印刷要素を熱現像して表面にレリーフ像を露呈する改良された装置、及びフレキソ印刷要素を露光及び現像する該装置の使用方法。
【解決手段】該装置は、通常、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性ポリマーを軟化又は溶融する手段、フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面の軟化又は溶融した未架橋感光性ポリマーを除去するためにフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能、及びフレキソ印刷要素の画像形成表面の少なくとも一部上を移動可能な少なくとも１つのロール、及び、少なくとも１つのロールとフレキソ印刷要素の露光された画像形成表面との接触を維持する手段を含む。フレキソ印刷要素の露光された画像形成表面上の未架橋感光性樹を軟化又は溶融する手段は、フレキソ印刷要素の画像形成表面に隣接配置される加熱器、及び／又はフレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能な少なくとも１つのロールの加熱を含む。装置は、また、熱現像前にフレキソ印刷要素の画像形成表面を架橋及び硬化する露光装置を含む。 （もっと読む）

(a)任意選択的に前処理された基板と、(b)該基板上に被着された、(i)ラジカル重合されやすい少なくとも1つのエチレン系不飽和型基をそれぞれが含む、1つ又は2つ以上のタイプのモノマー及び/又はオリゴマー及び/又はポリマー；(ii)波長範囲300〜1,200 nmから選択された輻射線を吸収する、ラジカル重合のための少なくとも1つの輻射線感受性開始剤又は開始剤系；及び(iii)それぞれ少なくとも1つのエチレン系不飽和型基を有する少なくとも1つの置換基を含む少なくとも1つのシルセスキオキサンを含む組成物から成る輻射線感受性塗膜とを含んで成る輻射線感受性要素。 （もっと読む）

【課題】 ドライフィルム等の画像形成材料をラミネート等の方法により被加工基板に密
着させて得たレジスト画像形成材を用いる画像形成方法であって、微細なパターンでも脱脂処理の処理剤等の薬品に対する耐薬品性が良好で被加工基板に対して実用上充分な密着性を持ち、更にレジストの剥離性にも優れたレジスト画像を得るための方法を提供する。
【解決手段】 光重合性組成物の層を有するレジスト画像形成材料の光重合性組成物面を、被加工基板上に接する様に密着させて得たレジスト画像形成材を、露光の後、現像してレジスト画像を形成させる方法において、現像して得られたレジスト画像のレジスト画像形成面を全面露光することを特徴とするレジスト画像形成方法。 （もっと読む）

【課題】 常に一定の紫外線強度をもって処理基板を処理できる熱安定化装置を提供する。
【解決手段】 処理基板Ｗに照射する紫外線強度については予め決めておき、この値とセンサ１６で検出した紫外線強度とが異なる場合には、昇降部材１５によってランプハウジング１２を昇降動させ、所定の強度の紫外線を処理基板Ｗに照射する。このようにして、処理基板Ｗの表面に形成したレジスト膜に、減圧下で、加熱と紫外線照射を施すことで、熱安定化処理が終了し、この後は通路６を介して処理空間Ｓ内に不活性ガスを充填し、処理基板Ｗを払い出し、この後例えばエッチングにてパターンを形成するとともにパターン間にめっき液を供給する。 （もっと読む）

【課題】 各種印刷液に対する耐性を持ち、優れた印刷適性を有する印刷版製造用感光性組成物、並びに、これを用いた印刷用感光性印刷原版積層体および印刷版を提供する。
【解決手段】 少なくとも、バインダー樹脂、光重合性モノマー、および、光重合開始剤を含有する印刷版製造用感光性組成物において、バインダー樹脂として、エラストマー樹脂と、テルペン樹脂とを併用することによって、各種印刷液、特に、配向膜液等の印刷液に対して、優れた耐性を有する感光性組成物を得る。 （もっと読む）

本発明は、露光工程、現像工程および後露光工程を含む凸版印刷用水現像感光性樹脂版の製造方法であって、露光工程以降に変性シリコーン化合物および／またはフッ素化合物を含有する液と感光性樹脂版を接触させることを含む、上記方法を提供する。 （もっと読む）

画像様に露光したフレキソ印刷要素が加熱によって現像され、そしてレリーフ形成層の軟化した、未重合部分を除去する方法によって熱現像によって、フレキソ印刷版が製造されるが、使用したフレキソ印刷要素は、可塑剤との混合物としてスチレン／ブタジエンブロックコポリマーを含み、そして１,２−結合の状態で存在するブタジエンの割合は、ブロックコポリマーに対して１５〜５０質量％である。 （もっと読む）

【課題】 レーザーダイレクト製版において、フレアー等を生じず、鮮明な画像を得ることができ、かつ高い耐刷性を有する光重合性印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と、（ｂ）光重合開始剤系と、（ｃ）光重合開始基を有するポリマー、及び（ｄ）バインダーとを、含有する感光層を有する光重合性平版印刷版をレーザー露光装置により一定の露光量で画像露光し、現像を行った後、前記露光量の少なくとも１００倍の露光量で全面露光を行うことを特徴とする。 （もっと読む）