【課題】高集積化、高速度化が進むＬＳＩを生産する際、極めて微細なパターンルールを加工する技術として、簡便で工程管理に有用なダブルパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に第１ポジ型レジスト材料を塗布し、高エネルギー線をパターン照射し、アルカリ現像して第１ポジ型パターンを得る工程、得られたポジ型パターンを第２レジスト材料の溶剤に対して不溶化並びに第２レジスト材料をパターニングする際の不溶化させる工程として高温加熱及び／又は高エネルギー線の照射工程を含み、次いで、第２レジスト材料を第１レジストパターン上に塗布し、高エネルギー線をパターン照射、現像して、第２レジストパターンを得る工程を含むダブルパターン形成方法で、該第１レジスト材料含有の樹脂が式（１）の繰り返し単位を有するダブルパターン形成方法。
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【解決手段】置換又は非置換のヒドロキシアルキルナフタレンを有する繰り返し単位と、酸によってアルカリに可溶になる繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光する工程と、加熱処理後に現像液を用いて上記レジスト膜を現像する工程と、その後に熱あるいは酸と熱によってレジスト膜を架橋硬化させる工程とを有することを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、上記高分子化合物と、酸発生剤とを添加したレジスト材料を用いて第１のパターンを形成後、熱あるいは酸と熱による架橋反応によってアルカリ現像液やレジスト溶液に不溶化させ、その上に更にレジスト溶液を塗布し、露光現像することにより、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングによって基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】パターンの密着性に優れた黒色レジストの材料となる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダーと、光重合開始剤と、重合性化合物と、電子受容性化合物と、保管時には前記電子受容性化合物と反応して発色せず、かつ、熱が付与されると前記電子受容性化合物と反応して発色する電子供与性無色染料とを有することを特徴とする。前記電子供与性無色染料が、フタリド系発色団、フルオラン系発色団、及びフェノチアジン系発色団の少なくともいずれかを有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】染料の滲み出しを防ぎ、混色を抑えて色純度及び解像度の高いカラーフィルタを作製するカラーフィルタ及びその形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）染料と重合性モノマーと有機溶剤とを含む着色硬化性組成物を、露光し現像して、基板の上に着色パターンを形成する工程と、（ｂ）形成された前記着色パターン上に、透明性保護膜を形成する工程と、（ｃ）前記透明性保護膜の形成後に少なくとも該透明性保護膜を光照射処理する工程とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成を利用した印刷版において、プリンタブルエレクトロニクスの特殊なインクによる高品質印刷に対応でき、さらに印刷後の版の洗浄にも耐えうる印刷版を提供すること。
【解決手段】少なくとも、支持体上に１．０μｍ以上５０．０μｍ以下の厚みの紫外線吸収層を有し、フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、１０μｍ以上３００μｍ以下の厚みでネガ型感光性レジスト（Ａ）層を有する積層体を、フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、該ネガ型感光性レジスト（Ａ）を現像液により現像する工程と、を経て作成される印刷版であって、該紫外線吸収層が樹脂レリーフのパターン下部にだけ残されていることを特徴とする印刷版。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジストインクから形成されたレジスト膜と同等以上に発光ダイオードの反射率を高めることができるとともに、表面平坦性やレジスト硬化・現像性に優れるレジストフィルムを提供すること。
【解決手段】下記（１）の処理を行った後の色差計反射モードでの測定において、波長４３０〜７００ｎｍの間で１０ｎｍおきに測定した分光反射率がすべて６５％以上であるレジスト層を有することを特徴とするソルダーレジストフィルムである。
（１）全面に３５μｍ厚の銅箔を有する１．６ｍｍ厚のＦＲ−４銅張積層板をバフ研磨＃６００次いで＃１０００で１回ずつ整面した後、真空ラミネータでソルダーレジストフィルムをラミネートする。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れたパターン状透明膜及びそれを提供するための技術を提供する。
【解決手段】シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、前記シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】感放射線感度と現像密着性の高い感光性重合体組成物と、これを用いて得られるパターン状透明膜と、該パターン状透明膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物を含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、化合物（Ｉ）を含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。
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【課題】
本発明の目的は、ＰＤＰの背面板製造において、誘電体層表面の凹凸や、電極のよれの問題がなく、電極層と誘電体層とを同時に焼成し得るのに有効な同時焼成用感光性導電ペースト、およびそれを用いた電極パターンの製造方法を提供することである。
【解決手段】
電極層とその上層側に形成される誘電体層が同時に焼成されるプラズマディスプレイパネルの工法に用いるペーストであって、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）導電粉末を含むペーストであって、前記光重合性モノマー（Ｂ）は、その（Ｂ）成分全体のアクリル当量が１３０以下であり、さらにペースト中に、０質量％以上１質量％未満のガラス粉末を含むことを特徴とする電極用感光性導電ペースト。 （もっと読む）

【課題】１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。
【解決手段】ナフトールを有する繰り返し単位、アダマンタンに結合する１級のヒドロキシ基を有する繰り返し単位、酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体を含有する第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第１のレジストパターンを形成する工程と、前記第１のレジストパターンに波長２００ｎｍ以下の高エネルギー線の照射処理、及び加熱処理の少なくとも一方を施すことによって架橋硬化させる工程と、前記第１のレジストパターン上に第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光した後、現像して第２のレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ポジ型レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を露光および現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターンに架橋を形成する工程と、反転用膜を形成する工程と、アルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の縁の膜質が縁以外の膜質と同じ状態で液浸露光できると共に、レジスト膜の縁を効果的に除去できる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、被加工膜上にレジスト膜を形成し、レジスト膜をベークし、レジスト膜を液侵露光し、レジスト膜をポストエクスポージャベークし、レジスト膜を現像し、ポストエクスポージャベークした後にレジスト膜の縁を除去することを特徴とする。また、基板処理装置は、被加工膜上に形成されたレジスト膜の縁を周辺露光する周辺露光装置と、周辺露光するのと同時に、または周辺露光した後であって現像する前に、レジスト膜の縁を加熱する加熱装置と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より感度が高いｄｅｅｐ−ＵＶレジスト材料を用いることで、より生産性の高い、より微細なノズル構造を形成できるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】（ｉ）インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に特定の高分子化合物を含有するレジスト材料を含む層を形成した後、該層をパターニングしてインク流路パターンを形成する工程と（ii）常温にて固体状のエポキシ樹脂を含む液体を流路パターン上に塗布してインク流路壁となる被覆樹脂層を形成する工程と（iii）インク吐出圧力発生素子上に位置する被覆樹脂層を除去してインク吐出口を形成する工程と（iv）流路パターンを除去する工程とを有しており、工程（ii）において、インク流路パターン上に形成される被覆樹脂層の屈折率とインク流路パターンの屈折率との差が０．０３以下であるインクジェット記録ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジストとして必要な、現像性、硬度、耐熱性、感度だけでなく、優れためっき耐性及び保存性を両立することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤及び下記一般式（１）で表される化合物を含有してなることを特徴とする。
【化５３】


ただし、前記一般式（１）中、Ｒは、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、アリール基、及びヘテロ環残基のいずれかを表す。Ｌは、２価の有機連結鎖を表し、２つの窒素原子及び炭素原子を介して環を形成する。 （もっと読む）

本発明は、シクロヘキサンポリカルボン酸エステル可塑剤を含有している光重合性フレキソ印刷エレメントに関し、さらにはＵＶインキで印刷するための、特にはＵＶインキでナローウェブラベル印刷するためのフレキソ印刷板を作製するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】レリーフパターンを形成するために、感光性要素から印刷フォームを形成するための方法および装置の提供。
【解決手段】感光性要素の組成物層を加熱して層の一部分を液化させ、かつ感光性要素に現像媒体を提供して液化された組成物を除去することによって、感光性要素を熱現像する。感光性要素とベース支持体との間に適合層が配設され、これによって感光性要素と現像媒体との間の圧縮性および接触が改善する。この方法および装置は、感光性要素からの液化された部分の除去効率および形成されるレリーフパターンの均一性を改善する。 （もっと読む）

【課題】フラットディスプレイ等の絶縁膜材料として、ポジ型の感光特性を有し，透明性
、感光性、耐熱性が高く、かつ誘電率の低い材料を実現する。
【解決手段】
（ａ）成分：Ｒ１ＯＣＯＡＳｉＸ３（Ｒ１、Ａは有機基を示し、Ｘは加水分解性基）で表
せられるシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：酸の作用により分解しうる官能基を有し，酸の作用によりアルカリ現像液に
対する溶解性が増大する溶解阻止化合物，
（ｃ）成分：光または電子線の照射により酸を発生する化合物である，酸発生剤，
（ｄ）成分：（ａ）成分を溶解可能である溶媒，
を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であって、組成物中の（ａ）成分の配合割合が５
〜５０重量％であるシリカ系ポジ型感光性樹脂組成物を絶縁膜材料として用いる。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、エポキシ基含有ラジカル重合性単量体から誘導される構成単位を含有する樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、エポキシ基含有ラジカル重合性化合物からなる構成単位を含有する前記樹脂を除く。）、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率、可視領域での透明性、及び耐熱性に優れる硬化物（硬化塗膜）となり得る感光性組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体（Ａ）、感光性化合物（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
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