【課題】レジストパターンの倒れ、露光量変化に対する性能安定性（露光ラチチュード）が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【手段】活性光線又は放射線の照射により、フッ素原子及びエステル結合を有する特定のスルホン酸を発生する化合物、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いた液浸露光によるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれおよびそれを用いたパターン形成方法を提供すること
【解決手段】求核性官能基を有するポリマーおよび/またはオリゴマーと溶剤を含有することを特徴とするレジストパターン表面処理剤。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを形成するための半導体素子のパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】エッチング対象膜上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板が提供される段階と、前記フォトレジストパターンを含む前記半導体基板上に補助膜が形成される段階と、前記フォトレジストパターンの表面に形成された前記補助膜が変性されて第１補助パターンが形成される段階と、前記第１補助パターン及び前記補助膜を含む前記半導体基板上にフォトレジスト膜が形成される段階と、前記フォトレジスト膜の下部に形成された前記補助膜が変性されて第２補助パターンが形成され、前記補助膜が前記フォトレジストパターンの間のみに残留される段階と、前記フォトレジスト膜、前記第１及び第２補助パターンを除去して前記フォトレジストパターン及び前記補助膜を含むエッチングマスクパターンを形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法によるレジストパターン形成方法において、凸部パターンと凸部パターン上の複数の微小窪みを同時に形成する方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも、
１．基材の表面に紫外線吸収層を形成する工程と、
２．フォトマスクと該紫外線吸収層との間に、ネガ型感光性レジスト層を形成する工程と、
３．フォトマスクを介して、平行光の紫外線で露光する工程と、
４．フォトマスクと該ネガ型感光性レジストとを引き剥がし、現像する工程と、
を経て、凸型レリーフパターンと、該凸型レリーフ頂面上に少なくとも一つ以上の微小窪みを同時に形成することを特徴とするネガ型感光性レジストのパターン形成方法であって、
該紫外線吸収層の厚みが１．０μｍ以上１００．０μｍ以下であり、
該ネガ型感光性レジスト層の厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下であり、
該フォトマスクが、
少なくとも１つ以上の凸型レリーフ形成用遮光部と、
少なくとも１つ以上の４μｍ^２以上１６００μｍ^２以下の面積を有する窪み形成用微細遮光部と、
該凸型レリーフ形成用遮光部と窪み形成用微細遮光部以外の光透過部と、から構成されることを特徴とするネガ型感光性レジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量が極力低減された半導体製造用組成物溶液の送液方法、製造方法、配管、及び製造装置を提供する。
【解決手段】表面平滑度を示す算術平均粗さの値（Ｒａ；μｍ）が、送液される半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒａ＜Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。或いは、表面平滑度を示す十点平均粗さの値（Ｒｚ；μｍ）が、半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒｚ＜３Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ−１）で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物（式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよく；Ｘは酸解離性部位を有する二価の有機基であり；Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。）；かかる液浸露光用レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
［化１］
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【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、レジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により精製し、スラリーを得る工程と、スラリーを濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る工程と、恒率乾燥領域内で湿粉を乾燥して乾燥物を得る工程と、乾燥物を再溶解し、洗浄溶剤をフォトレジスト用溶剤に置換する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線によるレジストパターン形成において、ＰＥＤ、ＰＣＤ等によって影響を受けることなく、微細で、かつ、正確なレジストパターンを形成するための方法を開発すること。
【解決手段】 基板に塗布されたレジスト上にスルホン酸基またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー（Ａ）および２５℃における解離定数ｐＫａが１０以下である塩基性化合物（Ｂ）を含む導電性組成物を塗布して導電体を形成する導電性組成物塗布工程と、導電体を７０〜１４０℃で加熱する加熱工程と、次いで導電体が形成された基板に荷電粒子線によりレジストパターンを形成する荷電粒子線照射工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】支持体上に、ポジ型の第一の化学増幅型レジスト組成物を用いて１回目のパターニングを行い、第一のレジストパターンを形成した後、その上にさらに第二の化学増幅型レジスト組成物を用いて２回目のパターニングを行うダブルパターニングプロセスにおいて、第一のレジストパターンを損なうことなく２回目のパターニングを実施でき、微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第一のパターニング工程で第一のレジストパターンが形成された支持体上に、第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成し、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、露光後ベーク処理を施し、現像してレジストパターンを形成する第二のパターニング工程における露光後ベーク処理を、前記第一のレジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解性を増大させないベーク温度で行う。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料、該高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料を高い生産性で製造することができるポジ型平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料梱包体を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、波長７００〜１２００ｎｍに吸収極大を持つ近赤外線吸収色素とを含有する感光層を設けた後、熱処理して製造されたポジ型平版印刷版材料において、前記熱処理時の印刷版材料の雰囲気が、ｐＨ＝３〜６の酸性雰囲気であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ポジ型レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜を露光および現像してポジ型パターンを得る工程と、該得られたポジ型レジストパターンに架橋を形成する工程と、反転用膜を形成する工程と、アルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去することでポジ型パターンをネガ型パターンに反転する工程とを含むポジネガ反転を用いたレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）で表される繰り返し単位から構成される高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（Ｒ^1a及びＲ^1bはＨ又はアルキル基、Ｒ²はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ³はＨ又は酸不安定基、Ｒ^4a〜Ｒ^4cはＨ又はアルキル基、Ｒ⁵はアルキル基。０＜ａ１＜１、０≦ａ２＜１、０≦ｂ１＜１、０≦ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＜１、０＜ｂ１＋ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＋ｂ１＋ｂ２≦１。）
【効果】上記レジスト保護膜材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現できる。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性フレキソ印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 （もっと読む）

【課題】被処理基板を支持するピンの基板への転写を防止することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｇを収容するチャンバ１０６と、チャンバ１０６内を減圧する減圧手段１４２と、チャンバ１０６内に配列され、被処理基板Ｇを下方から支持する複数のリフトピン１２８と、リフトピン１２８の複数本をグループ単位として、各グループ内のリフトピン１２８をそれぞれ独立に昇降させるリフトピン昇降手段１２６と、減圧乾燥処理に伴い変化する基板Ｇの温度を、所定の温度範囲に区切って検出する基板温度範囲検出手段１３３と、前記グループ内のリフトピン１２８毎に、当該ピンにおける基板Ｇとの接触部を前記基板温度範囲検出手段１３３により検出された温度範囲に含まれる所定温度に設定するリフトピン温調手段１３１、１３２と、リフトピン昇降手段１２６の駆動制御を行う制御手段１３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】原料供給ユニットが設置される原料供給室と充填ユニットが設置される調製物充填室との間等を、自由に移動可能な移動式ユニットを備えており、生産設備に必要な配管を大幅に短くすることができ、配管内の残液を低減することがき、且つ調製物（製品）中の異物を低減することができる調製装置を提供する。
【解決手段】本調製装置１は、移動式ユニット１０を備えており、移動式ユニット１０には、移動式基台１１と、攪拌装置１３を有する調製タンク１２と、濾過装置１４と、調製タンク１２内の内容物を濾過装置１４まで運ぶための第１ライン１５と、濾過装置１４を通過した内容物を調製タンク１２まで運ぶための第２ライン１６と、調製タンク１２内に原料を供給するための原料供給部３と、調製物を移動式ユニット外へ排出するための調製物排出部４と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】第一のレジスト組成物を用いて形成された第一のレジスト膜から第一のレジストパターンが形成された支持体上に、ネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成した後、選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する方法において、前記ネガ型レジスト組成物は、酸解離定数（ｐＫａ）が−３．５〜０の酸を露光により発生する酸発生剤（Ｂ２−１）を含有することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィに無機酸化物からなるナノ粒子を含むバリア膜を用いる際のレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成したレジスト膜１０２の上に、無機酸化物（ＳｉＯ_２）からなるナノ粒子とアルカリ可溶性基を有する脂環式化合物（１−アダマンタノール）とを含むバリア膜１０３を形成する。続いて、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、液体１０４及びバリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、バリア膜１０３を除去すると共にレジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

本発明は、シクロヘキサンポリカルボン酸エステル可塑剤を含有している光重合性フレキソ印刷エレメントに関し、さらにはＵＶインキで印刷するための、特にはＵＶインキでナローウェブラベル印刷するためのフレキソ印刷板を作製するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】異物の含有量を低減させたレジスト樹脂含有溶液を得るレジスト樹脂含有溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト樹脂と微粒子とを含有する原溶液から微粒子を除去するろ過工程を含むものであり、ろ過工程は、原溶液を、ろ過装置内を循環させて行うものであり、ろ過装置は、原溶液を貯留し、その内部を加圧可能な加圧タンク１１と、加圧タンク１１から排液される原溶液をろ過するフィルタを有するろ過器１３と、ろ過されたフィルタ処理液を貯留する緩衝タンク１５と、フィルタ処理液を加圧タンク１１に投入する投入ポンプ１７と、加圧タンク内に不活性ガスを供給するガス供給器１９と、を備え、加圧タンク内の圧力を、不活性ガスによって所定の圧力に加圧し、加圧された加圧タンク内の圧力によって、加圧タンク１１から原溶液を排液するレジスト樹脂含有溶液の製造方法。 （もっと読む）