【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程などに使用されるパターン形成方法であり、液浸露光に於いて、現像後に発生する現像欠陥が改良されたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のポジ型レジスト組成物を使用し、下記の（ア）〜（オ）の工程を行うパターン形成方法。
（ア）該ポジ型レジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、（イ）液浸液を介してレジスト膜に露光する工程、（ウ）レジスト膜上に残存する液浸液を除去する工程、（エ）レジスト膜を加熱する工程及び（オ）レジスト膜を現像する工程。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）含窒素カチオン性界面活性剤及び含窒素両性界面活性剤の中から選ばれる少なくとも１種、及び（Ｂ）アニオン性界面活性剤を含有する水性溶液からなるリソグラフィー用洗浄剤とする。 （もっと読む）

【課題】 ＣＳＰと呼ばれる半導体装置において、電解メッキにより配線を形成する際に用いるフォトレジスト膜をポジ型化学増幅型のものによって形成するとき、解像不良が発生しないようにする。
【解決手段】 最上層に銅層を有するメッキ電流路としての下地金属層７の上面にアルミニウムからなるバリア層２２を成膜する。次に、バリア層２２の上面にポジ型化学増幅型のフォトレジスト膜２３を形成する。次に、配線形成領域に対応する部分に開口部２５を有する露光マスク２４を用いて紫外線を照射すると、配線形成領域に対応する部分におけるフォトレジスト膜２３中の光酸発生剤からパターン形成に必要な触媒としての酸が発生する。この場合、フォトレジスト膜２３で発生した酸はバリア層２２によって阻止されて下地金属層７の最上層の銅層中に侵入することがなく、したがってこの銅層とフォトレジスト膜２３との界面において酸が中和されることがなく、この酸中和に起因する解像不良が発生しないようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。
【解決手段】先ずレジスト膜の表面に液層を形成した状態で露光した後の基板から保護膜を除去する。次に基板を加熱処理した後、基板の現像処理を行う。この態様において、前記保護膜を除去する前に露光後の基板の表面を洗浄液により洗浄するか、あるいは前記保護膜を除去した後、基板を加熱処理する前に、基板の表面を洗浄液により洗浄する。 （もっと読む）

【課題】マスクパターンの粗密差により生じるＯＰＥ特性を改善し、パターンのデザイン忠実性を高める。
【解決手段】フォトリソグラフィによるレジストパターン形成方法であって、基板上に酸解離性溶解抑制基を有するレジストを形成する工程と、アルコール系溶媒に溶解した酸性ポリマーをレジスト上に塗布し、上層膜を形成する工程と、マスクを通して露光する工程と、ベーク処理をする工程と、アルカリ現像液で処理する工程とを備え、ベーク処理をする工程において、上層膜によりレジストにミキシング層を形成し、マスクパターンのパターン密度の高い領域では、パターン密度の低い領域に比べて、未露光部にミキシング層が厚く形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜のパターン形状が、例えばＴトップ形状やラウンド形状といった形状不良になる場合に、レジスト膜自体の変更や製造装置の改良をすることなく、容易にレジスト膜のパターン形状を改良できる技術を提供する。
【解決手段】まず、半導体基板に形成された被加工膜上にレジスト膜を塗布した後（Ｓ１０１）、加熱処理を行なう（プリベーク処理）（Ｓ１０２）。そして、レジスト膜の感光を行なう（Ｓ１０３）。続いて、レジスト膜の表面における酸と反応する薬液に半導体基板を浸漬し、その後、半導体基板を乾燥させる（Ｓ１０４）。次に、露光後加熱処理（ＰＥＢ処理）を施した後（Ｓ１０５）、現像処理を行なう（Ｓ１０６）。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、後加熱をしなくても高耐刷性が得られ、有機溶剤を含まないアルカリ性水溶液で現像が可能であり、且つ保存安定性に優れている感光性平版印刷版材料及びその製版方法を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、少なくとも、重合開始剤、３５０〜４３０ｎｍに吸収極大を有する分光増感剤、重合可能なエチレン性二重結合を有する単量体あるいはオリゴマー、および高分子結合剤を含有する感光性層とポリビニルアルコールを含有する保護層とを有する感光性平版印刷版材料において、該感光性層が、該高分子結合剤として、少なくとも、酸価９０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの酸変性ポリビニルアセタールと、ガラス転移温度１１０℃〜１４０℃のアクリル樹脂とを含有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、発光波長が３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲にあるレーザー光での露光に適し、感度及び耐刷性に優れかつ網点再現性に優れる感光性平版印刷版材料、この感光性平版印刷版材料を与える感光性組成物および平版印刷版材料の画像形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）付加重合可能な、エチレン性二重結合含有化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）高分子結合材、および（Ｄ）吸収極大波長が３５０〜４５０ｎｍにある色素を含有する感光性組成物において、該感光性組成物が、さらに下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
【化１】
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【課題】高感度なＣＴＰ印刷版においても、現像安定性、即ち画像部の印刷性能を阻害せず非画像部の溶出性を改良し、網点部画像再現性が高く、低濃度成分量ながら短時間処理の可能な平版印刷版の製版方法を提供する事。
【解決手段】少なくとも水不溶性の表面を有し、画像部をレーザー露光により架橋させ、アルカリ性現像液を用いて未露光部を溶解除去する平版印刷版の製版方法であって、露光後、アルコール類および／または界面活性剤を含有する浸透液を版面に付与した後に該アルカリ性現像液を付与する平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー及び半導体レーザーを用いてコンピューター等のデジタルデータから記録することにより直接製版が可能で、露光後に加温処理の必要が無く、高感度で耐刷性に優れたネガ型感光性平版印刷版原版の製造方法ならびに製版方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも高分子結合剤、光重合開始剤、及び３８０ｎｍから１３００ｎｍの波長域において増感する増感色素を含有する平版印刷版に、該平版印刷版に含まれる増感色素の感光波長域に対応した光源を使用して画像露光する前に、予め該平版印刷版の全面に対して露光を行うことによって達成された。 （もっと読む）

【課題】剥離強度、及び導電性に優れたエポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、多層配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、該エポキシ基と反応する官能基を１分子中に２個以上有する硬化剤、及び光重合開始剤を必須成分として含有するエポキシ樹脂組成物を用いて、導電膜及び導電性パターンを形成すると共に、多層配線板を製造する。 （もっと読む）

【課題】 解像度および感度に優れたレジストパターンの形成方法、並びにそのパターンの形成方法に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 活性水素原子含有基を有する親水性ポリマー（Ａ）、多官能アクリレートモノマー（Ｂ）、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）、光酸発生剤（Ｄ）および架橋剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物を、基板上に塗布および乾燥し、選択的に露光した後、引き続き５０〜２００℃で加熱し、その後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないで凸状のレリーフ像を形成することが可能な、取扱性に優れた感光性樹脂印刷版原版とその製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも感光性樹脂層（Ａ）、描画された感熱マスク層（Ｂ’）、保護層（Ｃ）をこの順に有することを特徴とする描画済感光性樹脂凸版原版。 （もっと読む）

ａ）（ｉ）親水性表面を有するかまたは親水性層が付与されている支持体、
（ｉｉ）光重合可能層および、場合により、光重合可能層と支持体との間の中間層を含んでなる、該支持体上のコーティングを含んでなり、該光重合可能層が重合可能化合物、重合開始剤および結合剤を含んでなる平版印刷版前駆体を準備し、ｂ）該コーティングを版セッター内で像通りに露光し、ｃ）前駆体を予備加熱装置内で段階（ｂ）後の１０分間以内の期間内に加熱し、ｄ）前駆体を少なくとも１つのゴム引き装置を含んでなるゴム引き台内で処理し、それによりゴム溶液が前駆体に適用される段階を含んでなり、それにより単一段階で光重合可能層の露光されていない領域を支持体から除去しそして版をゴム引きする、平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】非露光部の画像記録層が確実に除去された高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原板を画像露光した後、前記平版印刷版原板の搬送方向の最上流にある第１処理浴から最下流にある最終処理浴まで複数の処理浴を通過させて前記平版印刷版原板を処理する平版印刷版処理方法において、前記第１処理浴では、液留りに少なくとも界面活性剤もしくは溶剤を含有してｐＨ２〜１０の範囲にある水溶液を蓄えておき、前記水溶液に前記平版印刷版原板を浸漬した状態で、１つ以上の擦り部材により非画像部を除去する現像処理を行い、最終処理浴では、水溶性高分子を含有した、前記第1処理浴で用いた水溶液とは異なる水溶液により不感脂化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】
エッチャントとして特定のガスを使用して、その添加量を厳密に制御することなく、膜の加工両端部を基板から離間するにつれて両端部間の距離が短くなるようなテーパー形状とし、当該テーパーの角度を所望の角度とすることが可能な膜のパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係る一の態様の膜のパターン形成方法は、基板上に膜４、５を形成し、膜４、５の上層に、第１マスキング層１０とその上層の第２マスキング層１１とを、当該第２マスキング層１１が第１マスキング層１０端から突出する庇部を有するようにパターン形成し、膜４、５の上層に第１マスキング層１０及び第２マスキング層１１のパターンが形成されている状態において、膜４、５をエッチングしてパターニングする。
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【課題】高い解像性と良好なパターン形状を与え、電子線や遠紫外線を用いた微細加工に有用であり、ポジ型及びネガ型のＫｒＦレジスト、ＡｒＦレジスト、Ｆ₂レジスト、ＥＵＶレジスト、ＥＢレジスト、Ｘ線レジストにおいて高い配合効果を与え、超ＬＳＩ製造用の微細パターン形成材料として好適である。また、通常の露光法の他、液浸露光にも好適であるレジスト材料の提供。
【解決手段】フッ素化アルキル基を有するアミン化合物の１種又は２種以上を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】水系現像液で現像でき、また、水性インキに対する耐性があり、且つ現像速度を早くすることができ、高速印刷に耐え得る機械的強伸度を有する新聞用フレキソ印刷原版。
【解決手段】（１）なくとも支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であって、かつ前記感光性樹脂層の厚みが１０００μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。（２）感光性樹脂積層体が新聞印刷用原版である前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（３）感光性樹脂層に水分散ラテックスから得られる疎水性重合体が含有されていることを特徴とする前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（４）ＩＲアブレーション層とカバーフィルムとの間に、有機高分子層を有する前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（５）ＩＲアブレーション層が、ＩＲ吸収性金属層のみからなる、前記（１）記載の感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】ウォータマークの欠陥による損壊の発生を防止或いは低減する液浸リソグラフィに用いるレジスト材料及び液浸リソグラフィ方法を提供する。
【解決手段】レジスト材料は、酸と反応した後にアルカリ性溶液に溶解するポリマーと、照射エネルギーを吸収した後に、分解して酸を形成するＰＡＧと、酸を中和し、移動度が低いクエンチャーとを含み、クエンチャーは、レジスト内の濃度が０．５重量％よりも高い。液浸リソグラフィ方法は、基板上にレジストを形成する工程と、液浸リソグラフィシステムの流体内でレジストを露光する工程と、レジストをベーキングし、レジスト内にあるクエンチャーを液浸リソグラフィに拡散させる流体量を５×１０−１３モル／ｃｍ２にする工程と、露光後のレジストを現像する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】露光工程に厳密な時間管理を必要とせず、露光時間に微細な差異が生じても、印刷結果においてドットゲインの大小が変化したり、色の濃淡に差異が生じる等の問題が生じる恐れがなく、かつ、印刷工程で樹脂版と版画紙が密着する等の問題が生じない版画用版の製作方法を提供する。
【解決手段】ガンマ値の低い感光性樹脂版の上に描画フィルムを密接した状態で第１回露光を太陽光あるいは露光機で行い、次に描画フィルムを取り除いた後にスクリーントーンフィルムを当該感光性樹脂版の上に密接した状態で第２回露光を太陽光あるいは露光機で行い、続いて、スクリーントーンフィルムを取り除き、当該感光性樹脂の表面を十分にこすりつつ水洗いし、さらに続いて、水切りを行い、最後に、当該感光性樹脂の表面に熱風を吹き付けて乾燥させ、版面を硬化することを特徴とする版画用版の製作方法である。 （もっと読む）