【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる微細パターンの形成方法と、それに有効な電場（電界）印加時の露光後ベーク用媒体を提供する。
【解決手段】化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストを用いた高感度な微細パターンの形成方法であって、前記化学増幅型ポジレジスト又は化学増幅型ネガレジストからなるレジスト膜１１を基板１０の上に形成する工程と、前記レジスト膜１１に放射線を照射し、酸を発生させる工程と、前記放射線照射後の加熱時に、レジスト膜１１上に下記（I）及び（II）を満足する媒体１２を配置して、前記レジスト膜１１に電場を印加する工程とを含む。
（I）電気伝導率が０．０１μＳ／ｃｍ以上である。
（II）レジスト膜に対する溶解性が低く、次式を満たす。
媒体を２３℃で６０秒間放置し、水で除去後のレジスト膜厚／媒体配置前のレジスト膜厚×１００≧９５ （もっと読む）

【課題】 化学増幅型のレジストが塗布され、例えば低加速の電子ビームにより露光された基板を加熱処理するにあたり、レジストの化学増幅反応を促進させて線幅精度の高いレジストパターンを形成すること
【解決手段】 表面にレジストの酸触媒反応を促進させるためのレジスト改質流体例えばグリセリンなどが供給された基板を基板載置部である載置台３に載置した状態で加熱手段をなすヒータ３３及び５１により加熱する構成とする。この場合、露光領域内での酸の活動を活発にすることができるので、結果として例えば低加速の電子ビームにしょり露光したレジストであっても現像後において基板の表面に線幅精度の高いレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 処理性、耐刷性等に優れ、平網ムラが少なく、特にレーザ光による描画に適し、スクリーン線数２００線以上の高精細ＡＭスクリーン印刷やＦＭスクリーン印刷に適したネガ型平版印刷版の製版方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、重合性を有する層、さらに保護層をこの順に設けたネガ型平版印刷版原版を、３００ｎｍから１２００ｎｍの範囲に発光波長を有するレーザで走査露光した後、１００℃以上の温度で加熱し、保護層を水洗除去し、さらに水性アルカリ現像液で満たされた現像浴中に現像ブラシを備えた現像部にて現像処理を行う、平版印刷版の製版方法において、該現像部におけるネガ型平版印刷版の感光面と現像ブラシとの隙間が１ｍｍ以下であることを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 その第一の課題は、ドライプロセスでの平版印刷版の指紋汚れ、解像度の改善をすることにある。第二の課題は、新規なドライのフィニッシャー処理方法（具体的にはガム処理）を採用することにより、画像形成後の傷による置き版適性を改善することにある。
【解決手段】 少なくとも画像露光を行う工程及び下記の液体現像処理を伴わずに親水化処理を行う工程を、感光性平版印刷版を順次搬送しながら行う平版印刷版の処理装置において、前記親水化処理がコーティング処理により行われることを特徴とする平版印刷版の処理装置。
ここで、液体現像を伴わずに親水化処理を行う工程とは、ａ）溶融熱転写方式、ｂ）昇華熱転写方式、ｃ）アブレーション転写方式、ｄ）穿孔方式、及びｅ）光変性方式の群から選ばれる少なくとも１つの方式を有する親水化処理を行う工程を言う。 （もっと読む）

遠位の酸不安定部分含有ペンダント基をもつモノマー単位を有する酸感応性ポリマーからなる像形成ポリマー成分を含有するレジスト組成物の使用により、１９３ｎｍ放射線、及び／又は場合によっては他の放射線を用いて像形成可能であり、改良された現像特性のレジスト構造を形成するために現像可能であり、かつ改良された耐エッチング性のレジスト構造が可能となる、酸触媒ポジ型レジスト組成物が得られた。 （もっと読む）

【課題】品質の良い両面回路基板が低コストな装置で効率良く製造できる露光及び現像方法を提供すること。
【解決手段】表裏両面側に回路パターンを備える両面回路基板を枚葉基板から製造する際の露光及び現像方法であって、供給された複数の枚葉基板２０が互いに隣り合う枚葉基板２０同士で連接するように枚葉基板２０の表裏各面に長尺帯状のドライフィルムレジスト１０を貼り付けることにより、複数の枚葉基板２０の連接体である長尺帯状の枚葉基板連接体ＭＲを形成し、該枚葉基板連接体ＭＲに対して露光及び現像を行う。 （もっと読む）

【要約書】改良された熱現像装置を使用して、未硬化感光性樹脂をフレキソ印刷要素の画像形成表面から除去する。本装置は、概して、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能な１つ以上の加熱ロールと、該１つ以上の加熱ロールとフレキソ印刷要素の画像形成表面との接触を維持する手段とを含む。１つ以上の加熱ロールが加熱されてフレキソ印刷要素の画像形成表面の少なくとも一部の上を移動し、並びにフレキソ印刷要素の画像形成表面上の未架橋ポリマーは、１つ以上の加熱ロールにより溶融・除去される。 （もっと読む）

【課題】 クロム含有材料をパターン形成する場合における、下にある基板との不都合な相互作用を防止する改善されたレジスト配合物を提供する。
【解決手段】 室温で固体の塩基と液体の低蒸気圧塩基とを含む塩基添加物の組み合わせを用いることによって、異なる基板上であっても良好なフッティング特性を有するレジスト組成物が得られる。この組成物は、マスク製造に一般に用いられるクロム含有層などの金属基板に対して特に有用である。 （もっと読む）

永久フォトレジスト組成物であって、（Ａ）式Ｉによる１種又は複数のビスフェノールＡ−ノボラックエポキシ樹脂（ただし、式Ｉ中の各基Ｒはグリシジル又は水素から個別に選択され、式Ｉ中のｋは０〜約３０の範囲にある実数である）と、（Ｂ）式ＢＩＩａ及びＢＩＩｂにより表される群から選択される１種又は複数のエポキシ樹脂（式中、式ＢＩＩａにおける各Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、水素、又は炭素原子１〜４個を有するアルキル基からなる群より独立に選択され、式ＢＩＩａ中のｐの値は１〜３０の範囲にある実数であり；式ＢＩＩｂ中のｎ及びｍの値は独立に１〜３０の範囲にある実数であり、式ＢＩＩｂ中の各Ｒ４、及びＲ５は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、又はトリフルオロメチルからなる群より独立に選択される）と、（Ｃ）１種又は複数のカチオン性光開始剤（光酸発生剤又はＰＡＧとしても知られる）と、（Ｄ）１種又は複数の溶媒とを含む組成物。 （もっと読む）

流体（Ｌ３）中に浸漬されたレジスト（Ｌ２）等の感光層をパターニングするために照射する方法は、除去可能な透明層（Ｌ４，Ｌ５）を配置するステップと、流体中の不完全部分が表面上に投影された焦点から外れるように浸漬流体及び透明層を通じてレジスト上に照射線を投射するステップと、その後に透明層を除去するステップとを含んでいる。透明層は、表面上の照射線の焦点からそのような不完全部分を離間させるように機能することができ、そのため、シャドーイングを減少させ又は排除することができる。従って、照射がより複雑となる可能性があるが、欠陥が減少する。それは、特に例えば流体／表面の界面における浸漬流体中の小さな気泡又は粒子の形態をなす不完全部分において特に有効となり得る。照射線は、検査、処理、パターニング等を含む任意の目的のためのものであってよい。透明層の除去は、レジスト層を現像するステップと組み合わせることができる。
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本発明は、露光工程、現像工程および後露光工程を含む凸版印刷用水現像感光性樹脂版の製造方法であって、露光工程以降に変性シリコーン化合物および／またはフッ素化合物を含有する液と感光性樹脂版を接触させることを含む、上記方法を提供する。 （もっと読む）

フレキソ印刷版を無溶剤現像および製造のための方法が開示されている。比較的薄い金属で裏打ちされたフォトポリマー層付きの印刷版要素は、化学線に対して選択的に露光され、少なくとも７０℃まで加熱され、次に吸い取られて、レリーフ像を形成する。この方法は、新聞および他の刊行物を印刷するためのフレキソ印刷版の製造に特に適している。 （もっと読む）

１つ又はそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、２〜約９の芳香族ヒドロキシル基を含む化合物と５−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物及び４−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物との縮合生成物であるジアゾナフトキノン光活性化合物、及び少なくとも１つの溶媒を含んでなるポジに働く感光性樹脂組成物、並びに、基材上にレリーフパターンを形成し、それによってコーティングされた基材を形成するためのこうした組成物の使用。 （もっと読む）

半導体材料をリワークする方法であって、（ｉ）シリコーン組成物を基板表面に塗布して膜を形成する段階と、（ｉｉ）前記膜の一部を放射線で照射し、前記表面の一部である非照射部と前記表面の残りの部分である照射部とを有する、部分的に照射された膜を作成する段階と、（ｉｉｉ）前記照射部が実質的に現像液に対して非可溶であり、前記非照射部が前記現像液に対して可溶であるような時間、前記部分的に照射された膜を加熱する段階と、（ｉＶ）前記加熱後の膜の非照射部を前記現像液で除去し、パターン形成された膜を作成する段階と（Ｖ）硬化シリコーン層を形成するのに十分な時間前記パターン形成された膜を加熱する段階と、（Ｖｉ）有機溶媒及び塩基を含む無水エッチング液に浸漬して硬化シリコーン層の全部または一部を除去する段階と、を含む方法。 （もっと読む）

本発明は、機上現像可能な印刷版の用途に適した輻射線感受性組成物を提供する。この輻射線感受性組成物は、オニウム塩およびIR線吸収剤を含む開始剤系を含む。この開始剤系は重合可能な材料と、ポリエチレンオキシド・セグメントを含む高分子バインダーと組み合わされている。 （もっと読む）