【課題】ｐＨ２〜１０の現像液で現像可能であり、耐汚れ性および耐刷性が共に良好で、経時による耐汚れ性の低下が抑制された平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供すること
【解決手段】支持体上に、特定の繰り返し単位を有する重合体を含有する中間層と、画像形成層とをこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版及びこの平版印刷版原版を用いる平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線領域で用いることができ、露光後熱処理遅延安定性に優れたフォトレジスト用共重合体含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）の単量体を有する重合体を含む本発明のフォトレジスト組成物は優れたエッチング耐性及び耐熱性を有し、遠紫外線領域、特にArF用レジストの露光後遅延安定性（post exposure delay stability）を画期的に向上させることができる。
【化１】


前記式で、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｚ及びｐは明細書に定義した通りである。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィプロセスに適用する非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ポリマーの製造方法、ポリマーを使用する組成物、及び組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、このようなポリマーの製造方法、このようなポリマーを使用する組成物、及びこのような組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスを提供する。より詳細には、液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセス。 （もっと読む）

【課題】高い精細性とベタ部の高い濃度をバランスよく印刷でき、かつ版面のインキ汚れを長期間防止し、版拭きなどの印刷作業時の煩雑な操作を極力防止できる感光性樹脂版の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、露光工程、現像工程および後露光工程を含む凸版印刷用水現像感光性樹脂版の製造方法であって、露光工程以降に変性シリコーン化合物および／またはフッ素化合物を含有する液と感光性樹脂版を接触させることを含む、上記方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版を作製できる自動現像装置とその方法を提供する。
【解決手段】支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原板４を炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する水溶液の満たされた現像槽２０に浸漬した状態で非画像部の除去が行われる浸漬型平版印刷版用自動現像装置２において、処理パスラインを形成する浸漬型の現像槽２０と処理パスライン外に設けた外部タンク５５との間で上記水溶液からなる現像液を浸漬型の現像槽２０の液面を一定に保つように循環させるようにした。
【代表図】図１ （もっと読む）

【課題】コストの増大を抑制しつつ現像不良の発生を防止することが可能な現像装置および現像方法を提供する。
【解決手段】まず、基板Ｗの回転速度が低い状態で、基板Ｗの中心部にリンス液が供給される。この場合、リンス液が表面張力によってほぼ一定の領域内で保持される。基板Ｗの回転速度が上昇すると、基板Ｗ上に保持されているリンス液に遠心力が働き、リンス液が基板Ｗの周縁部に向けて拡がろうとする。そのとき、基板Ｗの中心部に現像液が供給される。この場合、現像液がリンス液とともに基板Ｗ上の全体に瞬間的に拡がる。 （もっと読む）

【課題】レーザー露光により、充分な耐刷性を維持しつつ良好な検版性、機上現像性又はガム現像性、及び汚れ性を示す平版印刷版原版を提供し、さらにその平版印刷版原版を用いる平版印刷方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも２つの環式イミド構造を有する非イオン性重合開始剤、及び（Ｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物を含有する画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】微小網点再現性と印刷適性の両立可能な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該断熱層が少なくともポリウレタン樹脂、活性水素基含有芳香族化合物および金属キレート化合物を含有し、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であり、感熱層溶液として溶解度パラメーターが１９〜２４（ＭＰａ）^１／２の有機溶剤を１０重量％以上５０重量％以下含有するものを用いたことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】短波長放射光１９３ｎｍ以下で十分に低い光学密度を有する新しいフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ）多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および任意の活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること；（ｂ）混合物を加熱すること；および（ｃ）Ｎｉおよび／またはＰｄを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法。非オレフィン系連鎖移動剤には、Ｈ_２、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される１種以上の化合物が含まれる。活性剤は、ｐＫａが少なくとも５の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】耐刷性を改良するために前加熱部（プレヒート部）での温度を十分上げても、つぎの、前水洗部（プレ水洗部）での水洗水と接触して急冷され変形することによる、しわの発生（プレヒートリップルの発生）がなく、つぎの、現像部での現像で耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる感光性平版印刷版の現像処理方法および感光性平版印刷版用の自動現像機を提供する。
【解決手段】感光性平版印刷版の現像処理方法が、該感光性平版印刷版を、先ず、加熱して硬化し耐刷性の向上をもたらす前加熱工程（プレヒート工程）、つぎに、水洗水で洗浄し酸素遮断層を除去する前水洗工程（プレ水洗工程）、つぎに、アルカリ剤を含む水溶液の現像液で現像処理する現像工程、とを少なくとも有し、かつ、該前加熱工程と該前水洗工程との間に放熱手段を有する、ことを特徴とする感光性平版印刷版の現像処理方法。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版の処理性能を均一にすることができる平版印刷版用現像処理方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも前加熱ゾーン２０とその下流配置の現像液処理ゾーン４０とで平版印刷版Ｓが搬送処理される平版印刷版用現像処理方法において、現像液処理ゾーン４０の処理槽４２の平版印刷版入り口近傍に配置した現像液循環手段により入り口近傍の現像液Ｄを処理槽４２内で移動循環させる平版印刷版用現像処理方法。 （もっと読む）

【課題】基板搬送方向の上部に配設されたノズルから現像液を吐出し、前記基板を現像処理する方法において、前記基板の搬送方向で現像の進み具合に差があって、前記基板の前後でカラーフィルタパターンの線幅がばらつくというという問題を解決する手段の提供である。
【解決手段】現像処理が開始する時点の基板の搬送速度と終了する時点の前記基板の搬送速度の比を、０．２から０．９の範囲に設定することを特徴とする現像方法及び現像装置である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）基板上に、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂（ａ）、及び感放射線性酸発生剤（ｂ）を含む感放射線性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、露光する工程と、（２）前記塗膜上に、欠陥除去剤を塗布して被覆層を形成する工程と、（３）現像する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】解像性を損なうことなく、レジストパターン形状が逆テーパ形状となることを回避可能なレジストパターン形状制御材料、半導体装置の製造方法、及び磁気ヘッドの製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターン形状制御材料は、スルホン基を有する基材樹脂、光酸発生剤、及び溶剤を含むことを特徴とする。基材樹脂が、ベンゼンスルホン酸からなるモノマー単位を含むポリマーである態様、基材樹脂が、硫黄含有量で１重量％以上のスルホン基を有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】溶剤の無駄を省くことができると共に、溶剤蒸気のインパクト圧を高めたスムージング処理を容易にし、かつ、溶剤蒸気のノズル外部への漏洩を抑制して、処理効率の向上を図れるようにすること。
【解決手段】表面にレジストパターンが形成され、露光処理され現像処理されたウエハＷの表面を上面にして保持するチャック５２と、チャックを鉛直軸回りに回転させるモータ５３と、チャックに保持されたウエハの表面に向かってレジストパターンを膨潤させる溶剤蒸気を吐出する吐出孔６１及び該吐出孔から吐出された溶剤蒸気を吸引可能な吸引口６２を有する処理ノズル６０と、処理ノズルをチャックに保持されたウエハの周縁から中央部側に移動させる移動機構５４と、を具備し、ウエハを鉛直軸回りに回転させると共に、吐出孔から溶剤蒸気を吐出しながら処理ノズルをウエハの周縁から中央部側に向かって移動させてウエハの表面に溶剤蒸気を螺旋状に供給する。 （もっと読む）

（ａ） （ｉ）基板、（ｉｉ）１つ又は２つの層を含む輻射線感光性塗膜、及び（ｉｉｉ）任意選択な、酸素不透過性の上塗り層、を含む平版印刷版前駆体を用意する工程、（ｂ） 該平版印刷版前駆体を、該輻射線感光性塗膜が感光する波長の輻射線に像様露光する工程、（ｃ） 任意選択の、該像様露光された前駆体をプレヒート処理及び／又は水による濯ぎにかける工程、（ｄ） アルカリ現像剤によって像様露光された前駆体から非画像領域を除去する工程、（ｅ） 任意選択の、工程（ｄ）で得られた該画像形成された前駆体を、水による濯ぎにかける工程、（ｆ） 工程（ｄ）又は（ｅ）で得られた該画像形成された平版印刷版を、仕上げ剤溶液で処理する工程、そして（ｇ） 任意選択の、工程（ｆ）で得られた該仕上げ剤処理された版を、水による濯ぎ、乾燥及びベーキングから選択される少なくとも１つの更なる処理工程にかける工程を含む、平版印刷版を製造する方法であって、該仕上げ剤溶液が、（ｍ１） 第一級、第二級及び／又は第三級アミノ基、及び（ｍ２） −ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＰＯ₂Ｈ₂及びＰＯ₃Ｈ₂から選択された酸基、並びに（ｍ３） 任意選択的に、アルキレンオキシド単位−（ＣＨＲ¹−ＣＨ₂−Ｏ）_p−（式中、各Ｒ¹は独立してＨ又はＣＨ₃を表し、そしてｐは整数１〜５０である）
を含む親水性ポリマーを、該仕上げ剤の総重量を基準として、０．０１〜１５重量％含んでいる、ことを特徴とする平版印刷版を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ法によるポジ型レジストの現像時の残渣物（溶け残り）を解消して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にポジ型の化学増幅レジスト膜１０２を形成する。続いて、レジスト膜１０２の上に液浸用の液体１０４を配した状態でレジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射することによりパターン露光を行う。パターン露光の後に、レジスト膜１０２の表面をアルカリ可溶化するための表面処理を行う。表面処理の後に、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。レジスト膜１０２の表面をアルカリ可溶化するための表面処理は、レジスト膜１０２を熱酸発生剤を含む溶液にさらした後、レジスト膜１０２を加熱する処理である。 （もっと読む）

新規な現像液溶解性の反射防止膜組成物、およびこの組成物の使用方法を提供する。この組成物は、多官能性ビニルエーテルと反応して分岐ポリマーまたは分岐オリゴマーを生成する多官能性酸を含んでいる。使用時に、組成物を基板に塗布して熱的に架橋する。露光し、露光後に焼成すると、硬化したポリマー／オリゴマーが脱架橋、解重合して、通常のフォトレジスト現像溶液（例えばアルカリ現像液）に溶解する層となる。 （もっと読む）

【課題】基板に化学増幅型のレジストを塗布し、その基板に液浸露光が行われた後で現像処理を行い、良好な形状のレジストパターンを得ること。
【解決手段】化学増幅型のレジストを基板表面に塗布してレジスト膜を形成する塗布モジュールと、液浸露光により前記レジスト膜が露光された後、前記基板に酸を供給するための処理ガスを吐出するガス吐出部と、基板に吐出された余剰な前記処理ガスを除去するための排気部と、を備えたガス処理モジュールと、前記レジスト中に発生した酸により触媒反応を起こして露光領域の現像液に対する溶解性を変化させるために前記処理ガスが供給された基板を加熱する加熱モジュールと、前記加熱モジュールにて加熱された基板を現像して前記レジスト膜にパターンを形成するための現像モジュールと、を備えるように塗布、現像装置を構成し、基板に残留した液体に酸を補充する。 （もっと読む）