【課題】本発明の目的は、水による現像が可能であり、かつ高精細な画像においても画像再現性に優れる平版印刷版の作製方法及びそれに用いられる平版印刷版材料の処理装置を提供することにある。
【解決手段】水現像可能な重合型感光性平版印刷版材料を、順に画像露光、予備加熱処理、水現像処理、ガム処理して平版印刷版を作製する平版印刷版の作製方法であって、該水現像処理が浸漬処理工程およびシャワー処理工程を含むことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版原版の処理方法を提供する。
【解決手段】支持体２に画像記録層４を有する平版印刷原版１０を画像露光した後、平版印刷版原版１０の非画像部の除去を行う平版印刷原版１０の処理方法であって、平版印刷版原版１０の画像記録層４に画像露光する工程と、画像露光後の平版印刷版原版１０を加熱する工程と、加熱後の平版印刷版原版１０を強制冷却する工程と、平版印刷版原版１０を現像液に浸漬させ、画像記録層４を画像様に現像処理するとともに表面保護膜５を形成する保護処理を同時に行う工程と、をこの順に実施する。 （もっと読む）

【課題】酸性から中性域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】分子内に、（ａ１）ポリオキシアルキレン鎖を有する基と、（ａ２）カチオン性基と、（ａ３）アニオン性基とが共有結合で結合した化合物を含有することを特徴とする平版印刷版用現像処理液及び該処理液を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本レジストパターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物を用いて、基板の表面にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．５０〜１．８０である飽和炭化水素化合物（例えば、１，１−ビシクロヘキシル等）からなる液浸用液体を介在させた状態で、フォトレジスト膜に放射線を照射して露光する露光工程と、露光処理されたフォトレジスト膜を、有機溶剤（例えば、アルキルアルコール類等）を洗浄液として洗浄する洗浄工程と、洗浄処理されたフォトレジスト膜を加熱する加熱工程と、加熱処理されたフォトレジスト膜を現像する現像工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液状版感光性樹脂凸版の工程間の搬送を搬送機構によって、機械式に自動で行い、液状版感光性樹脂凸版を製版する際に好適に用いることができる、版保持具を提供する。
【解決手段】液状版感光性樹脂凸版２の横幅以上の長さを有する長尺部材３の前面又は後面に、間隔を開けて複数個のクランプ４が、前記長尺部材３との間で前記液状版感光性樹脂凸版２の版頭を挟み込むことができるように、設けられている。前記長尺部材３の側部に側面板７が設けられており、前記側面板７には穴８が形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】同一のレジスト膜に対して、複数回の露光を行い、少なくとも一つの、露光と露光との間において、レジスト膜を加熱する工程を有することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザー光を
用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平版印
刷版原版、特に、ｐＨ１０未満の水溶液や印刷機上において現像可能な高耐刷かつ耐汚れ
性良好な簡易処理型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】空中水滴接触角が７０°以上の表面を有する支持体及び感光層からなる平版印刷版原版において、前記支持体が、その表面に官能基Ｘを有する化合物を有し、この官能基Ｘは、これと相互作用することができる官能基Ｙを有する化合物と接触することにより、当該官能基Ｙを有する化合物と化学結合を形成して当該官能基Ｙを有する化合物を前記支持体表面に吸着し、前記支持体表面の空中水滴接触角を３０°以下に低下させることができる官能基であることを特徴とする平版印刷版原版及びこれを用いる平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れたグラフトポリマーパターンを、基材表面の所望の領域にのみ簡便に形成しうるグラフトポリマーパターン形成方法、エッチング工程を行うことなく微細な導電性パターンの形成が可能であり、且つ、基材界面の凹凸が少ない場合であっても基材との密着性に優れた導電性パターンを形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基材上に光硬化性樹脂組成物層を形成する工程、（ｂ）該光硬化性樹脂組成物層上に、重合性の二重結合を有する化合物を含有する光反応性層を形成する工程、及び、（ｃ）該光反応性層をパターン状に露光して、露光した領域にグラフトポリマーを生成させて、グラフトポリマーパターンを形成する工程を有することを特徴とするグラフトポリマーパターン形成方法。 （もっと読む）

三次元プリンタ用の取り外し可能なビルドボックスは、部品組立用のビルドチャンバと、このビルドチャンバへ粉末材料を供給する材料供給チャンバと、を区切るビルドボックストレイを有する。ビルドチャンバおよび供給チャンバは、下方にピストン止めを有する。ビルドチャンバピストンは最下位置でビルドチャンバおよびビルドチャンバピストン止めと係合する。供給チャンバピストンは最下位置で供給チャンバおよび供給チャンバピストン止めと係合する。ビルドチャンバピストンと、ビルドチャンバピストンに結合する際にビルドチャンバピストンを移動させるよう構築されたビルドチャンバｚ−軸作動装置とが迅速に連結される。供給チャンバピストンと、供給チャンバピストンに結合する際に供給チャンバピストンを移動させるよう構築された供給チャンバｚ−軸作動装置とが迅速に連結される。ビルドボックストレイは三次元プリンタから容易に取り外し得る。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷版原版、特に、ｐＨ１０未満の水溶液や印刷機上において現像可能な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（１）(A-1)（ａ）親水性基、（ｂ）支持体密着性基及び（ｃ
）ラジカル重合性基を有する化合物及び（B）（ｄ）ラジカル重合促進基を有する化合物
を含有する層又は(A−2)（ａ）親水性基、（ｂ）支持体密着性基、（ｃ）ラジカル重合性基及び（ｄ）ラジカル重合促進基を有する化合物を含有する層と、（２）（C）ラジカル
重合性化合物、（D）バインダーポリマー、（E）ラジカル重合開始剤及び（F）３５０〜
１２００ｎｍに吸収極大を有する増感色素を含有する感光層をこの順に有する平版印刷版原版並びにそれを用いた平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法。 （もっと読む）

本発明は、構造（１）のラクタム基を含むポリマーを含む、フォトレジストパターンを被覆するための水性コーティング組成物に関する。


式中、Ｒ_１は独立して水素、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキルアルコール、ヒドロキシ（ＯＨ）、アミン（ＮＨ_２）、カルボン酸及びアミド（ＣＯＮＨ_２）から選択され、


は、ポリマーへの結合を表し、
ｍは１〜６であり、そしてｎは１〜４である。
また本発明は、微細電子デバイスの製造方法にも関する。
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本願は、ａ） 酸不安定性基を含むポリマー； ｂ） （ｉ）、（ｉｉ）及びこれらの混合物から選択される化合物［ここで（ｉ）はＡｉＸｉＢｉであり、そして（ｉｉ）はＡｉＸｉ１である］及びｃ） 式ＡｉＸｉ２の化合物の化合物を含む組成物に関する。ここで、Ａｉ、Ｂｉ、Ｘｉ、Ｘｉ１、及びＸｉ２は本明細書で定義される。該組成物は、半導体工業に有用である。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ法を用いる場合に、良好な形状を持つレジストパターンを安定して得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０３を形成し、該レジスト膜１０３の上に液体１０７に対して不溶な上層膜１０４を形成する。その後、上層膜１０４の表面をフッ素コートにより撥水性を持たせ、表面がフッ素コートされた上層膜１０４と投影レンズ１０６との間に液体１０７を満たした状態で、上層膜１０４を介してレジスト膜１０３に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。続いて、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０３に対して現像を行なって、レジスト膜１０３から、形状が良好なレジストパターン１０３ａを形成する。 （もっと読む）

本発明は、次式を有するポリマーに関する。
【化１】


式中、Ｒ_３０、Ｒ_３１、Ｒ_３２、Ｒ_３３、Ｒ_４０、Ｒ_４１、Ｒ_４２、ｊｊ、ｋｋ、ｍｍ、及びｎｎは明細書に記載の通りである。これらの化合物は、フォトレジスト組成物の調製に有用である。
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【解決手段】フォトレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、ウエハーと投影レンズの間に屈折率１．４以上の液体を挿入して１８０〜２５０ｎｍの波長で露光する工程と、加熱処理後現像液を用いて現像する工程と、現像後のリンスを炭素数１〜４のアルコールを０．１〜５０質量％含む純水で行う工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によって、液浸リソグラフィーにおいてホールパターンの閉塞欠陥やブロッブ欠陥を削減できる。 （もっと読む）

【課題】ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めることが可能であり、かつ安全性に優れたレジスト表面改質剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸素原子で中断されていてもよい炭素数８〜２０の１個のアルキル基又はヒドロキシアルキル基と炭素数１〜５の２個のアルキル基又はヒドロキシアルキル基とを有するアミンオキシド化合物の少なくとも１種と、酸素原子で中断されていてもよい炭素数８〜２０の２個のアルキル基又はヒドロキシアルキル基と炭素数１〜５の１個のアルキル基又はヒドロキシアルキル基とを有するアミンオキシド化合物の少なくとも１種と、を含有する水性溶液をレジスト表面改質剤とする。 （もっと読む）

【課題】ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を十分に高めること。
【解決手段】一般式（１）及び（２）で表されるアミンオキシド化合物の１種を含有する水性溶液をレジスト表面改質剤。
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【課題】ホトレジスト膜表面を改質して現像液に対する濡れ性を高める。
【解決手段】一般式（１）及び（２）で表されるアミンオキシド化合物の１種と、アニオン性界面活性剤と、を含有する水性溶液をレジスト表面改質剤。
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本発明は、次式の化合物であって、
ＡｉＸｉ
ここで、Ａｉは有機オニウムカチオンであり；並びに、
ＸｉはＸ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−ＳＯ_３￣のアニオンである化合物に関する。
化合物は光活性化合物として使用できる。
ここで、Ａｉは、化学式（Ｉ）およびＹ−Ａｒから選択され、
ここで、Ａｒは化学式（ＩＩ）、ナフチル、または、アントリルから選択され；
Ｙは、化学式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および（Ｖ）から選択される。

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