【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト保護膜材料、更にはこの材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、側鎖にヘキサフルオロヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリレート単位、側鎖にフッ素含有環状エーテル構造含有基を有する（メタ）アクリレート単位、及び側鎖にスルホン酸基を有するビニルモノマー単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲内である高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 （もっと読む）

【課題】 煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 〔Ｉ〕基板上に有機パターンを形成する工程と、
〔II〕前記有機パターンのパターン間に絶縁材料を埋め込む工程と、
〔III〕前記有機パターンを除去し、前記絶縁材料からなる反転パターンを得る工程と、
〔IV〕得られた反転パターンを硬化させる工程と、
を有することを特徴とする、絶縁パターン形成方法と、ダマシンプロセス用絶縁パターン形成材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）を有する第一の重合体を含む重合体成分と、（Ｂ）溶剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は、相互に独立に、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基等を示す。Ｒｆは、少なくとも１つのフッ素原子を有するともに、ＣＯＯＲ^４で表される基を有する有機基等を示す。） （もっと読む）

【課題】良好な焦点深度をはじめとする良好な解像度を提供する新規のフォトレジストシステムの提供。
【解決手段】樹脂、光活性成分、およびフェノール系成分；を含む化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物のレリーフ像を半導体基体上にコーティングした半導体基体を提供し；並びにイオンを前記基体に適用する；ことを含む、イオン注入された半導体基体を提供する方法 （もっと読む）

【課題】残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、当該塗膜又は成形体に所定パターン状に電磁波を照射後、未露光部の塗膜を除去してパターンを形成する現像工程の前に、当該塗膜又は成形体を加熱する工程を有するレリーフパターンの製造方法であって、前記加熱する工程が、系外から積極的かつ継続的に気体が供給され、且つ、当該塗膜又は成形体から発生する揮発性成分が系外に積極的に除去される雰囲気下で、熱媒体を介するか、電磁波の輻射により、当該塗膜又は成形体を加熱する工程であることを特徴とする、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】指紋汚れ及び指紋抜けが改善された感熱型平版印刷版の印刷方法を提供する。
【解決手段】耐水性支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂及び水溶性高分子化合物を含有する画像形成層を有する平版印刷版の画像形成層を画像様に加熱することで画像部を形成した後、印刷開始前に無機微粒子、及び重合度４以下の糖類を少なくとも１種含有する版面処理液を版面に付与した後に印刷を行うことを特徴とする感熱型平版印刷版の印刷方法。 （もっと読む）

【課題】合成が容易で、触媒活性が高い塩基である３級のアミンやアミジンを発生可能な塩基発生剤、及び当該塩基発生剤を用いた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸と塩基を含む構造を有し、電磁波の照射により塩基を発生することを特徴とする塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】スキャンスピードが高速（例えば、７００ｍｍ／ｓ）であっても水残りを抑制でき、さらに液浸液と上層膜との界面におけるバブルの発生をも抑制することのできる液浸上層膜を形成できる上層膜形成用組成物の提供。
【解決手段】液浸上層膜形成用組成物は、下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位および（１−２）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種、炭化水素基を有する繰り返し単位およびフッ素置換炭化水素基を有する繰り返し単位を含有する重合体（Ａ）と溶剤（Ｓ）とを含む。


（一般式（１−１）及び（１−２）中、Ｒ^１は水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立に単結合又は炭化水素基を示し、Ｒ^４はフッ素原子置換炭化水素基を示す。） （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び溶剤除去工程の寛容度に優れ、かつ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物により形成された硬化膜を層間絶縁膜として具備する、信頼性と生産性の高い、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（１）と、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）と、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）と、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたリソ性能を有し、かつ順テーパー型断面形状を有するパターンを形成可能なネガ型感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂：１００質量部、（ｂ）活性光線の照射により酸を発生する化合物：０．１〜２０質量部、（ｃ）酸の作用により架橋又は重合し得る化合物：１〜５０質量部、及び（ｄ）分子構造中に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物：１〜５０質量部、を含有する、ネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、前記第一のレジストパターンを溶解しない有機溶剤を含有するパターン反転用組成物を塗布してパターン反転用膜を形成し、アルカリ現像することにより、前記第一のレジストパターンを除去してパターンを形成する工程とを有し、前記化学増幅型ポジ型レジスト組成物は、酸発生剤成分（Ｂ）と、酸解離性溶解抑制基を有する基材成分（Ａ）とを含有し、前記パターン反転用組成物は、前記（Ａ）成分中の酸解離性溶解抑制基を解離し得る酸成分（Ｈ）と、酸解離性溶解抑制基を有さない基材成分（Ａ”）とを含有し、前記パターン反転用膜は、アルカリ現像液に対する溶解速度が０．３〜３．５ｎｍ／秒であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターンニングに用いられ、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】所定の工程としてダブルパターニングを行うことを含むレジストパターン形成方法で用いられ、（ａ）ラクトン構造もしくは環状カーボネート構造を有する繰り返し単位を含み、さらに酸不安定基を有する繰り返し単位を含む重合体と、（ｂ）感放射線性酸発生剤と、（ｃ）溶剤と、を含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜をスタティックな現像方式で現像したときに発生する異物付着を解決し、スタティックな現像方式の利点を活かしつつ、異物の少ないフォトマスク製造方法を提供する。
【解決手段】基板１に形成したレジスト膜３に露光処理を施した後、レジスト膜３に静置状態で現像液を付与することで露光部分を現像液中に溶解させるレジスト膜の現像方法において、現像のための溶解中に、基板１、異物７を帯電させることにより、電気的な反発作用によって異物７を脱離、付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】 スカム及びウォーターマーク欠陥が少ないパターンの形成を可能とする。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂（Ｃ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】水洗工程を必要としない１液１工程の簡易処理が可能であり、優れた現像性を示し、かつ、良好な耐刷性を有し、印刷汚れを生じない平版印刷版を提供することができる平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）増感色素及び（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層と保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、レーザー露光した後、現像液の存在下に保護層及び非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法であって、前記現像液が、両性イオン系界面活性剤及びアルキレンオキサイド鎖を有するノニオン系界面活性剤を含有するｐＨが２以上１０未満の現像液であることを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】エッジ汚れを発生することのない新聞印刷用の機上現像型平版印刷版原版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に赤外線吸収染料、ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性化合物及びポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有する高分子化合物を含有し、印刷機のシリンダー上で印刷インキ及び／又は湿し水により現像可能な画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該平版印刷版原版の端部から１ｃｍ以内の領域を有機溶剤及び水溶性樹脂を含有する液で処理することにより得られた新聞印刷用平版印刷版原版。 （もっと読む）

本発明は、式（I）又は（II）の酸、例えば、相応するスルホニウム塩及びインドニウム塩ならびに相応するスルホニルオキシムを生成する化合物に属し、式（I）又は（II）中、ＸはＣＨ₂又はＣＯであり；ＹはＯ、ＮＲ₄、Ｓ、Ｏ（ＣＯ）、Ｏ（ＣＯ）Ｏ、Ｏ（ＣＯ）ＮＲ₄ 、ＯＳＯ₂、Ｏ（ＣＳ）又はＯ（ＣＳ）ＮＲ₄ であり；Ｒ₁は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ₂〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ_３〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、中断されているＣ_３〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、中断されているＣ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル、ビフェニリル、フルオレニル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている；又はＲ₁は、ＮＲ₁₂Ｒ₁₃であり；Ｒ₂とＲ₃は、例えば、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキレン、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキレン、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキレン、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニレン、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニレン、フェニレン、ナフチレン、アントラシレン、フェナントリレン、ビフェニレン又はヘテロアリーレンであり；全て非置換であるか又は置換されている；Ｒ₄は、例えばＣ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり；Ｒ₁₂とＲ₁₃は、例えばＣ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル、Ｃ₃〜Ｃ₃₀−シクロアルキル−Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₁₀−ハロアルキル、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルケニル、Ｃ₄〜Ｃ₃₀−シクロアルケニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル、Ａｒ、（ＣＯ）Ｒ₁₅、（ＣＯ）ＯＲ₁₅又はＳＯ₂Ｒ₁₅であり；かつＡｒは、フェニル、ビフェニリル、フルオレニル、ナフチル、アントラシル、フェナントリル又はヘテロアリールであり、全て非置換であるか又は置換されている。
（もっと読む）

【課題】より優れた形状及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基；Ｘ^１は炭素数２〜３６の複素環であり、該複素環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜２４の炭化水素基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜４のアシル基又は炭素数２〜４のアシルオキシ基で置換されていてもよく、該複素環に含まれる−ＣＨ_２−は−ＣＯ−又は−Ｏ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性組成物を含有してなる光架橋性樹脂層を形成する工程、（ｂ）アルカリ水溶液によって未硬化部の光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、（ｃ）回路パターンの露光工程、（ｄ）現像工程を含むレジストパターンの作製方法で使用される光架橋性組成物が、ジアルキルアミノベンゼン構造を有する化合物を含有してなることを特徴とする光架橋性樹脂組成物。 （もっと読む）