【課題】溶媒の冷却や溶解時の加熱を必要とせず、乾燥時間と溶解時間の合計の工程通過時間を短縮できるようにした、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が６５〜９０質量％の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が０〜４５℃であり、前記良溶媒の温度が０〜４０℃である、リソグラフィー用重合体溶液を製造する。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる画像露光が可能な機上現像性平版印刷版原版を、リスフィルムを介してＵＶ露光を行い、機上現像する平版印刷版の製版において、耐刷性及び機上現像性が良好で、機上現像時にカス析出が起こり難く、リスフィルムとの真空密着性が良好な製版方法を提供する。
【解決手段】（１）支持体と、シアニン染料、フェニル基上に置換基を有していてもよいジフェニルヨードニウム塩またはトリフェニルスルホニウム塩、ラジカル重合性化合物及びポリオキシアルキレン鎖を側鎖に有するポリマー微粒子を含有する画像記録層とをこの順に有する波長７６０〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザーによる画像形成が可能な平版印刷版原版を準備し、（２）平版印刷版原版の上にリスフィルムを置き、減圧することによりリスフィルムと平版印刷版原版を密着させ、（３）ＵＶ露光後、（４）機上現像することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたレジストを除去する際のレジストの残渣の発生を抑える一方で、基板を洗浄する際の洗浄能力の低下を図る。
【解決手段】被噴射体噴射装置は、回転軸４１を有し、回転軸４１の回転によって基板を回転させるスピンナー４０と、基板に相対する位置であってスピンナー４０の回転軸４１からずれて配置され、被噴射体を噴射するノズル２４及びノズル２５と、を備え、スピンナー４０の回転軸４１の方向に見て、ノズル２４の噴射口２４Ａがスピンナー４０の回転軸４１が回転する向きと向き合っており、ノズル２５の噴射口２５Ａが第一ノズル２４の噴射口２４Ａの向きとは逆向きである。 （もっと読む）

【課題】現像後の余分なフォトレジストの存在を容易に把握することができる検査支援方法、検査方法、フォトマスク、及び検査支援システムを提供する。
【解決手段】ウェハ１００に積層されたレジスト１０２に所定解像度の回路パターンを転写するための転写パターン１８が形成され、かつ転写パターン１８を構成している領域の一部に所定解像度よりも高解像度の検査用パターンが形成されたフォトマスク１４を介して、レジスト１０２に所定解像度に対応する所定波長光を予め定められた照射時間照射することにより回路パターンをレジスト１０２に転写し、レジスト１０２に回路パターンが転写された後にレジスト付きウェハ１０４を現像液槽１６の現像液に浸漬する。 （もっと読む）

【課題】 基板現像工程を行うための装置が開示される。
【解決手段】 基板を支持するための基板支持部の互いに向い合う両側には現像ノズルを洗浄するための第１洗浄タンクと第２洗浄タンクを配置することができる。前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給した後、前記現像ノズルは、前記第２洗浄タンクに収容されることが可能であり、前記現像ノズルについている現像液は前記第２洗浄タンク内で洗浄液によって除去することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄特性が著しく向上しており、現像装置に悪影響を及ぼすことなく、平版印刷版原版の現像装置内の付着堆積物を、非常に効率よく除去することができる現像装置用洗浄組成物を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版の現像装置用洗浄組成物であって、（ａ）酸化剤および（ｂ）活性化剤を含むことを特徴とする洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたリブパターンの形成方法、及び電子部品の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリアミック酸と、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）少なくとも一つのメチロール基又はアルコキシアルキル基を有する熱重合性化合物と（Ｄ）光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

版処理装置に備わる現像液再利用装置であって、未使用現像液容器（１３）と、版処理に備え未使用現像液容器（１３）から現像液を受け入れる（１５）よう構成されている現像部用タンク（１０）と、現像部用タンク（１０）から使用済の現像液を受け入れる（１６）よう構成されている使用済現像液容器（１４）と、使用済の現像液の導電率に応じ使用済現像液容器（１４）からの返戻で現像液を補給する（２１）よう構成されている補給手段と、を備える。
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【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版原版の自動現像装置と平版印刷版原版の処理方法を提供する。
【解決手段】現像処理時以外のときに、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理する現像液を雰囲気の温度より低い温度に冷却する現像液冷却手段を備えている。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版原版の自動現像装置と平版印刷版原版の処理方法を提供する。
【解決手段】支持体上に形成された画像記録層に画像露光された平版印刷版原版を現像する平版印刷版原版の自動現像装置であって、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理する現像液に、波長２００ｎｍから４５０ｎｍの光を照射して、現像液中に凝集物を発生させる光照射部と、凝集物を捕集するフィルタ部とを備えている。 （もっと読む）

【課題】高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版原版の自動現像装置と平版印刷版原版の処理方法を提供する。
【解決手段】支持体上に形成された画像記録層に画像露光された平版印刷版原版を現像する平版印刷版原版の自動現像装置であって、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理する現像液に超音波を発振し、現像液中に凝集物を発生させる超音波発振部と、凝集物を捕集するフィルタ部とを備えている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【解決課題】 製造したレジスト組成物より得たレジスト膜の解像性能の安定化を可能とするレジスト組成物の製造方法、及びその製造方法により経時劣化のロット間差の小さなレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 結合剤、酸発生剤、窒素含有塩基性物質及び溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法であって、前記溶剤として、過酸化物含有量が許容値以下である溶剤を選択する工程と、前記選択された溶剤中でレジスト組成物構成用材料を混合する工程とを含んでなる化学増幅型レジスト組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】超臨界流体を用いた洗浄対象物の洗浄効率を高めるとともに、バックプレッシャーバルブへの負担を軽減できるようにすること。
【解決手段】本発明は、超臨界流体の圧力を急速に変動させ、洗浄対象物である基板１４に供給して洗浄処理を施す洗浄装置において、基板１４を配置する処理チャンバ１３と、処理チャンバ１３と連通する予備チャンバ１８と、処理チャンバ１３内に配置された基板１４に超臨界流体の圧力を変動させて洗浄処理を施す際、処理チャンバ１３から予備チャンバ１８側に超臨界流体を排出する開閉バルブ１７の開閉制御を行う制御手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】製造ラインの塗布装置を用いずに、その塗布装置に適用できる塗布膜用溶液を簡便に評価する。
【解決手段】カラーレジスト溶液２０と接触する半導体装置製造用の塗布装置の部材と同材料からなり、カラーレジスト溶液２０が密閉状態で充填される評価用容器３０と、塗布装置からカラーレジスト溶液２０を塗布する温度以上、カラーレジスト溶液２０を乾燥する温度未満に、評価用容器３０に充填されたカラーレジスト溶液２０を加熱する恒温槽３２と、加熱後のカラーレジスト溶液２０に含まれる凝集物数を検出する面板ダストカウンタとを備え、その検出結果に基づいて、カラーレジスト溶液２０が塗布装置に適用可能か否かを評価する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ上に形成された微細構造体のパターンを崩壊させることなく乾燥処理を行えるようにした、微細構造体の処理方法と処理装置、及び微細構造体を提供する。
【解決手段】湿式処理装置２によって処理された微細構造体の表面の微細構造部を、超臨界二酸化炭素の臨界圧力以上の環境下における融点が３１℃以上である、置換媒体である固体物質による保護膜で被覆する工程と、微細構造体の表面の保護膜である固体物質を超臨界二酸化炭素で溶解除去して、微細構造体を乾燥する工程とを有する処理方法により、微細構造体を処理する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】支持体１上に、第一のレジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成する工程と、前記第一のレジスト膜２を、第一のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像して第一のレジストパターン３を形成する工程と、前記第一のレジストパターン３が形成された前記支持体１上に、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤（Ｓ”）を含有するネガ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成する工程と、前記第二のレジスト膜６を、第二のマスクパターンを介して選択的に露光し、現像してレジストパターン３、７を形成する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー限界以上のピッチを有する微細パターンを形成する製造方法を提供する。
【解決手段】被食刻層１３を有する半導体基板１１上に化学増幅型フォトレジストパターン１５を形成し、この上にシリコン含有ポリマーをスピンコーティングする。露光、ベークしフォトレジストパターンとシリコン含有ポリマーの界面に架橋結合層１９を形成する。これを現像し架橋結合がなされていないシリコン含有ポリマーを除去し、フォトレジストパターンの周辺のみに架橋結合層を形成する。フォトレジストパターンの上部が露出するまで架橋結合層をエッチバックし、フォトレジストパターンの側壁に架橋結合層を残す。フォトレジストパターンを除去して架橋結合層からなる微細パターンとする。これを食刻マスクにして被食刻層をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基で保護された２級アミノ基を有する感光性シランカップリング剤。基板１の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行ない、露光部３に２級アミノ基を発生させ、露光部２に選択的に微粒子を配する。得られた微粒子パターを用いて単一電子素子、パターンドメディア、化学センサ、量子ドットレーザー素子、フォトニック結晶光学デバイスなどを作製する。 （もっと読む）