基板現像方法及びこれを行うための装置
【課題】 基板現像工程を行うための装置が開示される。
【解決手段】 基板を支持するための基板支持部の互いに向い合う両側には現像ノズルを洗浄するための第１洗浄タンクと第２洗浄タンクを配置することができる。前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給した後、前記現像ノズルは、前記第２洗浄タンクに収容されることが可能であり、前記現像ノズルについている現像液は前記第２洗浄タンク内で洗浄液によって除去することができる。
【解決手段】 基板を支持するための基板支持部の互いに向い合う両側には現像ノズルを洗浄するための第１洗浄タンクと第２洗浄タンクを配置することができる。前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。前記現像液を供給した後、前記現像ノズルは、前記第２洗浄タンクに収容されることが可能であり、前記現像ノズルについている現像液は前記第２洗浄タンク内で洗浄液によって除去することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板現像方法及びこれを行うための装置に係り、より詳細には現像液を基板上に供給して基板を現像する方法およびこれを行うための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程または平板表示装置の製造工程において、回路パターンは、半導体ウエハまたは／およびガラス基板のような基板上にフォトリソグラフィ技術によって形成される。
【０００３】
フォトリソグラフィ技術は、基板上にフォトレジスト膜を形成するためにフォトレジスト組成物を前記基板上に供給するコーティング工程、前記フォトレジスト膜を硬化させるベーク工程、マスクの回路パターンを前記フォトレジスト膜に伝写する露光工程、そして現像液を用いて前記基板上に前記回路パターンを形成するための現像工程を含むことができる。
【０００４】
一般的に、現像工程を行う装置は、露光工程が行われた基板を支持する回転チャックと、前記基板上に現像液を供給するノズルを含むことができる。前記ノズルは、前記基板より長い長さを有し、前記基板上部で移動可能に配置される。即ち、前記ノズルは前記基板の上部面と平行な方向に移動しながら前記基板上に現像液を供給することができる。前記のような基板現像装置の一例は、特許文献１に開示されている。
【０００５】
前記特許文献１によると、前記スピンチャック上に支持された基板の一側には前記ノズルを洗浄するための洗浄タンク（ｗａｓｈｉｎｇ ｔａｎｋ）を配置することができ、前記ノズルは前記洗浄タンクから前記基板の他側に前記基板と平行に移動しながら前記基板上に現像液を供給することができる。しかし、前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうち、前記ノズルから洗浄液が前記基板上に落ちるおそれがあり、これによって現像不良または線幅不良が発生するおそれがある。
【０００６】
前記のような問題点を解決するために、まず、前記ノズルを前記基板の他側に移動させ、続いて前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうちに前記基板上に現像液を供給することができる。この場合、前記ノズルが前記基板の他側に移動するうちに、前記ノズルに前記現像液がつくおそれがあり、前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうちに、前記ノズルについている現像液が前記基板上に落ちるおそれがある。これによって、前記基板の現像不良または線幅不良が発生するおそれがある。
【０００７】
また、前記基板の他側に前記ノズルが移動するうちに前記現像液が供給されないおそれがある。しかし、この場合には前記現像工程を行うのに所要される時間が増加するおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国登録特許第６，３８４，８９４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、現像不良および線幅不良を減少させるおそれがあり、現像工程に所要される時間を短縮することができる基板現像方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の他の目的は、前述したような基板現像方法を行うのに適合する基板現像装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一側面による基板現像方法は、基板支持部によって支持された基板の一側に配置された第１洗浄タンクから現像ノズルを分離させる段階と、前記現像ノズルを前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う水平方向に移動させながら前記基板上に現像液を供給する段階と、前記第２洗浄タンクを前記現像ノズルを収容させる段階と、前記第２洗浄タンク内で前記現像ノズルを洗浄する段階と、を含むことができる。
【００１２】
本発明の実施例によると、前記現像液の供給後、前記基板支持部を囲むように配置されたカップを前記基板を囲むように上方に移動させ、その後、前記現像液が供給された基板を洗浄するために洗浄液を前記基板上に供給することができる。前記洗浄液によって洗浄された基板を乾燥させ、その後、前記カップを下方に移動させることができる。
【００１３】
本発明の他の側面による基板の現像方法は、基板支持部によって支持された一側に配置された第１洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う第１水平方向に現像ノズルを移動させかつ前記基板上に現像液を一次供給する段階と、前記第２洗浄タンクで前記現像ノズルを１次洗浄する段階と、前記第２洗浄タンクから前記第１洗浄タンクに向う第２水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を２次供給する段階と、前記第１洗浄タンクで前記現像ノズルを２次洗浄する段階と、を含むことができる。
【００１４】
本発明に実施例によると、前記基板は前記現像液の１次供給後に１次洗浄することができ、前記現像液の２次供給後に２次洗浄することができる。また、前記基板は２次洗浄の後に乾燥させることができる。
【００１５】
本発明の更に他の側面による基板現像装置は、基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された基板の上部で水平方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、前記基板支持部の一側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第１洗浄タンクと、前記基板支持部の他側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第２洗浄タンクと、を含むことができる。
【００１６】
本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記第１洗浄タンクに連結され、前記第１洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第１洗浄液供給部と、前記第２洗浄タンクに連結され、前記第２洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第２洗浄液供給部と、を更に含むことができる。
【００１７】
本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことができる。
【発明の効果】
【００１８】
前述したような本発明の実施例によると、基板上に現像液を供給した後、現像ノズルは、第１または第２洗浄タンク内で洗浄することができる。よって、前記現像ノズルから現像液が前記基板上に落ちることを防止することができる。結果的に、前記現像液の滴下によって発生しうる問題点を除去することができる。
【００１９】
また、現像ノズルを洗浄するために、または現像液の滴下を防止するために前記現像ノズルを不必要に移動させる必要がない。よって、前記現像工程を行うのに所要される時間
を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施例による基板現像方法を説明するためのフローチャートである。
【図２】図１に示した基板現像方法を行うための基板現像装置を説明するための概略図である。
【図３】本発明の他の実施例による基板現像方法を説明するためのフローチャートである。
【図４】図３に示した基板現像方法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図２は、図１に示した基板の現像方法を行うための基板現像装置を説明するための概略図である。
【００２３】
図１及び図２を参照すると、本発明の一実施例による基板現像装置１００は、シリコンウエハのような半導体基板またはガラス基板に対する現像工程を行うために用いることができる。前記基板現像装置は、基板支持部１１０、現像ノズル１２０、第１洗浄タンク１３０、及び第２洗浄タンク１４０を含むことができる。
【００２４】
前記基板支持部１１０は、基板１１１を支持する支持部材１１２と前記支持部材１１２の下部に連結された駆動軸１１３を含むことができる。前記駆動軸１１３は、前記基板１１１に対する洗浄工程および乾燥工程を行うために前記基板１１１を回転させるモーター（図示せず）と連結することができる。
【００２５】
現像ノズル１２０は、基板支持部１１０によって支持された基板１１１上に現像液を供給することができる。前記現像ノズル１２０は、駆動部（図示せず）によって水平方向及び垂直方向に移動可能に配置することができる。特に、前記駆動部は、前記基板１１１上に前記現像液を供給するために前記現像ノズル１２０を基板１１１の上部面と平行な方向に移動させることができる。
【００２６】
前記現像ノズル１２０は、前記水平方向に対して垂直する他の水平方向に長く延長することができ、前記現像液を前記基板１１１上に供給するためのスリット（図示せず）を有することができる。特に、前記現像ノズル１２０は、前記基板１１１の直径または幅より長い長さを有することができる。
【００２７】
本発明の他の実施例によると、前記現像ノズル１２０は、前記現像液を前記基板１１１上に供給するために前記現像ノズル１２０の長手方向に配列された複数のホール（図示せず）を有することができる。
【００２８】
前記現像ノズル１２０は、現像液供給部（図示せず）と現像液供給管（図示せず）を通じて連結することができ、前記現像ノズル１２０が前記基板１１１の上部で水平方向に移動する期間、前記基板１１１上に前記現像液を供給することができる。
【００２９】
前記第１洗浄タンク１３０と第２洗浄タンク１４０は、前記基板支持部１１０の互いに向い合う両側にそれぞれ配置することができる。即ち、前記第１洗浄タンク１３０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１の一側に配置されることが可能であり、前記第２洗浄タンク１４０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１の
他側に配置することができる。前記第１洗浄タンク１３０と第２洗浄タンク１４０は、前記現像ノズル１２０が待機する待機ポートとして用いることができる。
【００３０】
前記第１洗浄タンク１３０及び第２洗浄タンク１４０は、前記現像ノズル１２０の下部についている現像液を除去するための洗浄液を収容することができる。即ち、それぞれの第１及び第２洗浄タンク（１３０及び１４０）は前記洗浄液を収容するための内部空間及び開放された上部（ｏｐｅｎ ｕｐｐｅｒ ｐｏｒｔｉｏｎ）を有することができる。また、前記第１洗浄タンク１３０及び第２洗浄タンク１４０は前記洗浄液を供給するための第１洗浄液供給部１３２と第２洗浄液供給部１４２とそれぞれ連結することができる。前記現像ノズル１２０は、前記第１または第２洗浄タンク（１３０または１４０）の開放された上部を通じて前記第１または第２洗浄タンク（１３０または１４０）に挿入することができ、前記現像ノズル１２０についている現像液は前記洗浄液によって除去することができる。
【００３１】
前記現像ノズル１２０は、第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第２水平方向に移動するか、前記第２洗浄タンク１４０から第２洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に移動しながら前記基板１１１上に現像液を供給することができる。
【００３２】
前記現像液を供給する前または前記現像液を供給した後、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０または第２洗浄タンク１４０内で待機することができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０または第２洗浄タンク１４０に収容された洗浄液によって洗浄することができる。
【００３３】
一方、前記基板現像装置１００は、前記基板支持部１１０と前記第１及び第２洗浄タンク（１３０及び１４０）との間に配置されるカップ１５０を更に含むことができる。前記カップ１５０は、垂直方向に移動可能に配置することができる。例えば、前記カップ１５０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１を囲むように上方に移動することができる。
【００３４】
前記基板１１１に対する現像工程を行った後、前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記基板１１１は、前記洗浄液を除去するためにそして前記基板１１１を乾燥させるために前記基板支持部１１０によって回転することができ、前記カップ１５０は、前記基板１１１の回転によって前記基板１１１から離脱する洗浄液を遮断するために上方に移動することができる。
【００３５】
その後、図１及び図２を参照して本発明の一実施例による基板現像方法について説明する。
【００３６】
露光工程が行われた基板１１１を前記基板支持部１１０上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０内で待機することができる。
【００３７】
Ｓ１０段階で、前記現像ノズル１２０を第１洗浄タンク１３０から分離することができる。例えば、前記現像ノズル１２０は、前記駆動部によって上方に移動することができる。
【００３８】
Ｓ１１段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第１水平方向に前記駆動部によって移動することができ、その間、前記現像液を前記基板１１１上に供給することができる。ここで、前記基板１１１と前記現像ノズル１２０との間隔は約１ｍｍ〜２ｍｍであってもよい。
【００３９】
Ｓ１２段階で、前記現像ノズル１２０は、第２洗浄タンク１４０内に収容することができる。即ち、前記駆動部は、前記現像ノズル１２０の下部が前記第２洗浄タンク１４０に収容された洗浄液に浸漬するように前記現像ノズル１２０を下方に移動させることができる。
【００４０】
Ｓ１３段階で、前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容された洗浄液によって洗浄することができる。前記現像ノズル１２０についている現像液が前記洗浄液によって除去されることが可能である。
【００４１】
前記のように、前記基板１１１上に現像液を供給した後、前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機するので、前記第１洗浄タンク１３０に戻る必要がない。即ち、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を行うことで発生しうる問題点、例えば、現像不良、線幅不良、などを除去することができ、また前記現像工程に所要される時間を短縮することができる。
【００４２】
一方、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０から前記第１洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に移動しながら後続する基板上に前記現像液を供給することができる。
【００４３】
段階Ｓ１４で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０を上方に移動することができる。
【００４４】
Ｓ１５段階で、前記基板１１１を洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は、洗浄ノズル（図示せず）から前記基板１１１の中心部位に供給することができ、前記基板１１１は既に設定された速度で回転することができる。ここで、前記遠心力によって前記基板１１１から飛散される洗浄液は前記カップ１５０によって遮断することができる。
【００４５】
Ｓ１６段階で、前記洗浄段階（Ｓ１５）を行った後、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板１１１を乾燥させることができる。
【００４６】
Ｓ１７段階で、前記カップ１５０を下方に移動することができ、その後、基板移送部（図示せず）によって前記基板１１１を前記基板支持部１１０からアンロードすることができる。
【００４７】
図３は、本発明の他の実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図４は、図３に示した基板現像方法を説明するための概略図である。
【００４８】
図３及び図４を参照すると、露光工程の行われた基板１１１を前記基板支持部１１０上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０内で待機することができる。
【００４９】
Ｓ２０段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０から分離することができ、その後、前記現像ノズル１２０は前記第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第１水平方向に前記駆動部によって異動することができる。また、前記現像ノズル１２０が第１水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板１１１上に１次供給
することができる。
【００５０】
Ｓ２１段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容することができる。前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容された洗浄液によって１次洗浄することができる。即ち、前記現像ノズル１２０についている現像液を前記洗浄液によって除去することができる。
【００５１】
Ｓ２２段階で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０が上方に移動することができる。
【００５２】
Ｓ２３段階で、前記基板１１１を１次洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は洗浄ノズル（図示せず）から前記基板１１１の中心部位に供給することができ、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができる。ここで、遠心力によって前記基板１１１から飛散される洗浄液は前記カップ１５０によって遮断されることが可能である。
【００５３】
Ｓ２４段階で、前記カップ１５０が下方に移動することができる。
【００５４】
Ｓ２５段階で、前記現像ノズル１２０を第２洗浄タンク１４０から分離することができ、その後、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０から第１洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に前記駆動部によって移動することができる。また、前記現像ノズル１２０が第２水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板１１１上に２次供給することができる。ここで、前記１次現像段階（Ｓ２０）で前記現像ノズル１２０についている現像液は前記第２洗浄タンク１４０内で除去されるので、前記現像ノズル１２０についている洗浄液による現像不良および線幅のような問題は発生しない。
【００５５】
Ｓ２６段階で、前記現像ノズル１２０は、第１洗浄タンク１３０内に収容することができる。前記現像ノズル１２０が前記第１洗浄タンク１３０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１３０内に収容された洗浄液によって２次洗浄することができる。
【００５６】
Ｓ２７段階で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０を上方に移動することができる。
【００５７】
Ｓ２８段階で、前記基板１１１を２次洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができ、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができる。
【００５８】
Ｓ２９段階で、前記２次洗浄段階（Ｓ２８）を行った後、前記基板１１１は既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板１１１を乾燥させることができる。
【００５９】
Ｓ３０段階で、前記カップ１５０が下方に移動することができ、その後、基板移送部（図示せず）によって前記基板１１１が前記基板支持部１１０からアンロードされることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
前述したような本発明の実施例によると、基板上に現像液を供給した後、現像ノズルは第１または第２洗浄タンク内で洗浄することができる。よって、前記現像ノズルから現像液が前記基板上に落ちることを防止することができる。結果的に、前記現像液の滴下によ
って発生しうる現像不良及び線幅不良を防止することができる。
【００６１】
また、現像ノズルを洗浄するために、または現像液の滴下を防止するために、前記現像ノズルを移動させる必要がない。よって、前記現像工程を行うのに所要される時間を短縮することができる。
【００６２】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離脱することなく、本発明を修正または変更できる。
【符号の説明】
【００６３】
１００ 基板現像装置
１１０ 基板支持部
１２０ 現像ノズル
１３０ 第１洗浄タンク
１３２ 第１洗浄装置
１４０ 第２洗浄タンク
１４２ 第２洗浄装置
１５０ 遮断壁
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板現像方法及びこれを行うための装置に係り、より詳細には現像液を基板上に供給して基板を現像する方法およびこれを行うための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程または平板表示装置の製造工程において、回路パターンは、半導体ウエハまたは／およびガラス基板のような基板上にフォトリソグラフィ技術によって形成される。
【０００３】
フォトリソグラフィ技術は、基板上にフォトレジスト膜を形成するためにフォトレジスト組成物を前記基板上に供給するコーティング工程、前記フォトレジスト膜を硬化させるベーク工程、マスクの回路パターンを前記フォトレジスト膜に伝写する露光工程、そして現像液を用いて前記基板上に前記回路パターンを形成するための現像工程を含むことができる。
【０００４】
一般的に、現像工程を行う装置は、露光工程が行われた基板を支持する回転チャックと、前記基板上に現像液を供給するノズルを含むことができる。前記ノズルは、前記基板より長い長さを有し、前記基板上部で移動可能に配置される。即ち、前記ノズルは前記基板の上部面と平行な方向に移動しながら前記基板上に現像液を供給することができる。前記のような基板現像装置の一例は、特許文献１に開示されている。
【０００５】
前記特許文献１によると、前記スピンチャック上に支持された基板の一側には前記ノズルを洗浄するための洗浄タンク（ｗａｓｈｉｎｇ ｔａｎｋ）を配置することができ、前記ノズルは前記洗浄タンクから前記基板の他側に前記基板と平行に移動しながら前記基板上に現像液を供給することができる。しかし、前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうち、前記ノズルから洗浄液が前記基板上に落ちるおそれがあり、これによって現像不良または線幅不良が発生するおそれがある。
【０００６】
前記のような問題点を解決するために、まず、前記ノズルを前記基板の他側に移動させ、続いて前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうちに前記基板上に現像液を供給することができる。この場合、前記ノズルが前記基板の他側に移動するうちに、前記ノズルに前記現像液がつくおそれがあり、前記ノズルが前記洗浄タンクに戻るうちに、前記ノズルについている現像液が前記基板上に落ちるおそれがある。これによって、前記基板の現像不良または線幅不良が発生するおそれがある。
【０００７】
また、前記基板の他側に前記ノズルが移動するうちに前記現像液が供給されないおそれがある。しかし、この場合には前記現像工程を行うのに所要される時間が増加するおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国登録特許第６，３８４，８９４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、現像不良および線幅不良を減少させるおそれがあり、現像工程に所要される時間を短縮することができる基板現像方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の他の目的は、前述したような基板現像方法を行うのに適合する基板現像装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一側面による基板現像方法は、基板支持部によって支持された基板の一側に配置された第１洗浄タンクから現像ノズルを分離させる段階と、前記現像ノズルを前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う水平方向に移動させながら前記基板上に現像液を供給する段階と、前記第２洗浄タンクを前記現像ノズルを収容させる段階と、前記第２洗浄タンク内で前記現像ノズルを洗浄する段階と、を含むことができる。
【００１２】
本発明の実施例によると、前記現像液の供給後、前記基板支持部を囲むように配置されたカップを前記基板を囲むように上方に移動させ、その後、前記現像液が供給された基板を洗浄するために洗浄液を前記基板上に供給することができる。前記洗浄液によって洗浄された基板を乾燥させ、その後、前記カップを下方に移動させることができる。
【００１３】
本発明の他の側面による基板の現像方法は、基板支持部によって支持された一側に配置された第１洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う第１水平方向に現像ノズルを移動させかつ前記基板上に現像液を一次供給する段階と、前記第２洗浄タンクで前記現像ノズルを１次洗浄する段階と、前記第２洗浄タンクから前記第１洗浄タンクに向う第２水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を２次供給する段階と、前記第１洗浄タンクで前記現像ノズルを２次洗浄する段階と、を含むことができる。
【００１４】
本発明に実施例によると、前記基板は前記現像液の１次供給後に１次洗浄することができ、前記現像液の２次供給後に２次洗浄することができる。また、前記基板は２次洗浄の後に乾燥させることができる。
【００１５】
本発明の更に他の側面による基板現像装置は、基板を支持する基板支持部と、前記基板支持部によって支持された基板の上部で水平方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、前記基板支持部の一側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第１洗浄タンクと、前記基板支持部の他側に配置され、前記現像ノズルを洗浄する第２洗浄タンクと、を含むことができる。
【００１６】
本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記第１洗浄タンクに連結され、前記第１洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第１洗浄液供給部と、前記第２洗浄タンクに連結され、前記第２洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第２洗浄液供給部と、を更に含むことができる。
【００１７】
本発明の実施例によると、前記基板現像装置は、前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことができる。
【発明の効果】
【００１８】
前述したような本発明の実施例によると、基板上に現像液を供給した後、現像ノズルは、第１または第２洗浄タンク内で洗浄することができる。よって、前記現像ノズルから現像液が前記基板上に落ちることを防止することができる。結果的に、前記現像液の滴下によって発生しうる問題点を除去することができる。
【００１９】
また、現像ノズルを洗浄するために、または現像液の滴下を防止するために前記現像ノズルを不必要に移動させる必要がない。よって、前記現像工程を行うのに所要される時間
を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施例による基板現像方法を説明するためのフローチャートである。
【図２】図１に示した基板現像方法を行うための基板現像装置を説明するための概略図である。
【図３】本発明の他の実施例による基板現像方法を説明するためのフローチャートである。
【図４】図３に示した基板現像方法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図２は、図１に示した基板の現像方法を行うための基板現像装置を説明するための概略図である。
【００２３】
図１及び図２を参照すると、本発明の一実施例による基板現像装置１００は、シリコンウエハのような半導体基板またはガラス基板に対する現像工程を行うために用いることができる。前記基板現像装置は、基板支持部１１０、現像ノズル１２０、第１洗浄タンク１３０、及び第２洗浄タンク１４０を含むことができる。
【００２４】
前記基板支持部１１０は、基板１１１を支持する支持部材１１２と前記支持部材１１２の下部に連結された駆動軸１１３を含むことができる。前記駆動軸１１３は、前記基板１１１に対する洗浄工程および乾燥工程を行うために前記基板１１１を回転させるモーター（図示せず）と連結することができる。
【００２５】
現像ノズル１２０は、基板支持部１１０によって支持された基板１１１上に現像液を供給することができる。前記現像ノズル１２０は、駆動部（図示せず）によって水平方向及び垂直方向に移動可能に配置することができる。特に、前記駆動部は、前記基板１１１上に前記現像液を供給するために前記現像ノズル１２０を基板１１１の上部面と平行な方向に移動させることができる。
【００２６】
前記現像ノズル１２０は、前記水平方向に対して垂直する他の水平方向に長く延長することができ、前記現像液を前記基板１１１上に供給するためのスリット（図示せず）を有することができる。特に、前記現像ノズル１２０は、前記基板１１１の直径または幅より長い長さを有することができる。
【００２７】
本発明の他の実施例によると、前記現像ノズル１２０は、前記現像液を前記基板１１１上に供給するために前記現像ノズル１２０の長手方向に配列された複数のホール（図示せず）を有することができる。
【００２８】
前記現像ノズル１２０は、現像液供給部（図示せず）と現像液供給管（図示せず）を通じて連結することができ、前記現像ノズル１２０が前記基板１１１の上部で水平方向に移動する期間、前記基板１１１上に前記現像液を供給することができる。
【００２９】
前記第１洗浄タンク１３０と第２洗浄タンク１４０は、前記基板支持部１１０の互いに向い合う両側にそれぞれ配置することができる。即ち、前記第１洗浄タンク１３０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１の一側に配置されることが可能であり、前記第２洗浄タンク１４０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１の
他側に配置することができる。前記第１洗浄タンク１３０と第２洗浄タンク１４０は、前記現像ノズル１２０が待機する待機ポートとして用いることができる。
【００３０】
前記第１洗浄タンク１３０及び第２洗浄タンク１４０は、前記現像ノズル１２０の下部についている現像液を除去するための洗浄液を収容することができる。即ち、それぞれの第１及び第２洗浄タンク（１３０及び１４０）は前記洗浄液を収容するための内部空間及び開放された上部（ｏｐｅｎ ｕｐｐｅｒ ｐｏｒｔｉｏｎ）を有することができる。また、前記第１洗浄タンク１３０及び第２洗浄タンク１４０は前記洗浄液を供給するための第１洗浄液供給部１３２と第２洗浄液供給部１４２とそれぞれ連結することができる。前記現像ノズル１２０は、前記第１または第２洗浄タンク（１３０または１４０）の開放された上部を通じて前記第１または第２洗浄タンク（１３０または１４０）に挿入することができ、前記現像ノズル１２０についている現像液は前記洗浄液によって除去することができる。
【００３１】
前記現像ノズル１２０は、第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第２水平方向に移動するか、前記第２洗浄タンク１４０から第２洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に移動しながら前記基板１１１上に現像液を供給することができる。
【００３２】
前記現像液を供給する前または前記現像液を供給した後、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０または第２洗浄タンク１４０内で待機することができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０または第２洗浄タンク１４０に収容された洗浄液によって洗浄することができる。
【００３３】
一方、前記基板現像装置１００は、前記基板支持部１１０と前記第１及び第２洗浄タンク（１３０及び１４０）との間に配置されるカップ１５０を更に含むことができる。前記カップ１５０は、垂直方向に移動可能に配置することができる。例えば、前記カップ１５０は、前記基板支持部１１０によって支持された基板１１１を囲むように上方に移動することができる。
【００３４】
前記基板１１１に対する現像工程を行った後、前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記基板１１１は、前記洗浄液を除去するためにそして前記基板１１１を乾燥させるために前記基板支持部１１０によって回転することができ、前記カップ１５０は、前記基板１１１の回転によって前記基板１１１から離脱する洗浄液を遮断するために上方に移動することができる。
【００３５】
その後、図１及び図２を参照して本発明の一実施例による基板現像方法について説明する。
【００３６】
露光工程が行われた基板１１１を前記基板支持部１１０上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０内で待機することができる。
【００３７】
Ｓ１０段階で、前記現像ノズル１２０を第１洗浄タンク１３０から分離することができる。例えば、前記現像ノズル１２０は、前記駆動部によって上方に移動することができる。
【００３８】
Ｓ１１段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第１水平方向に前記駆動部によって移動することができ、その間、前記現像液を前記基板１１１上に供給することができる。ここで、前記基板１１１と前記現像ノズル１２０との間隔は約１ｍｍ〜２ｍｍであってもよい。
【００３９】
Ｓ１２段階で、前記現像ノズル１２０は、第２洗浄タンク１４０内に収容することができる。即ち、前記駆動部は、前記現像ノズル１２０の下部が前記第２洗浄タンク１４０に収容された洗浄液に浸漬するように前記現像ノズル１２０を下方に移動させることができる。
【００４０】
Ｓ１３段階で、前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容された洗浄液によって洗浄することができる。前記現像ノズル１２０についている現像液が前記洗浄液によって除去されることが可能である。
【００４１】
前記のように、前記基板１１１上に現像液を供給した後、前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機するので、前記第１洗浄タンク１３０に戻る必要がない。即ち、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を除去することができる。結果的に、前記現像ノズル１２０の不必要な移動段階を行うことで発生しうる問題点、例えば、現像不良、線幅不良、などを除去することができ、また前記現像工程に所要される時間を短縮することができる。
【００４２】
一方、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０から前記第１洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に移動しながら後続する基板上に前記現像液を供給することができる。
【００４３】
段階Ｓ１４で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０を上方に移動することができる。
【００４４】
Ｓ１５段階で、前記基板１１１を洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は、洗浄ノズル（図示せず）から前記基板１１１の中心部位に供給することができ、前記基板１１１は既に設定された速度で回転することができる。ここで、前記遠心力によって前記基板１１１から飛散される洗浄液は前記カップ１５０によって遮断することができる。
【００４５】
Ｓ１６段階で、前記洗浄段階（Ｓ１５）を行った後、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板１１１を乾燥させることができる。
【００４６】
Ｓ１７段階で、前記カップ１５０を下方に移動することができ、その後、基板移送部（図示せず）によって前記基板１１１を前記基板支持部１１０からアンロードすることができる。
【００４７】
図３は、本発明の他の実施例による基板現像方法を示すフローチャートであり、図４は、図３に示した基板現像方法を説明するための概略図である。
【００４８】
図３及び図４を参照すると、露光工程の行われた基板１１１を前記基板支持部１１０上にロードすることができる。ここで、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０内で待機することができる。
【００４９】
Ｓ２０段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第１洗浄タンク１３０から分離することができ、その後、前記現像ノズル１２０は前記第１洗浄タンク１３０から第２洗浄タンク１４０に向う第１水平方向に前記駆動部によって異動することができる。また、前記現像ノズル１２０が第１水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板１１１上に１次供給
することができる。
【００５０】
Ｓ２１段階で、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容することができる。前記現像ノズル１２０が前記第２洗浄タンク１４０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０内に収容された洗浄液によって１次洗浄することができる。即ち、前記現像ノズル１２０についている現像液を前記洗浄液によって除去することができる。
【００５１】
Ｓ２２段階で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０が上方に移動することができる。
【００５２】
Ｓ２３段階で、前記基板１１１を１次洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができる。前記洗浄液は洗浄ノズル（図示せず）から前記基板１１１の中心部位に供給することができ、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができる。ここで、遠心力によって前記基板１１１から飛散される洗浄液は前記カップ１５０によって遮断されることが可能である。
【００５３】
Ｓ２４段階で、前記カップ１５０が下方に移動することができる。
【００５４】
Ｓ２５段階で、前記現像ノズル１２０を第２洗浄タンク１４０から分離することができ、その後、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１４０から第１洗浄タンク１３０に向う第２水平方向に前記駆動部によって移動することができる。また、前記現像ノズル１２０が第２水平方向に移動する期間、前記現像液を前記基板１１１上に２次供給することができる。ここで、前記１次現像段階（Ｓ２０）で前記現像ノズル１２０についている現像液は前記第２洗浄タンク１４０内で除去されるので、前記現像ノズル１２０についている洗浄液による現像不良および線幅のような問題は発生しない。
【００５５】
Ｓ２６段階で、前記現像ノズル１２０は、第１洗浄タンク１３０内に収容することができる。前記現像ノズル１２０が前記第１洗浄タンク１３０内で待機する期間、前記現像ノズル１２０は、前記第２洗浄タンク１３０内に収容された洗浄液によって２次洗浄することができる。
【００５６】
Ｓ２７段階で、前記カップ１５０によって前記基板１１１が囲まれるように前記カップ１５０を上方に移動することができる。
【００５７】
Ｓ２８段階で、前記基板１１１を２次洗浄するために前記基板１１１上に洗浄液を供給することができ、前記基板１１１は、既に設定された速度で回転することができる。
【００５８】
Ｓ２９段階で、前記２次洗浄段階（Ｓ２８）を行った後、前記基板１１１は既に設定された速度で回転することができ、これによって前記基板１１１を乾燥させることができる。
【００５９】
Ｓ３０段階で、前記カップ１５０が下方に移動することができ、その後、基板移送部（図示せず）によって前記基板１１１が前記基板支持部１１０からアンロードされることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
前述したような本発明の実施例によると、基板上に現像液を供給した後、現像ノズルは第１または第２洗浄タンク内で洗浄することができる。よって、前記現像ノズルから現像液が前記基板上に落ちることを防止することができる。結果的に、前記現像液の滴下によ
って発生しうる現像不良及び線幅不良を防止することができる。
【００６１】
また、現像ノズルを洗浄するために、または現像液の滴下を防止するために、前記現像ノズルを移動させる必要がない。よって、前記現像工程を行うのに所要される時間を短縮することができる。
【００６２】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離脱することなく、本発明を修正または変更できる。
【符号の説明】
【００６３】
１００ 基板現像装置
１１０ 基板支持部
１２０ 現像ノズル
１３０ 第１洗浄タンク
１３２ 第１洗浄装置
１４０ 第２洗浄タンク
１４２ 第２洗浄装置
１５０ 遮断壁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板支持部によって支持された一側に配置された第１洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う第１水平方向に現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を一次供給する段階と、
前記第２洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを１次洗浄する段階と、
前記第２洗浄タンクから前記第１洗浄タンクに向う第２水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を２次供給する段階と、
前記第１洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを２次洗浄する段階と、を含むことを特徴とする基板現像方法。
【請求項２】
前記現像液の１次供給後、前記基板を１次洗浄する段階と、
前記現像液の２次供給後、前記基板を２次洗浄する段階と、
前記基板の２次洗浄後、前記基板を乾燥させる段階と、を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の基板現像方法。
【請求項３】
基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部によって支持された基板の上部で水泳方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、
前記基板支持部の一側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第１洗浄タンクと、
前記基板支持部の他側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第２洗浄タンクと、を含むことを特徴とする基板現像装置。
【請求項４】
前記第１洗浄タンクに連結され、前記第１洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第１洗浄液供給部と、
前記第２洗浄タンクに連結され、前記第２洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第２洗浄液供給部と、を更に含むことを特徴とする請求項３に記載の基板現像装置。
【請求項５】
前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の基板現像装置。
【請求項１】
基板支持部によって支持された一側に配置された第１洗浄タンクから前記基板の他側に配置された第２洗浄タンクに向う第１水平方向に現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を一次供給する段階と、
前記第２洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを１次洗浄する段階と、
前記第２洗浄タンクから前記第１洗浄タンクに向う第２水平方向に前記現像ノズルを移動させながら前記基板上に現像液を２次供給する段階と、
前記第１洗浄タンクの内部で前記現像ノズルを２次洗浄する段階と、を含むことを特徴とする基板現像方法。
【請求項２】
前記現像液の１次供給後、前記基板を１次洗浄する段階と、
前記現像液の２次供給後、前記基板を２次洗浄する段階と、
前記基板の２次洗浄後、前記基板を乾燥させる段階と、を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の基板現像方法。
【請求項３】
基板を支持する基板支持部と、
前記基板支持部によって支持された基板の上部で水泳方向に移動可能に配置され、前記基板上に現像液を供給するための現像ノズルと、
前記基板支持部の一側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第１洗浄タンクと、
前記基板支持部の他側に配置され、内部で前記現像ノズルを洗浄する第２洗浄タンクと、を含むことを特徴とする基板現像装置。
【請求項４】
前記第１洗浄タンクに連結され、前記第１洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第１洗浄液供給部と、
前記第２洗浄タンクに連結され、前記第２洗浄タンクの内部に前記現像ノズルを洗浄するための洗浄液を供給する第２洗浄液供給部と、を更に含むことを特徴とする請求項３に記載の基板現像装置。
【請求項５】
前記基板支持部を囲むように配置され、上下に移動可能なカップを更に含むことを特徴とする請求項３に記載の基板現像装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１５１４１８（Ｐ２０１１−１５１４１８Ａ）
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−９５４８４（Ｐ２０１１−９５４８４）
【出願日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【分割の表示】特願２００８−２２２１０３（Ｐ２００８−２２２１０３）の分割
【原出願日】平成２０年８月２９日（２００８．８．２９）
【出願人】（５９８１２３１５０）セメス株式会社 (76)
【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】＃２７８，Ｍｏｓｉ−ｒｉ，Ｊｉｋｓａｎ−ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ−ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ−ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年８月４日（２０１１．８．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年４月２１日（２０１１．４．２１）
【分割の表示】特願２００８−２２２１０３（Ｐ２００８−２２２１０３）の分割
【原出願日】平成２０年８月２９日（２００８．８．２９）
【出願人】（５９８１２３１５０）セメス株式会社 (76)
【氏名又は名称原語表記】ＳＥＭＥＳ ＣＯ．， ＬＴＤ．
【住所又は居所原語表記】＃２７８，Ｍｏｓｉ−ｒｉ，Ｊｉｋｓａｎ−ｅｕｐ，Ｓｅｏｂｕｋ−ｇｕ，Ｃｈｅｏｎａｎ−ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
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