【課題】 ＣＳＰと呼ばれる半導体装置において、電解メッキにより配線を形成する際に用いるフォトレジスト膜をポジ型化学増幅型のものによって形成するとき、解像不良が発生しないようにする。
【解決手段】 最上層に銅層を有するメッキ電流路としての下地金属層７の上面にアルミニウムからなるバリア層２２を成膜する。次に、バリア層２２の上面にポジ型化学増幅型のフォトレジスト膜２３を形成する。次に、配線形成領域に対応する部分に開口部２５を有する露光マスク２４を用いて紫外線を照射すると、配線形成領域に対応する部分におけるフォトレジスト膜２３中の光酸発生剤からパターン形成に必要な触媒としての酸が発生する。この場合、フォトレジスト膜２３で発生した酸はバリア層２２によって阻止されて下地金属層７の最上層の銅層中に侵入することがなく、したがってこの銅層とフォトレジスト膜２３との界面において酸が中和されることがなく、この酸中和に起因する解像不良が発生しないようにすることができる。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)、(2)、(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R⁵R⁶_qSiX_3-q (2)
R⁷R⁸_rSiX_3-r (3)
(R¹、R²、R³は水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基で、少なくとも一つはフッ素原子を含む。R⁴は炭化水素基、R⁵は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁶はR⁴と同定義、R⁷は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁸はR⁴と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基とする組成物と同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおけるエッチング選択比の問題もなく、ArF露光の２層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【課題】 多層レジストプロセス用、特には二層レジストプロセス用又は三層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ビスナフトール基を有する化合物、およびこのノボラック樹脂を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、従来技術とは異なる組成を有して、従来の平板印刷版よりも耐刷性に優れ、また耐薬品性に優れているポジ型平版印刷版原版を提供することである。
【解決手段】（ａ）自己水分散性樹脂微粒子、
（ｂ）光熱変換剤、および
（ｃ）熱架橋性樹脂
を含んで成る塗布溶液を、基板の親水性面上に塗布し、その後
１１０℃より高い温度で乾燥させることによって製造されたポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の信頼性を向上させるとともに、エッチング工程を短縮化することが可能な、多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る多層レジスト膜のパターニング方法は、半導体基板上に下層レジスト膜１０４を形成する工程と、下層レジスト膜１０４の上に、シリコン含有上層レジスト膜を形成する工程と、該シリコン含有上層レジスト膜を所定の形状にパターニングする工程と、０．０７５ｍＴｏｒｒ以上、５０ｍＴｏｒｒ以下の圧力下において、Ｏ_２ガスとＡｒガスとを含むエッチングガスを用い、パターニングされたシリコン含有上層レジスト膜１０６をマスクとして下層レジスト膜１０４をドライエッチングする工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】クエンチング機能を有しつつ、組成物の経時安定性が良好であり、とりわけ、保管中の経時変化による感度異常（所定の感度よりの変化）を防止することのできる感光性樹脂組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】シロキサン系又はシルセスキオキサン系等のケイ素含有高分子化合物を主成分とする基材樹脂を用いたレジスト組成物において、窒素系化合物の代わりに、特定のスルホニウム化合物をクエンチャーとして用いる。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ現像剤中に不溶性であるが、現像の前に可溶性になるポリマーと、放射線で露光した際に強酸を生成する光酸発生剤とを含み、更にこの際、前記ポリマーが露光波長に透過性である、フォトレジスト用アンダーコート用組成物に関する。本発明は、該アンダーコート用組成物に像を形成する方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】ここではリソグラフィシステムの像分解能を向上させるための二重露光方法が提示される。
【解決手段】本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。第二のレジスト材料は、第一のパターン形成露光の間、および現像後の第二のパターン形成露光の間、露光放射を吸収し、第二のレジスト材料層の露光される部分の下の第一のレジスト材料の少なくとも一部を、第一のレジスト層の限界エネルギー露光ドーズの或る割合より多い露光ドーズに露光させない。 （もっと読む）

【課題】水系現像液で現像でき、また、水性インキに対する耐性があり、且つ現像速度を早くすることができ、高速印刷に耐え得る機械的強伸度を有する新聞用フレキソ印刷原版。
【解決手段】（１）なくとも支持体、感光性樹脂層、ＩＲアブレーション層およびカバーフィルムを有する感光性樹脂積層体において、前記支持体が金属であって、かつ前記感光性樹脂層の厚みが１０００μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。（２）感光性樹脂積層体が新聞印刷用原版である前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（３）感光性樹脂層に水分散ラテックスから得られる疎水性重合体が含有されていることを特徴とする前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（４）ＩＲアブレーション層とカバーフィルムとの間に、有機高分子層を有する前記（１）記載の感光性樹脂積層体。（５）ＩＲアブレーション層が、ＩＲ吸収性金属層のみからなる、前記（１）記載の感光性樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】 被覆形成剤のリンス処理のような工程数の増加を招くことなく、レジストパターンの開口寸法をより小さくすることができ、更なる微細加工を実現する。
【解決手段】 パターン形成方法において、被処理基板１０上に下層有機膜１１と無機元素を含有する上層レジスト膜１２とを形成し、レジスト膜１２にパターンを露光した後に現像処理を施すことにより第１のレジストパターン２１を形成し、第１のレジストパターン２１が形成されたレジスト膜１２に対して被覆形成剤３１を供給することによって、レジスト膜１２の開口内に被覆膜３２を埋め込み形成し、被覆膜３２を熱収縮させることによって、レジスト膜１２の開口を狭めることにより第２のレジストパターン２２を形成し、酸素プラズマ処理により被覆膜３２を除去し、連続してレジスト膜１２をマスクに下層膜１１を選択的に除去することにより、被覆膜３２及び下層膜１１を一括加工する。 （もっと読む）

【課題】 感度と現像ラチチュード及びそれらの経時的安定性に優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、環状酸無水物及びカルボン酸類を有機溶剤に溶解した塗布液を塗布することで形成された下層、及び、アルカリ可溶性樹脂及び現像抑制剤を含有し、露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を、有することを特徴とする。カルボン酸類は、２塩基酸であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ケイ素含有無機膜をレジスト中間層膜として使用する場合において、この膜をより薄くすることができ、かつ反射防止膜とケイ素含有無機膜のエッチング加工においてフォトレジスト膜への負荷を従来の方法よりも下げることのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト下層膜・第１のレジスト中間層膜・ケイ素樹脂を含有するケイ素樹脂膜である第２のレジスト中間層膜・レジスト上層膜を含む多層レジスト膜を形成し、該多層レジスト膜のパターン回路領域を露光した後、現像液で現像してレジスト上層膜にレジストパターンを形成し、レジスト上層膜をマスクにして第１および第２のレジスト中間層膜をエッチングし、第１および第２のレジスト中間層膜をマスクにしてレジスト下層膜をエッチングし、さらに、レジスト下層膜をマスクにして基板をエッチングして基板にパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 微細パターンの形成方法において、解像性および寸法制御性の向上を図る。
【解決手段】 本発明の微細パターンの形成方法は、基板上に、露光波長λでの屈折率がｎ_bのレジスト膜と、露光波長λでの屈折率がｎ_cで膜厚がｄの上層膜を形成し、露光波長λでの屈折率がｎ_dの露光媒体中において、レンズ開口数がＮＡで露光波長がλの縮小投影露光によりフォトリソグラフィを行なうパターン形成方法であって、
ｎ_c＝（ｎ_b・ｎ_d）^1/2
ｄ＝ｋ・λ／［４ｎ_cｃｏｓ｛ａｒｃｓｉｎ（ＮＡ／ｎ_c）｝］ （ｋ＝１，３，５・・・）
であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高さ制御が可能で製造工程が煩雑にならない、多段構造微細部品を製造するための電鋳型およびその製造方法の提供。
【解決手段】基板１の上面に成膜された導電層２の上面にレジスト３を形成し、第１の可溶部３ｂと第１の不溶部３ａを形成する。次にレジスト上面に光吸収体１０を形成し、露光と現像を行い更にその上面に導電層２を成膜し、リフトオフにより光吸収体１０と光吸収体１０の上面の導電層５を除去する。更にその上面からレジストを形成し、第２の可溶部６ｂと第２の不溶部６ａを形成する。次に第１のレジスト及び第２のレジストを現像し、第１の可溶部３ｂと第２の可溶部６ｂを除去し、各段の底部に導電層を有する電鋳型１０１を得る。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。
【解決手段】 レジスト１２はベースフィルム１１、クッション層１０、上層レジスト８、下層レジスト７、カバーフィルム９の五層で構成される。構造材の厚みは、ベースフィルム１１が５０乃至１００μm、クッション層１０が１０乃至３０μm、上層レジスト８が０．５乃至１．０μm、下層レジスト７が０．５乃至１．０μm、カバーフィルム９が１０乃至３０μmである。 （もっと読む）

【課題】改良された印刷要素は、従来の印刷要素よりも一貫性のある印刷要素を提供する一体型フロア層、及び任意の圧縮性層を含んで形成できる。
【解決手段】一体型画像形成印刷面を有するレリーフ像印刷要素、及びレリーフ像印刷要素の調製方法を記載する。レリーフ像印刷要素は、寸法安定性基質層、硬化時の弾性が少なくとも４０％である、感光性樹脂、及びポリマーからなる群より選択される硬化したポリマーからなるフロア層、並びに少なくとも１つの画像形成材料層を含む。最も好ましくは、フロア層は、印刷要素の表面から面露光で硬化することで形成される。印刷要素は、基質層とフロア層との間に圧縮性層を更に含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】 現像性、耐傷性のバランスに優れた赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版、及び、それを用いた、人体や環境に対して影響が懸念される有機溶剤を使用することなく、アルカリ現像液により良好な現像が行われ、優れた画像を形成しうる赤外線レーザ用感光性平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、（Ａ−１）高分子化合物と（Ｂ）赤外線吸収剤とを含有する下層と、（Ａ−２）下層に含まれる高分子化合物とは異なる高分子化合物を含有する上層とを、順次備えてなり、上層のアルカリ性水溶液への溶解速度が１．５ｎｍ／ｓｅｃ以上である赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版である。このような版材を用いることで、赤外線レーザを用いて像様に露光した後、有機溶剤の含有率が０．５質量％以下であるｐＨ１２以上のアルカリ性水溶液で現像することにより高画質の平版印刷版を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 高感度で記録可能であり、感度と耐キズ性、耐刷性が高レベルでバランスされ、微小面積画像の再現性が良好な赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体上に、赤外線照射により画像を形成することができ、乾燥後の重量が１．２ｇ／ｍ²〜１．７ｇ／ｍ²の範囲であるポジ型記録層を有し、且つ、該記録層表面における傾斜度１５度以上の部分が５％以上の割合で存在することを特徴とする。記録層は単層構造でも、重層構造であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 溶解性ディスクリミネーションに優れた記録層を有し、画像再現性に優れ、ヒートモード対応ポジ型平版印刷版原版に有用な画像形成材料を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）オニウム塩、及び（Ｃ）下記一般式（１）で表される酸発色性色素、を含有し、赤外線により記録可能な記録層を有することを特徴とする。下記式中、環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは、それぞれ独立に１〜３核の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、且つ、環Ｂ及び環Ｃの少なくとも１方に、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、及びアリールチオ基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基を有する。Ｗ¹はカルボニル基、チオカルボニル基、又は、−Ｃ（Ｒ⁵）＝Ｎ−を表し、ここでＲ⁵は水素原子又は炭化水素基を表し、Ｑ¹は酸素原子、硫黄原子又はイミノ基を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子又は炭化水素基を表す。ｍ及びｎはそれぞれ独立に０又は１を表す。
【化１】
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【課題】 耐傷性及び形成された画像のディスクリミネーションに優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 樹脂及び赤外吸収剤を含み、赤外線レーザー露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大するポジ型記録層を２層以上設けてなり、該２層以上のポジ型記録層のうち支持体に最も近接するポジ型記録層のアルカリ水溶液に対する深さ方向と横方向との溶解速度比が少なくとも１未満であることを特徴とする。このような溶解速度比を達成するには下層が分散相を有するか、又は、下層を形成する際高温乾燥を行うことが好ましい。 （もっと読む）