【課題】レジスト下層膜材料であって、エッチング速度が速く、このためエッチング時間を短縮してエッチング中のレジストパターンの膜減りを少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。そのため、パターンの転写を高精度に行うことができ基板に良好なパターンを形成することができるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化５５】
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【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成
することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を基板表面に塗布して２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造単位を、分子内に２つ以上含む感光性化合物、感光性化合物を有機溶剤に溶解させてなる感光性組成物及び感光性組成物を用いる。
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【課題】二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目のレジストパターンとミキシングすることなく、第二層目のレジストパターンを形成可能な樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、（１）第一レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、基板上に第一パターンを形成する工程と、（２）第一パターンを光に対して不活性化させる工程と、（３）第二レジスト層形成用樹脂組成物を用いて、第一パターンが形成された基板上に第二レジスト層を形成し、所用領域を露光する工程と、（４）現像することによって、第一パターンのスペース部分に、第二パターンを形成する工程と、を備えており、第二レジスト層形成用樹脂組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂と溶剤とを含んでおり、且つこの溶剤は、第一レジストパターンを溶解しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセスにおけるレジストパターンの解像性を向上させる。
【解決手段】基板１０１の上に、架橋性基を有するシクロオレフィンを重合してなるポリマーと熱により酸を発生する熱酸発生剤とを含むパターン形成用材料からなる下層膜１０２を形成して加熱する。次に、下層膜１０２の上にシリコンを含む中層膜１０３を形成し、その上にレジストからなる上層膜１０４を形成する。続いて、上層膜１０４に対して、露光光１０６をにより露光を行ない、露光が行なわれた上層膜１０４を現像することにより、上層膜１０４から第１パターン１０４ａを形成する。その後、第１パターン１０４ａをマスクとして中層膜１０３をエッチングすることにより、中層膜１０３から第２パターン１０３ａを形成し、さらに、第１パターン１０４ａと第２パターン１０３ａをマスクとして下層膜１０２から、形状に優れた第３パターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】リフトオフによる蒸着および／またはスパッタ膜の形成方法に関し、基板表面に、ライン／スペースが１０μｍ／１０μｍ以下のような微細パターンにおいても、アンダーカットがパターン間の下部で繋がらないようにアンダーカット形状を制御することが可能なレジストパターンを、1回の露光および現像で得て、バリのない製膜層を容易に形成することができる２層レジスト膜およびこれを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のポジ型感放射線性樹脂組成物１と特定のポジ型感放射線性樹脂組成物２を塗布し２層積層膜を形成し、一回の露光により２層積層膜からなるレジストに断面がアンダーカット形状をした微細パターンを形成し、次にこれをマスク材として有機あるいは無機薄膜等を蒸着および／またはスパッタし、リフトオフすることで所望の形状を有するパターンを形成する。 （もっと読む）

平版印刷版前駆体として有用な多層の熱的に画像形成可能な要素を開示する。当該画像形成可能な要素は、基体と、基体の上方にある下層と、下層の上方にある最上層とを含んで成る。最上層は、酸無水物基を含有するポリマーを含む。このポリマーは、層の乾燥質量を基準として少なくとも６０％の量で最上層中に存在する。当該画像形成可能な要素は、印刷室の化学薬品に対して優れた耐性を有する。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置のリソグラフィー工程においてフォトレジストの下層に使用される感光性レジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 感光性レジスト下層膜形成組成物を半導体基板上に塗布して焼成して感光性レジスト下層膜を形成する工程、感光性レジスト下層膜上にフォトレジスト層を形成する工程、前記レジスト下層膜とフォトレジスト層で被覆された半導体基板を第１のマスクパターンを用い第１の露光を行う工程、その後第１のマスクパターンとは異なる形状の第２のマスクパターンを用い第１の露光より低い露光量で第２の露光を行う工程、露光後に現像する工程、を含む半導体装置の製造方法に用いる上記感光性レジスト下層膜形成組成物。 （もっと読む）

ポジ型画像形成性要素は、輻射線吸収化合物、親水性表面を有する基板上に内層及び外層を含む。内層は、一方が少なくとも３０の酸価を有する２種類のポリマーバインダーの組合せを含み、ポリマーバインダーの組合せは、改良された現像後ベーキング性（低温でより速くベークされるか又は硬化される）及び望ましいデジタル・スピード及び耐印刷機化学薬品を提供する。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光に対して優れた反射防止効果を有し、またエッチング選択比が十分に高く、上層のフォトレジスト膜に形成するレジストパターン形状をほぼ垂直形状にできるフォトレジスト下層膜材料。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物と、式（２）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物とを添加してなるフォトレジスト下層膜材料。
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【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３５】
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【課題】感度、現像ラチチュード、耐薬品性、さらに取り扱い性（セーフライト性）に優れた赤外レーザ露光可能な、ポジ型の平版印刷版材料の提供。
【解決手段】アルミニウム支持体の上に、アルカリ可溶性樹脂かつ酸により分解する化合物を含み、かつ光熱変換化合物を含まない下層と、アルカリ可溶性樹脂及び光熱変換化合物を含む上層を順次積層することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】感度、現像ラチチュード、耐薬品性、さらに取り扱い性（セーフライト性）に優れた赤外レーザ露光可能な、ポジ型の平版印刷版材料の提供。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、アルカリ可溶性樹脂、かつ光熱変換化合物を含まない下層と、アルカリ可溶性樹脂及び光熱変換化合物を含む上層を順次積層し、該上層のアルカリ可溶性樹脂がフェノール系水酸基を有する樹脂、または該フェノール系水酸基を有する樹脂と、（ａ）アクリル樹脂、（ｂ）アセタール樹脂、（ｃ）ウレタン樹脂の少なくとも一つの樹脂で構成されていることを特徴とするポジ型感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ用コーティング組成物及び方法の提供
【解決手段】第一の態様においては、（ａ）基体上に硬化性組成物を適用する工程、（ｂ）硬化性組成物上にハードマスク組成物を適用する工程、（ｃ）ハードマスク組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程を含む方法であって、アッシングを含まないプロセスにおいて一以上の組成物を除去する工程、を含む方法が提供される。第二の態様においては、（ａ）基体上に有機組成物を適用する工程、（ｂ）有機組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程であって、その有機組成物が、熱処理および／または放射線処理の際にアルカリ溶解性基を生じさせる材料を含む工程を含む方法が提供される。関連する組成物も提供される。 （もっと読む）

【課題】 湿式現像可能な反射防止膜組成物及びその使用方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板表面とポジ型フォトレジスト組成物の間に塗布する反射防止膜組成物を開示する。反射防止膜組成物は、水性アルカリ性現像液中で現像可能である。この反射防止膜組成物は、ラクトン、マレイミド、及びＮ−アルキルマレイミドから成る群から選択される１つ又は複数の部分を含む少なくとも１つのモノマー単位と、１つ又は複数の吸光性部分を含む少なくとも１つのモノマー単位とを含むポリマーを含む。このポリマーは酸に不安定な基を含まない。本発明はまた、フォトリソグラフィにおいて本発明の反射防止膜組成物を用いて、レリーフ像を形成し転写する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジストを用いて形成工程が容易となるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】レジスト層２６の上面側２６ａよりもレジスト層２６の下面側２６ｂの方が開口部が広くなるように、レジスト層２６の下面側２６ｂをエッチング液（現像液と同じ）３３によってウェットエッチングするので、レジスト層２６の逆テーパ形状を容易に形成することができる。これにより、レジスト層がポジ型レジストからなる場合であっても、微細なパターンを容易に形成することが可能になる。 （もっと読む）

基板上に第１層及び第２層を用意することによってポジ型画像形成性要素を調製する。２つの層は、異なるポリマーバインダー内に分散された同じか又は異なる輻射線吸収化合物を含む。２つの層を乾燥させた後、前記乾燥された第１層及び第２層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも４時間、４０℃〜９０℃で、これらを熱処理する。この調製方法は改良された画像形成スピードと良好な貯蔵寿命を有する要素を提供する。 （もっと読む）

【課題】 良好なパターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置１００の製造方法は、準備工程Ｓ１と、第１層形成工程Ｓ２と、第２層形成工程Ｓ３と、連通孔形成工程Ｓ４と、塗布工程Ｓ１０５とを備える。準備工程Ｓ１では、半導体基板３が準備される。第１層形成工程Ｓ２では、半導体基板３の上に第１層１０が空洞部分１１を囲むように形成される。第２層形成工程Ｓ３では、第１層１０及び空洞部分１１の上に第２層２０が形成される。連通孔形成工程Ｓ４では、第２層２０において空洞部分１１の上に位置する部分の一部が開口されて、複数の連通孔４０ａ，・・・が形成される。連通孔４０ａ，・・・は、第２層２０の上の空間と空洞部分１１とを連通する。塗布工程Ｓ１０５では、複数の連通孔４０ａ，・・・を埋めるように、第２層２０の上に第１レジスト１５０が塗布される。第１レジスト１５０は、第１材質を主成分とする。第１材質は、ノボラック系樹脂よりも弾性係数が大きい。 （もっと読む）

【課題】 高温短時間乾燥の下でも現像液に対し広いラチチュードを有し、なおかつ、特に耐傷性が良好な感光性平版印刷版、特に赤外線レーザ用感光性平版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】 高分子化合物及び赤外線吸収剤を含む感光性組成物を沸点の異なる３以上の有機溶剤混合物中に溶解して塗布溶液を調製する調液工程、及び、該塗布溶液を親水性表面を有する支持体上に塗布し乾燥して感光層を塗設する塗設工程、を含む感光性平版印刷版の製造方法であって、該有機溶剤混合物は、沸点が５０℃以上１００℃未満の低沸点有機溶剤Ａがａ重量部、沸点が１００℃以上１５０℃未満の中沸点有機溶剤Ｂがｂ重量部、及び、沸点が１５０℃以上の高沸点有機溶剤Ｃがｃ重量部、からなり、ｂ＞ａかつｂ＞ｃであることを特徴とする、感光性平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)〜(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R³R⁴_qSiX_3-q (2)
R⁵R⁶_rSiX_3-r (3)
(R¹はフッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基。R²は炭化水素基、R³は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁴はR²と同定義、R⁵は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁶はR²と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基として使用したレジスト組成物に対し同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ArF露光における2層レジスト法に好適である。 （もっと読む）