【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないボトム形状に優れるレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）シラノール基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）２つ以上のオキセタニル基を有するオキセタニル基含有化合物と、（Ｃ）有機溶媒と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】吐出エネルギー発生素子とインク流路および吐出口との位置関係を高精度かつ再現性良く制御でき、印字特性の良好なインクジェットヘッドを安定して製造できる方法を提供する。
【解決手段】液体を吐出する吐出口２と連通する流路１７を形成するための流路形成部材を基板１上に有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、基板１上に感光性樹脂からなる層を設け、その層上の流路１７に対応した部位にマスク層を設け、感光性樹脂からなる層に対して露光を行い流路１７の形状を有するパターンとし、このパターンを被覆するように流路形成部材となる層を設け、流路形成部材となる層の一部に吐出口２を形成し、そのパターンを除去して流路１７を形成することを含む液体吐出ヘッドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版の製造方法を開示する。
【解決手段】平版印刷版前駆体として有用な画像化されたポジ型の熱画像形成可能な多層画像形成要素を、溶媒系現像液を用いて現像する。現像は、画像化された画像形成要素を該現像液に浸漬することによって行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像等に用いられる現像液に対して十分な耐性を有し、レジスト除去時の酸素アッシングに対して十分なマスク性（エッチング耐性）を有するシリコン含有膜を形成できる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、式（１）の化合物（ａ１）３０〜８０質量部、式（２）の化合物（ａ２）５〜６０質量部、並びに、式（３）の化合物（ａ３）及び式（４）の化合物（ａ４）のうちの少なくとも一方５〜５０質量部〔但し、化合物（ａ１）〜（ａ４）の合計を１００質量部とする。〕に由来するポリシロキサンと、溶媒と、を含有する。
（もっと読む）

【課題】印刷汚れ及び版面汚れが少なく、且つ印刷耐久性が高い凸版印刷用版材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】凸版印刷用版材１０は、版材の凹部１１及び凸部１２側面がフッ化炭素基を含む膜物質の形成する撥水撥油性被膜１３で被覆されている。凸版印刷用版材１０は、（１）バック露光工程と、（２）凸部１２を形成する部分を被覆するマスク材１７を選択的に除去する工程と、（３）露光工程と、（４）マスク材１７が除去された部分を水溶性樹脂の被膜２０で被覆する工程と、（５）現像工程と、（６）仕上げ露光工程と、（７）凹部１１及び凸部１２の表面に撥水撥油処理液を接触させ、撥水撥油性被膜１３を印刷面側の表面全体に形成する撥水撥油処理工程と、（８）樹脂の被膜が可溶な洗浄液で水溶性樹脂の被膜２０を洗浄除去する洗浄工程とを有する方法により製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、多層レジスト法（特には２層レジスト法及び３層レジスト法）において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層膜材料であって、耐ポイゾニング効果が高く、環境への負荷の少ないレジスト下層膜を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、レジスト上層膜であるフォトレジスト層より下層を形成するために用いられ、該下層の形成後はアルカリ現像液に不溶又は難溶となるレジスト下層材料であって、該レジスト下層材料は、少なくとも、熱酸発生剤を含み、該熱酸発生剤は、１００℃以上の加熱により下記一般式（１）で示される酸を発生するものであることを特徴とするレジスト下層材料。
ＲＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＳＯ_３⁻Ｈ^＋ （１） （もっと読む）

【課題】赤外線レーザによる画像形成が可能であり、画像部の耐薬品性、耐傷性に優れた強固な被膜を形成しうるとともに、非画像部における現像性、現像ラチチュードが良好であり、さらに、現像後に高温で加熱処理した場合に、著しく耐刷性が向上する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）側鎖にヒドロキシ基を有する（メタ）アクリルアミド構造単位を有する高分子化合物を含有する下層と、（Ｂ）側鎖にカルボキシル基を有するマレイミド構造単位を有する高分子化合物、及び（Ｃ）光を吸収して熱を発生する化合物を含有する記録層と、を順次備える平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（Ｉ）で示される重合性モノマーに由来する単位を少なくとも有する共重合体及び赤外線吸収剤を含有する下層と、ホスホン酸基及び燐酸基から選ばれる少なくともいずれかの基を側鎖に有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。


式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を、Ｒ^２はメチレンまたはエチレンを、Ｒ^３は水素原子またはメチル基を、ＸはＯまたはＮＨを表わす。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、また、現像性も良好であり、さらには、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、特定構造の（メタ）アクリル酸誘導体モノマーに由来する単位を有する高分子化合物、アミノメチル構造含有基を側鎖に有する高分子化合物及び赤外線吸収剤を含有する下層と、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する上層と、をこの順に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重ね合わせ露光を行うことなくリソグラフィ・プロセスを用いて、露光装置の解像限界を超えるような微細パターンを形成する。
【解決手段】パターン形成方法は、ウエハＷ上にネガレジスト３及びより高感度のポジレジスト４を塗布することと、ウエハＷのポジレジスト４及びネガレジスト３をライン・アンド・スペースパターンの像で露光することと、ポジレジスト４及びネガレジスト３をウエハＷの表面の法線に平行な方向に現像することとを有する。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性、耐傷性に優れ、現像性も良好であり、現像後に高温で加熱処理した場合、著しく耐刷性が向上する赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（Ｉ）で示される重合性モノマーに由来する単位を少なくとも有する高分子化合物を含有する下層と、下記一般式（II）で示される基を側鎖に有する高分子化合物を含有する上層と、をこの順に有する。
（もっと読む）

【課題】液晶パネルによりパターン形状の明暗分布を指定して、それをレチクルやマスクの代替として露光するとき、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有するレジストは感光させることができなかった。
【解決手段】波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光の範囲に主たる感光波長帯を有する下層レジスト上にアルカリに溶解する金属膜、その上に液晶パネルを透過して明暗差が大きくとれる波長４２０ｎｍ〜５３０ｎｍの青色可視光を用いて感光させることができる上層レジストを積層する。上層レジストを液晶パネルに指定したパターン形状に感光させてアルカリ現像すると、金属膜もパターン化され、波長２００〜４１０ｎｍの遠紫外光〜短波長可視光を当てると、該金属膜パターンが遮光マスクとして働き、下層レジストに該パターンを転写できる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを形成するための半導体素子のパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】エッチング対象膜上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板が提供される段階と、前記フォトレジストパターンを含む前記半導体基板上に補助膜が形成される段階と、前記フォトレジストパターンの表面に形成された前記補助膜が変性されて第１補助パターンが形成される段階と、前記第１補助パターン及び前記補助膜を含む前記半導体基板上にフォトレジスト膜が形成される段階と、前記フォトレジスト膜の下部に形成された前記補助膜が変性されて第２補助パターンが形成され、前記補助膜が前記フォトレジストパターンの間のみに残留される段階と、前記フォトレジスト膜、前記第１及び第２補助パターンを除去して前記フォトレジストパターン及び前記補助膜を含むエッチングマスクパターンを形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性凸版印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性凸版印刷原版であって、（Ｃ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性凸版印刷原版。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いる複合印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、テンプレートを用いて感光性エレメントとキャリヤーとから複合印刷版を作製する方法に関する。感光性エレメントは、テンプレート中の切抜き部分を介してエレメントを定置することによりキャリヤー上に位置決めされる。本方法は、凸版印刷用の複合印刷版の作製、特定的には、段ボール基材にフレキソ印刷するための複合印刷版の作製にとくに適する。 （もっと読む）

【課題】
薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有する感熱マスク層を持つ感光性フレキソ印刷原版を提供する。
【解決手段】
少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 （もっと読む）

【課題】原画フィルムを必要としないでシャープな凸状のレリーフ像を形成することが可能で、印刷品位の優れた水現像可能なフレキソ印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、順次、支持体、親水性重合体を含有する感光層、マスク層を有する感光性印刷版原版において、画像マスクを通して、波長３１０ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光で露光、波長２００ｎｍ〜３００ｎｍの紫外光で露光、現像をこの順で行うことを特徴とする感光性印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レリーフパターンを形成するために、感光性要素から印刷フォームを形成するための方法および装置の提供。
【解決手段】感光性要素の組成物層を加熱して層の一部分を液化させ、かつ感光性要素に現像媒体を提供して液化された組成物を除去することによって、感光性要素を熱現像する。感光性要素とベース支持体との間に適合層が配設され、これによって感光性要素と現像媒体との間の圧縮性および接触が改善する。この方法および装置は、感光性要素からの液化された部分の除去効率および形成されるレリーフパターンの均一性を改善する。 （もっと読む）