【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】調合槽１０（容器）内に貯留された、単量体成分および重合開始剤を含む単量体溶液を、重合槽２０内にて重合温度に保持した溶媒中に滴下し、単量体成分を重合する工程を有する重合体の製造方法において、重合槽２０に滴下する単量体溶液の温度の変動幅を６℃以下に保つ。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンのエッチング耐性および剥離性を維持したうえで、塗布性を高めた印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いた十分に微細で、かつ良好な形状を有するパターンを転写する方法の提供。
【解決手段】樹脂と、オキセタン化合物と、有機溶媒とを含んでなることを特徴とする、印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いて凸版反転印刷法によりレジストパターンを転写する方法。 （もっと読む）

【課題】パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、ホール状パターン等のレジストパターンをそのサイズに依存することなく厚肉化することができ、しかも該レジストパターンの形状劣化を抑制してレジスト抜きパターンを精度よく狭小化可能であり、露光装置の光源における露光限界（解像限界）を超えて微細なレジスト抜きパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターンの形成方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、レジストパターン厚肉化材料を塗布し、加熱した後、現像することにより前記レジストパターンを厚肉化するレジストパターン厚肉化工程と、厚肉化後のレジストパターンを更に加熱する加熱処理工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】異物の少ない重合体粉末を得ることができる重合体粉末の製造方法、異物の少ない重合体粉末およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、減圧乾燥装置５０を用いて重合体湿粉を乾燥させる工程とを有し、前記減圧乾燥装置５０内に気体を流入させる際、孔径が０．１〜１．０μｍのフィルター５２を通過した気体を流入させる重合体粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、該重合体湿粉を容器５２に入れて乾燥させる工程とを有し、容器５２として、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器浸漬前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる重合体の製造方法。ただし、容器浸漬前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）は、容器の内面積１ｍ² あたり２０Ｌの純水に容器を浸漬し、浸漬開始から１５分後に容器を浸漬した状態で測定した水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ等の表面保護膜としてレジストを塗布し、基板の周縁部（ベベル部、エッジ部、ノッチ部等）の研磨を行う製造工程において、ポジ型レジスト表面に親水性を付与することにより研磨屑等の汚染源がポジ型レジスト表面に付着するのを防止するレジスト処理液組成物を提供する。
【解決手段】本発明のポジ型レジスト処理液組成物は、下記の一般式（Ｉ）：


式中、Ｒ_１及びＲ_３はそれぞれメチル基を示し、Ｒ_２は炭素数１２〜１８のアルキル基を示す、で表される水酸化第四級アンモニウムを含有する水溶液からなる。 （もっと読む）

【課題】溶液を濃縮する工程を経て目標の濃度の溶液を製造する方法において、目標の濃度の溶液を確実に得ることができる溶液の製造方法、目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体溶液、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】溶液を濃縮する工程を経て目標とする濃度の溶液を製造する方法において、溶液を目標の濃度よりも高い濃度まで濃縮して過剰濃縮液とし、過剰濃縮液の濃度を測定し、過剰濃縮液を目標の濃度の溶液とするために必要な希釈溶媒の添加量を求め、該添加量の希釈溶媒を過剰濃縮液に加え、目標の濃度の溶液を得る。 （もっと読む）

【課題】目標の濃度になるまで溶液を濃縮する工程を有する溶液の製造方法において、目標の濃度からの濃度のずれが少ない溶液を得ることができる製造方法、目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体溶液、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】目標の濃度になるまで溶液を濃縮する工程を有する溶液の製造方法において、溶液の屈折率が、あらかじめ測定された、目標の濃度における溶液の屈折率の±０．１％となるまで濃縮を行う。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、該パターン形成方法に好適に用いられる金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法を提供する。
【解決手段】支持体１上に第一の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜２を形成し、第一のレジスト膜２を選択的に露光し、現像して複数のレジストパターン３を形成し、レジストパターン３の表面にそれぞれ金属酸化物膜からなる被覆膜４を形成して複数の被覆パターン５を形成し、該被覆パターン５が形成された支持体１上に第二の化学増幅型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜６を形成し、第二のレジスト膜６を選択的に露光し、現像することにより、複数の被覆パターン５と、第二のレジスト膜６に形成されたレジストパターン７とからなるパターンを支持体上に形成する。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高いパターンを安定して形成することのできる、パターンの形成方法、及び液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】機能液を基板Ｐ上に配置することによりパターンを形成する方法である。基板Ｐ上にバンク膜Ｂ_０を形成し、バンク膜Ｂ_０の表面に撥液処理Ｆを施す。そして、撥液処理Ｆが施されたバンク膜Ｂ_０をパターニングし、バンクを形成する。バンクに区画されたパターン形成領域の表面の水酸基を、アルキル化する表面改質処理を施す。表面改質処理を行った後、パターン形成領域に機能液を配置し、機能液を焼成して、パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】超臨界流体を用いた処理により、表面に硬化層が形成されたレジストパターンを完全に除去することが可能なレジストパターンの除去方法を提供する。
【解決手段】表面が硬化層Ａで覆われたレジストパターン１０１を基板１００上から除去する方法である。先ず第１工程では、硬化層Ａで覆われたレジスト成分１０１ａを溶出させずに硬化層Ａと基板１００とが接する部分において硬化層Ａと基板１００との密着性を弱める作用を有する転化剤を含む超臨界流体を用いた処理を行う。次の第２工程では、レジスト成分１０１ａを溶解する有機溶剤を含む超臨界流体を用いた処理を行うことにより、硬化層Ａを基板１００上からリフトオフ除去する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、フォトレジスト樹脂組成物の樹脂成分として、良好なレジスト性能を達成するために、しかも工業的な生産において効果的な樹脂の精製方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、酸の作用によりアルカリ可溶になるフォトレジスト用樹脂を溶解している１０リットル以上の重合溶液を貧溶媒に添加して沈殿させる沈殿工程において、重合溶液を攪拌されている貧溶媒に添加するための沈殿槽に取り付けられているノズルの内径が６ｍｍφ以下であり、しかも２つ以上のノズルが設置され、それぞれのノズルの方向が異方向である事を特徴としたノズルから重合液を貧溶媒中へ添加し樹脂を沈殿させるフォトレジスト樹脂の沈殿方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、自動処理装置をクリーニングするための方法に関する。
【解決手段】この装置は、レリーフ面を形成するために感光要素を熱処理する装置である。この装置の中の１つまたは複数の接触可能面は、熱処理中に感光要素から付着した残留物または他の材料、および／あるいは周囲環境からの異物によって汚染される。支持体上に接着剤層を有するクリーニング要素は、接触可能面上の汚染物質を除去しまたはそのレベルを低下させる。この方法は、接着剤層が接触可能面と接触し、それによって少なくとも１種の汚染物質を接着剤層上へ移動させるように、クリーニング要素を装置に通すステップを含む。 （もっと読む）

【課題】機上現像型の平版印刷版原版についても、容易かつ迅速に製造欠陥を検出できる平版印刷版原版の欠陥検査方法の提供。
【解決手段】支持体上に画像記録層を有し、印刷インキおよび／または湿し水を供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版の欠陥検査方法であって、平版印刷版原版を加熱する加熱工程と、加熱した平版印刷版原版を、印刷機に装着することなく現像する現像工程と、現像した平版印刷版原版の画像記録層において画像形成していない部分を検出する欠陥検出工程とを有することを特徴とする平版印刷版原版の欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】製造工程のずれに起因する平版印刷版原版表面の傷発生を抑制し、セッター搬送性が良好であり、製造する際に合紙除去工程が必要なく、エッジ汚れが発生し難い平版印刷版原版、及びその製造時においてズレの発生が抑制された平版印刷版原版積層体を提供する。
【解決手段】親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む中間層、フィラーを含む保護層をこの順に積層した塗工ウェブを、該保護層表面に合紙を介在させずに裁断部材で板厚方向に挟み付けて裁断して製造されたことを特徴とする平版印刷版原版３０、及び前記平版印刷版原版３０を、アルミニウム支持体裏面側最表面と保護層側最表面とを直接接触させて、複数枚積層してなることを特徴とする平版印刷版原版積層体。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる書き込みが可能であり、感光層の重合阻害が抑制されると共に、合紙を介在させずに複数枚を直接積層した場合にも、当該積層に起因する感光層側の最表面とそれに隣接する支持体の裏面との接着及びこすりキズの発生を抑制しうる平版印刷版原版、及び平版印刷版原版の積層体を提供すること。
【解決手段】支持体上に、重合性化合物を含む感光層と、酸素遮断性層と、フィラー（好ましくは有機樹脂微粒子）を含む保護層と、を順次積層してなることを特徴とする平版印刷版原版、および、該平版印刷版原版を、感光層側の最表面と支持体裏面とを直接接触させて複数枚積層することを特徴とする平版印刷版原版の積層体。 （もっと読む）

【課題】重合体、特に半導体製造工程で使用される重合体を精製する精製工程において当該重合体の精製用として好適に使用でき、当該精製工程により得られる重合体を用いて形成されるレジストパターンにおけるディフェクトの発生を低減できる重合体を提供する。
【解決手段】溶解度パラメータが１７〜２０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にあり、かつ比表面積が０．００５〜１ｍ^２／ｇの範囲にある重合体（Ｌ）。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーによる書き込みが可能であり、感光層の重合阻害を抑制し、現像除去性に優れると共に、合紙を介在させずに複数枚積層した場合にも、保護層表面のキズの発生が抑制された平版印刷版原版及び平版印刷版原版積層体を提供する。
【解決手段】親水性を示すアルミニウム支持体表面に、感光層と、水溶性樹脂を含む中間層と、非水溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含む保護層と、を順次積層してなることを特徴とする平版印刷版原版、及び前記平版印刷版原版を、アルミニウム支持体裏面側最表面と保護層側最表面とを直接接触させて、複数枚積層してなることを特徴とする平版印刷版原版積層体。 （もっと読む）

【課題】 共振周波数のドリフト量が小さく、かつ速やかに安定する、新規なＱＣＭ装置を提供すること。
【解決手段】 ＱＣＭ基板、該基板を保持するＱＣＭ基板ホルダー、該ＱＣＭ基板ホルダーを取り囲む金属製ブロック、および少なくとも一部は金属製ブロックの内部に形成された液体を通すことができる流路を有し、該流路に形成された開口部を通してブロックとほぼ同じ温度にされた液体が、ＱＣＭ基板上のＱＣＭ回路ではない位置に滴下される、ＱＣＭ装置。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、絶縁信頼性に優れ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１の吸収が、０．０２未満であるパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いるパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板である。 （もっと読む）