パターン形成材料、パターン形成方法、及びプリント基板

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつ、絶縁信頼性に優れ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１の吸収が、０．０２未満であるパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いるパターン形成方法、及び前記パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤、を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を、基板の表面に積層した後、該感光層に対して露光を少なくとも行うことにより形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１のスペクトル吸収が、０．０２未満であることを特徴とするパターン形成材料。
【請求項２】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項１に記載のパターン形成材料。
【請求項３】
バインダーが、エポキシアクリレート化合物の少なくとも１種と、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種とから選択される少なくとも１種を含む請求項１から２のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項４】
重合性化合物が、ウレタン基及びアリール基の少なくともいずれかを有するモノマーを含む請求項１から３のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項５】
光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、メタロセン類、及びアシルホスフィンオキシド化合物から選択される少なくとも１種を含む請求項１から４のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項６】
熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも１種である請求項１から５のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項７】
支持体と、該支持体上に形成された感光層とを少なくとも有する請求項１から６のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項８】
支持体上に、熱可塑性樹脂層と感光層とをこの順に有する請求項７に記載のパターン形成材料。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載のパターン形成材料における感光層を、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層した後、該感光層に対して露光を行う工程を少なくとも含み、該工程により形成されたパターンの膜厚１μｍ当たりの８１０ｃｍ^−１のスペクトル吸収が、０．０２未満であることを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１０】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項９に記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である請求項９から１０のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１２】
露光が、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる請求項９から１１のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１３】
露光が行われた後、感光層の現像を行い、該現像が行われた後、再露光を行う請求項９から１２のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１４】
再露光時の露光エネルギー量が、３０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２である請求項１３に記載のパターン形成方法。
【請求項１５】
露光が行われた後、感光層の現像を行い、該現像が行われた後、１４０℃以上で３０分間以上加熱を行う請求項９から１４のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１６】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項１３から１５のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項１７】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項１６に記載のパターン形成方法。
【請求項１８】
請求項９から１７のいずれかに記載のパターン形成方法により、永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。

【図２５】